4.3 光柵材料與UV映射配置 自定義光學材料：分別創建輸入、輸出耦合光柵專用材料，綁定光柵插件文件與參數文件，配置紋理貼圖基礎參數； UV映射定向：新建UV映射坐標系，精準匹配光柵排布方向，確保衍射光路傳播角度符合設計值； 漸變效率優化：在輸出耦合面添加漸變蒙版紋理，通過梯度亮度調節，提升AR HUD全屏成像亮度均勻性； 圖4：波導光柵屬性配置界面 4.4

通過設置篩選條件（例如值范圍或單元百分比），用戶可以根據應力或單元力等具體參數快速確定關鍵區域。該工具以圖和詳細匯總表的形式直觀展示結果，便于用戶理解和分析峰值行為。 主要特性： 根據載荷或檢查結果確定峰值區域。 按自定義范圍、絕對值或單元百分比過濾峰值。 使用可自定義的可視化選項，生成特定區域的繪圖，例如跨區域的基本值或平均值。

Zemax OpticStudio 的版本必須為 Ansys Zemax OpticStudio Premium 或 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise。不支持 Legacy Zemax OpticStudio。Lease 和 Paid-Up 兩類 Ansys Zemax 許可證均可用于使用該工具。

正如預期的那樣，根據測量值，Surface Sag 圖在表面中心顯示一個谷值。 為了仔細檢查數值結果，我們可以使用 Wavefront Map 分析。由于它是一個雙通模型，我們預計峰谷 (0.306 waves) 和 RMS (0.063 waves) 波前誤差值將與傳輸中報告的測量結果相比翻倍。

連續纖維（左圖）和短纖維（右圖）周期性單胞 二、纖維空間分布算法 插件內置了兩種空間拓撲分布方式： 正交約束排布：控制纖維沿指定的X、Y或Z方向對齊，適用于單向板類RVE的構建； 三維隨機分布（Random 3D）：采用球面投影與隨機變量正弦變換生成取向向量，保證空間方向無統計偏置。

分析步采用顯式動力學，時間周期默認 0.01 s，場輸出包含應力 S、應變 E、位移 U、損傷變量 SDEG 和 DMICRT、狀態變量 SDV 及 STATUS，歷史輸出請求接觸面法向力 CFN3，便于后處理中快讀提取力?時間/位移曲線。

插入的command命令如下，用戶需要注意自己更改部分變量值和膠層NS名稱； 通過以上方式即可粗略完成膠層凝固過程變形仿真——使用降溫等效膠層凝固體積收縮+降溫體積收縮； 用戶需要實際的試驗測試結果，對標驗證輸入參數： TotalChemShrinkage = 0.002 !

彈性模量 70 GPa 泊松比 0.33 密度 2700 kg/m3 03 ANSYS Workbench 分析流程（詳細步驟） 步驟 1：創建靜力學分析項目 啟動 ANSYS

圖5 （a）帶有隨機掩模的成像系統；（b）中心場的MTF曲線 仿真關鍵結論 Zemax的仿真結果顯示：當隨機掩模光柵的像素尺寸為0.2mm時，其MTF曲線在空間頻率低于40lp/mm時與衍射極限高度重合，即使在100lp/mm的高空間頻率下，MTF值仍大于0.61。而100lp/mm的空間頻率對應20°×15°視野下1600×1200的分辨率，完全滿足AR近眼顯示的視覺要求。

5.右鍵單擊ONA并選擇“顯示結果”來查看結果。可視化窗口中將顯示1x2MMI功率增益頻譜圖。 模型設置 本示例工作流程中使用了以下重要模型設置。 在MODE模式下，Layer Builder使用來自工藝技術文件的圖層位置、幾何形狀和variation數據，以及來自GDS文件的圖層和幾何形狀，共同構建3D結構。