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創建者：CFD仿真工作室 創建時間：2021-01-30
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二、取樣方法 在鉆進方法、取土器的結構和規格合乎要求的前提下，采取何種方法把土樣自孔底取上來而不擾動（或盡少擾動）其天然結構和狀態的問題，也是工程地質勘探中必需特別注意的事項，應根據不同地層、不同設備條件來選擇，常見的有： 1、擊入法 按錘擊次數可分為輕錘多擊和重錘少擊兩種方法。 ① 輕錘多擊法。這種方法是用人力或機械操縱落錘，錘擊次數多，其速度及下擊力往往不均勻，鉆桿的擺動也大，故對土試樣的擾動較大，一般不采用。 ② 重錘少擊法。這種方法是用重錘以少擊快速將取土器擊入土中。根據取樣試驗比較，重錘少擊比輕錘多擊取土質量好，而又以重錘一次擊入更好 。 按錘的位置可分為上擊法和下擊法兩種。 ① 上擊法。在鉆孔以上（孔口外）用落錘打擊鉆桿而擊入取土器的稱上擊法。采用上擊法取樣時，在落錘和鉆桿自重作用下，鉆桿易產生縱向彎曲。由于鉆桿彎曲能使鉆桿振動而吸收部分沖擊能量，使鉆桿與孔壁產生摩擦而增大阻力，引起錘擊數增加，故上擊法取樣不如下擊法取樣優越。 ② 下擊法。下擊法是通過鉆桿或鋼絲繩將重錘或加重桿在鉆孔內部直接錘擊取土器取樣。采用下擊法能使沖擊能量集中在取土器上，避免了鉆桿引起的能量消耗，有利于提高取樣質量。 2、壓入法 ① 慢速壓入法 慢速壓入法是用杠桿、千斤頂、鉆機手把等加壓，取土器進入土層的過程不是連續的。慢速壓入法取樣對土試樣有一定程度的擾動，但擾動程度較輕錘多擊法要輕。
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光源位置和旋轉 在幾何結構文件夾(geomertry)下右擊，選擇新建透鏡(lens)。如下如設置半徑10，厚度2，雙面曲率為0，在原點處，并且把方解石材料的套用在該透鏡上。如下圖所示。 圖8. 新建方解石平板 在幾何結構文件夾下(geometry)下右擊，新建基本元件(create element primitive)，平面(plane)，半長寬分別是10單位，旋轉 -45度，向z軸負方向平移5個單位。把偏振鍍膜套用在偏振片上。 圖9. 新建偏振片 同樣步驟建立接收面，半長寬分別12，位置在(0,0,10)處。 圖10. 接收面 設立分析面，并且套用在接收面上。這里分析面對尺寸設置為可以自動匹配到數據范圍。 圖11. 分析面 到這里設置已經完畢，整個系統看起來像下圖的樣子，也可以到 Edit/Edit View Multiple Surfaces 下查看各個表面的材料，鍍膜，光線控制等性質。 圖12. 整體系統 圖13. 各個表面性質 現在定性討論一下干涉的效果。因為光源與偏振片的偏振方向垂直，所以只有偏振方向改變的光線能夠通過。光線通過單軸晶體時，分為o光(ordinary)和e光(extraordinary)，其中o光電場分量與主平面（光線與光軸組成的平面）垂直，e光電場分量與主平面平行，在晶體內o光和e光的速度一般會不同（與光軸和光線方向有關），即等效折射率不同，所以兩種光分開一個很小的角度，而且傳播同樣距離會有一個相位差。由于o光e光偏振角度不同，并不能直接相干，但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的，所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。
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光源位置和旋轉 在幾何結構文件夾(geomertry)下右擊，選擇新建透鏡(lens)。如下如設置半徑10，厚度2，雙面曲率為0，在原點處，并且把方解石材料的套用在該透鏡上。如下圖所示。 圖8. 新建方解石平板 在幾何結構文件夾下(geometry)下右擊，新建基本元件(create element primitive)，平面(plane)，半長寬分別是10單位，旋轉 -45度，向z軸負方向平移5個單位。把偏振鍍膜套用在偏振片上。 圖9. 新建偏振片 同樣步驟建立接收面，半長寬分別12，位置在(0,0,10)處。 圖10. 接收面 設立分析面，并且套用在接收面上。這里分析面對尺寸設置為可以自動匹配到數據范圍。 圖11. 分析面 到這里設置已經完畢，整個系統看起來像下圖的樣子，也可以到 Edit/Edit View Multiple Surfaces 下查看各個表面的材料，鍍膜，光線控制等性質。 圖12. 整體系統 圖13. 各個表面性質 現在定性討論一下干涉的效果。因為光源與偏振片的偏振方向垂直，所以只有偏振方向改變的光線能夠通過。光線通過單軸晶體時，分為o光(ordinary)和e光(extraordinary)，其中o光電場分量與主平面（光線與光軸組成的平面）垂直，e光電場分量與主平面平行，在晶體內o光和e光的速度一般會不同（與光軸和光線方向有關），即等效折射率不同，所以兩種光分開一個很小的角度，而且傳播同樣距離會有一個相位差。由于o光e光偏振角度不同，并不能直接相干，但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。
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光源相干性設置 圖6.光源偏振設置 圖7.光源位置和旋轉 在幾何結構文件夾(geomertry)下右擊，選擇新建透鏡(lens)。如下如設置半徑10，厚度2，雙面曲率為0，在原點處，并且把方解石材料的套用在該透鏡上。如下圖所示。 圖8.新建方解石平板 在幾何結構文件夾下(geometry)下右擊，新建基本元件(create element primitive)，平面(plane)，半長寬分別是10單位，旋轉 -45度，向z軸負方向平移5個單位。把偏振鍍膜套用在偏振片上。 圖9.新建偏振片 同樣步驟建立接收面，半長寬分別12，位置在(0,0,10)處。 圖10.接收面 設立分析面，并且套用在接收面上。這里分析面對尺寸設置為可以自動匹配到數據范圍。 圖11.分析面 到這里設置已經完畢，整個系統看起來像下圖的樣子，也可以到 Edit/Edit View Multiple Surfaces 下查看各個表面的材料，鍍膜，光線控制等性質。 圖12.整體系統 圖13.各個表面性質 現在定性討論一下干涉的效果。因為光源與偏振片的偏振方向垂直，所以只有偏振方向改變的光線能夠通過。光線通過單軸晶體時，分為o光(ordinary)和e光(extraordinary)，其中o光電場分量與主平面（光線與光軸組成的平面）垂直，e光電場分量與主平面平行，在晶體內o光和e光的速度一般會不同（與光軸和光線方向有關），即等效折射率不同，所以兩種光分開一個很小的角度，而且傳播同樣距離會有一個相位差。由于o光e光偏振角度不同，并不能直接相干，但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。
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光源相干性設置 圖6.光源偏振設置 圖7.光源位置和旋轉 在幾何結構文件夾(geomertry)下右擊，選擇新建透鏡(lens)。如下如設置半徑10，厚度2，雙面曲率為0，在原點處，并且把方解石材料的套用在該透鏡上。如下圖所示。
光源相干性設置 圖6.光源偏振設置 圖7.光源位置和旋轉 在幾何結構文件夾(geomertry)下右擊，選擇新建透鏡(lens)。如下如設置半徑10，厚度2，雙面曲率為0，在原點處，并且把方解石材料的套用在該透鏡上。如下圖所示。
光源相干性設置 圖6.光源偏振設置 圖7.光源位置和旋轉 在幾何結構文件夾(geomertry)下右擊，選擇新建透鏡(lens)。如下如設置半徑10，厚度2，雙面曲率為0，在原點處，并且把方解石材料的套用在該透鏡上。如下圖所示。
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圖8.新建方解石平板 在幾何結構文件夾下(geometry)下右擊，新建基本元件(create element primitive)，平面(plane)，半長寬分別是10單位，旋轉 -45度，向z軸負方向平移5個單位。把偏振鍍膜套用在偏振片上。
光源位置和旋轉 在幾何結構文件夾(geomertry)下右擊，選擇新建透鏡(lens)。如下如設置半徑10，厚度2，雙面曲率為0，在原點處，并且把方解石材料的套用在該透鏡上。如下圖所示。 圖8.
過 去幾十年，基于大量試驗數據驗證的引入應力三軸 度影響的 JC(Johnson Cook)斷裂準則在模擬高速沖 擊下金屬的失效形式和彈道性能時，能取得不錯的 預報精度[6-7]。然而，近些年一些學者從宏觀和微觀 層面都發現[8-9]，材料的斷裂應變不僅與應力三軸度 有關，還受 Lode 角的影響。