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關注創建者:Ansys中國 創建時間:2020-08-03
Lumerical的視頻教程
使用Ansys Lumerical 設計III-V電吸收調制器
他于2019年加入臺灣Lumerical,現為臺灣Ansys Lumerical應用工程師,主要負責亞太地區技術支持、協助客戶使用Lumerical產品進行研發工作。在加入Lumerical之前,他有多年光學仿真工具使用經驗,并曾于日本IBM研究所、臺灣TSMC、荷蘭ASML等公司之研發部門任職,從事硅光元件、微影制程、以及極紫外光刻機開發。
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Ansys Lumerical光子集成電路PIC 有源器件的設計與仿真
他于2019年加入臺灣Lumerical,現為臺灣Ansys Lumerical應用工程師,主要負責亞太地區技術支持、協助客戶使用Lumerical產品進行研發工作。在加入Lumerical之前,他有多年光學仿真工具使用經驗,并曾于日本IBM研究所、臺灣TSMC、荷蘭ASML等公司之研發部門任職,從事硅光元件、微影制程、以及極紫外光刻機開發。
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使用Ansys Lumerical 和SPEOS設計顯示器的新流程
在2020年加入Ansys/Lumerical擔任應用工程師,熟悉FDTD和MODE仿真工具。主要負責亞太地區客戶的技術支持,幫助客戶排除問題以及實現仿真目標,同時也協助介紹和推廣公司產品,不定期參加或協助舉辦研討會,分享光學相關領域的產品應用實例。
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Lumerical的實例教程
引言
本文演示了一種將Synopsys OptoCompiler中開發的無源光子器件版圖導入Lumerical產品進行光路仿真的工作流程。該工作流程利用Ansys Lumerical MODE中的EME(特征模擴展)求解器進行光學仿真,利用Ansys Lumerical CML Compiler生成緊湊模型,并利用Ansys Lumerical INTERCONNECT進行光子電路設計和仿真。
此工作流程僅使用Synopsys產品即可提供一套內部解決方案,以應對光子集成電路設計中的復雜挑戰。在光子集成電路設計中,通常需要使用不同的工具來處理版圖設計、器件仿真和線路仿真。使用此工作流程,您可以在OptoCompiler中構建器件,使用Lumerical器件設計工具運行多物理場仿真,并利用CML Compiler構建用于INTERCONNECT線路仿真的模型,從而在版圖和設計之間架起一座強大的橋梁。
本文以OptoCompiler reference optical SOI(絕緣體上硅)PDK(工藝開發套件)中的無源1x2MMI(多模干涉儀)光子器件為例,展示了該工作流程。當然,您也可以根據具體應用場景,將此工作流程調整為使用您選擇的自定義無源光子器件和PDK。
所需許可證
Synopsys OptoCompiler license
Ansys Lumerical MODE license
Ansys Lumerical CML Compiler license
Ansys Lumerical INTERCONNECT license
壓縮包內容
本文附帶一個包含示例1x2MMI的軟件包,該示例來自OptoCompiler reference optical SOI PDK。
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展開 翻譯:莎益博-董冠佑
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展開 要查看如何在Speos中使用此JSON文件的范例,請參閱Zemax Lumerical Speos 聯合實現衍射光波導AR系統設計仿真。
參考文獻:
[1] Jonathan S. Maikisch and Thomas K. Gaylord, "Optimum parallel-face slanted surface-relief gratings," Appl. Opt. 46, 3674-3681 (2007)
翻譯:梅肯斯姆-李星
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展開 Ansys Lumerical 2026 R1 三大核心功能
OptoCompiler&Lumerical
協同工作流
功能描述:
Synopsys OptoCompiler與Lumerical FDTD、MODE及Multiphysics之間的直接橋接
Lumerical INTERCONNECT求解器集成至Synopsys OptoCompiler
利用CML Compiler為PrimeSim生成光子VA模型
解決的問題:通光子器件設計
行業:電信、半導體、高科技
Synopsys/Ansys產品工作流:
Synopsys OptoCompiler,Lumerical FDTD,Lumerical MODE,Lumerical Multiphysics,Lumerical INTERCONNECT and Lumerical CML Compiler
目標受眾:光電系統設計師、光子集成電路設計師、器件設計師
Sentaurus TCAD-Lumerical FDTD
工作流
功能描述:將TCAD中的精確結構導入Lumerical FDTD,運行光學仿真,隨后將FDTD結果導出至SDevice,用于CMOS圖像傳感器設計。
解決的問題:考慮刻蝕偏差及厚度變異性的幾何形狀一致性傳播,應用于光學FDTD仿真及電-熱-光耦合。
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Lumerical的最新內容
Ansys光學仿真套件構建了Zemax OpticStudio+Lumerical +Speos一體化設計仿工作流,覆蓋投影鏡頭設計、亞波長光柵建模、系統級光學集成分析全流程。
其中Ansys Speos作為系統級仿真核心工具,可實現多軟件數據無縫對接、三維環境光學仿真、人眼視覺感知評估,為車載AR HUD光學性能優化、成像質量校驗、雜散光抑制提供專業仿真支撐。
Ansys Lumerical套件、Ansys Speos軟件和Ansys Zemax OpticStudio軟件都可以對衍射光學元件進行仿真。在Lumerical套件中,可以使用FDTD和RCWA求解器對單個組件進行設計,而在OpticStudio軟件中,可以對DOE的性能進行分析。這些軟件包使您能夠同時對單個透鏡或多個透鏡進行仿真。
另外,我們基于Ansys Lumerical FDTD軟件及波導邊界曲線伴隨法逆向設計,優化實現了任意角度X型交叉等器件,器件體積極致縮小。
在 OpticStudio 中所做的任何修改,都可以自動觸發 Lumerical 針對新的光柵結構計算更新后的數據,并返回新結果,無需進行數據導入和導出。
3.優化能力:用戶可以在 Lumerical 中方便地定義自定義參數化模型,并結合整個系統的性能對光柵形狀進行優化。
支持材料
小結
這篇文章介紹了 Lumerical 中 RCWA 求解器,其中包括 RCWA 求解器的基本原理、使用方法、關鍵設置(如傳播方向、偏振、反向傳播選項)、適用場景(對比 FDTD 和 STACK),以及它對各向異性和有損材料的支持與限制。
引言
采用集總電極結構的一般電光調制器面臨著這樣的局限:器件的帶寬受RC常數限制,而更高的運行速度需要更短的器件長度,這同樣受到RC-lump的限制。采用行波電極結構具有顯著優勢,可消除集總電極設計帶來的限制。本節介紹了采用行波電極結構的調制器并對其進行了表征。為了仿真載流子的分布,使用CHARGE模塊對電荷和靜電勢進行自洽仿真。隨后,MODE模塊將利用載流子濃度信息,計算材料折射率實部和虛部的相應變化
面向 COUPE 的設計使能涵蓋 Ansys Zemax OpticStudio? 的光路徑仿真、Ansys Lumerical? 的光子器件仿真、HFSS?IC Pro 的電磁提取,以及 RedHawk?SC Electrothermal 的熱—電協同仿真。這些工具協同工作,支持高帶寬數據中心互連所需的共封裝光學解決方案設計。
關鍵詞:斯格明子;SPP波;光學斯格明子;相位調控
本工作基于表面等離激元(SPP)場,設計六邊形金屬狹縫結構實現光學斯格明子的動態調控,通過時域有限差分法(FDTD)仿真,驗證入射光相位調控可精準改變光學斯格明子的形貌與位置,為拓撲光學結構的可控構建提供仿真依據。
仿真來源
本工作來源于Dynamic tailoring of an optical skyrmion lattice
今日16:00,Ansys官方『Lumerical VCSEL全新求解器功能詳解』研討會將介紹 Lumerical 用于垂直腔面發射激光器設計的新型求解器。
當使用reflective_polarizer.json作為反射偏振器表面時,反射率結果應與Lumerical STACK 求解器的行為一致:在使用均勻層時,520–580nm波長范圍內的反射率應接近100%。