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創(chuàng)建者:王靖雯 創(chuàng)建時間:2023-03-07
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為了進(jìn)一步提高電容值,MIM電容器通常由三塊板構(gòu)成,其中兩層是標(biāo)準(zhǔn)制造工藝的金屬層(通常是最上層),中間是一個特殊金屬層。這種獨(dú)特的布局使MIM電容器能夠?qū)崿F(xiàn)更高的電容密度,同時保持絕緣介電材料的穩(wěn)定性能和低漏電優(yōu)勢。
過程中,工程師會使用結(jié)構(gòu)、運(yùn)動學(xué)、計算流體力學(xué)(CFD)和熱仿真軟件包,例如Ansys Mechanical結(jié)構(gòu)有限元分析軟件,該軟件利用有限元分析(FEA)方法對機(jī)械設(shè)計的各個方面進(jìn)行仿真。他們施加力、加速度、沖擊、振動和溫度變化等環(huán)境載荷,并計算裝配體的響應(yīng)情況。
本文原刊登于Ansys.com:《The Difference Between MOM, MIM, and MOS Capacitors》 作者: Akanksha Soni | Ansys產(chǎn)品營銷經(jīng)理 編輯整理:Rodger Luo | Ansys 首席應(yīng)用工程師 從最基本的層面講,所有電容器都是通過由介電(絕緣)材料隔開的電導(dǎo)體(極板)來儲存能量的。
摘要: 本文針對300mm鎂合金溫軋機(jī)支承輥開展有限元分析,采用ANSYS軟件(經(jīng)典界面)。對支承輥進(jìn)行靜強(qiáng)度分析,結(jié)果表明:支承輥最大變形量為0.467×10^-4mm,滿足板形誤差要求;最大Von Mises應(yīng)力為67.6MPa,低于材料許用應(yīng)力(140~150MPa)。分析發(fā)現(xiàn)支承輥中間位置變形最大,軸頸與輥身接觸處應(yīng)力集中明顯。
在設(shè)計的中間階段和signoff階段,可以對整個IC系統(tǒng)進(jìn)行電源完整性分析,以確保PDN設(shè)計滿足目標(biāo)阻抗要求。
大田韓國科學(xué)技術(shù)院和Ansys正在制定計算流體力學(xué)(CFD)方法和最佳實踐,以利用大渦模擬仿真(LES)預(yù)測氫甲烷混合火焰的火焰結(jié)構(gòu)。 韓國科學(xué)技術(shù)院燃燒動力學(xué)與診斷實驗室開展的研究 KAIST CDDL正在研究重型燃?xì)廨啓C(jī)燃燒室、飛行器發(fā)動機(jī)加力燃燒室及雙推進(jìn)劑液體火箭發(fā)動機(jī)的低頻及高頻燃燒不穩(wěn)定性。
在此案例中,由流動波前時間可以看出熔膠充填產(chǎn)品上半部時會由左右兩側(cè)向中間匯集。流動行為影響表層纖維配向,使得中間波前交接處的纖維主要沿Z方向排列,兩側(cè)纖維則沿Y方向排列。而一般而言,因為含纖材料的非等向性,容易導(dǎo)致此處的強(qiáng)度衰減。 步驟2 切換至FEA接口頁簽,并點選FEA接口開啟精靈。指定應(yīng)力求解器與輸出網(wǎng)格擋。
圖2:微環(huán)調(diào)制器結(jié)構(gòu)示意圖 圖3:在Lumerical CHARGE中進(jìn)行電學(xué)仿真 如圖2、3為一個一個基于p-i-n結(jié)的硅基微環(huán)電光調(diào)制器,微環(huán)部分由p-i-n脊形波導(dǎo)構(gòu)成,中間部分由本征硅作為波導(dǎo),兩邊分別為p型和n型重?fù)诫s區(qū)域,通過載流子注入機(jī)制實現(xiàn)電壓對載流子濃度的調(diào)制。
在十字結(jié)構(gòu)中,上層1根和中間3根波導(dǎo)都為 波導(dǎo),底層1根波導(dǎo)為Si波導(dǎo)。此異質(zhì)多芯波導(dǎo)端面耦合器得益于底層為硅波導(dǎo)的設(shè)計方式,簡化了制造流程,降低了制造成本。從左到右看,光場先通過 絕熱劈尖,從Si波導(dǎo)耦合到單根 波導(dǎo),再由 -十字波導(dǎo)劈尖轉(zhuǎn)移至十字型波導(dǎo)端面 ,并與光纖耦合,圖1(c)展示了十字型異質(zhì)多芯波導(dǎo)的模場分布。