ansys函數編輯數組
關注創建者：王靖雯 創建時間：2023-03-07
ansys函數編輯數組的視頻教程
ansys函數編輯數組的實例教程
表數組賦值是通過行和列的下標進行的，如果不賦值，程序自動賦最小值，表允許通過線性差值計算表數組中以定義元素之間的任意值！
注意：1）每個面的0，0元素值為該面的下標，若表為一二維表，只有一個面則無需賦值
2）0行0列的下標只有在差只是才會使用
顯示（list）與數組規則相同注意imax為1開頭，不包括0行0列。
對于表賦值建立建議使用GUI。若用APDL則為A(0,0,1)=….A(0,1,1)=…A(0,N,1)=…
可直接用*STATUS，TABLE
1.曲線圖顯示表參數的列矢量：與ARRAY一樣使用*VPLOT,二者的差別是table類型數組的數據是有序的，采用曲線進行表示
2.表差值及表載荷應用9
表參數最大的特點就是提供按行列面的下標進行線性差值的功能。可以用于定義隨某一變量（如時間）變化的邊界條件載荷，相應譜曲線，壓力曲線，材料溫度曲線，磁性材料的B-H曲線。
五．使用函數加載器與編輯器
使用函數加載的必要性就不用多說了，直接開始教程：
函數編輯器定義一個函數的一般步驟：
1.打開函數編輯器，選擇菜單路徑utility——parameter——function
2.選擇函數類型：單個方程還是多值函數（分段函數），如果是后者，必須鍵入函數變量名，即狀態控制變量，同時六狀態也被激活。
3.選擇角度單位，度還是弧度。該選項僅決定方程如何被運算而不影響*AFUNC的設置
4.定義方程：利用基本變量，方程變量和按鍵定義單個方程表達式，或者定義最多6個不同定義域的方程表達式。
1)點擊regime1選項卡，首先指定狀態控制變量的最大和最小取值區間，然后定義該取值區間對應的方程表達式，可將每個狀態控制下的方程儲存起來，在其他狀態控制中重復使用。
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打開多重結構編輯器（位于編輯器 (Editors) 組中的多重結構編輯器 (Multi-Configuration Editor)）并使用插入結構 (Insert Configuration) 按鈕插入一個新的結構（或在鍵盤上點擊Ctrl+Shift+Ins）。
2.雙擊“主頁”選項卡下“應用程序”組中的“庫管理器”圖標，打開“庫管理器”選項卡。
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第二層級：事件驅動視覺。 傳統幀式成像以固定頻率輸出完整圖像，大量冗余數據被重復采集。
HOE的相位結構（聚焦透鏡相位+軸錐鏡相位）以及加工文件預覽與導出
為了探查長焦深Bessel光束的縱向分布，需要用到Parameter Run的功能，原理是改變探測器的位置，然后保存中心的數據，將這些數據組成一個二維的數組。所以這里需要將探測器的采樣定義為N×1的格式，在這個N為512。如何去更改探測器的采樣呢？感興趣的小伙伴可以關注黌論網校的案例視頻。
圖4.
所需的優化函數已經在當前文件中定義，打開評價函數編輯器如下圖所示：
用操作數5和8分別用于最大化空間均勻性和總光通量，用操作數10和11來控制光強分布的質心，用操作數13用來控制光強分布的均方根半徑。希望輸出光線不是完全平行的，而是限制在一定的視角范圍內，因此，指定了30°作為目標視角。
一個簡單而近似的方法就是使用三維布局圖中的測量 ( Measure )工具直接測量：
更復雜和精確的方法是使用操作數。為此，打開評價函數編輯器 ( Merit Function Editor )，輸入以下內容并更新窗口（點擊紅色箭頭所指按鈕）：
通過REAY操作數可以得到表面9（探測器）上實際光線的y坐標。
本文提供了設計共聚焦顯微鏡的流程以及如何建立用于優化的評價函數，還有如何利用轉換為 NSC 組工具將整個序列模式系統轉換為非序列模式。
引言
共聚焦顯微鏡能獲得高分辨率三維圖像，在生命科學和半導體行業里地位重要。為了獲得高分辨率，共聚焦顯微鏡的設計分為：從激光光源到顯微物鏡，和從顯微物鏡到探測器兩部分。
本文原刊登于Ansys.com：《Ansys AVxcelerate Sensors Software Leverages NI-RDMA for Hardware-in-the-loop (HiL) Testing》
作者：Lionel Bennes | Ansys高級產品經理
編輯整理：劉宏鯤 | Ansys高級應用工程師
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