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關(guān)注創(chuàng)建者:墨光科技 創(chuàng)建時(shí)間:2020-04-13

冷反射的實(shí)例教程
我們希望冷反射彌散斑比那要大得多。
RGHOST鬼像分析
在Command Window中輸入MGH
按上圖數(shù)據(jù),點(diǎn)擊RGHOST
優(yōu)化表面3的冷反射
點(diǎn)擊 按鈕打開(kāi)C30M2.MAC
點(diǎn)擊 按鈕
在Command Window中輸入NAR
透鏡得到了很大改善,表面 3 上的冷反射達(dá)到了我們的目標(biāo)。然而,現(xiàn)在來(lái)自表面 7 的冷反射低于我們的極限。
優(yōu)化表面7的冷反射
在AANT文件中加入命令LLL .23 1 .1 A NAR 7
點(diǎn)擊 按鈕運(yùn)行C30M2
在Command Window中輸入NAR
總結(jié)
本例講述了什么是冷反射,NAR透鏡冷反射特性,GHPLOT不良冷反射透鏡圖,PSPRD衍射點(diǎn)擴(kuò)散圖,RGHOST鬼像分析,優(yōu)化冷反射。
展開(kāi) 我們希望冷反射彌散斑比那要大得多。
RGHOST鬼像分析
在Command Window中輸入MGH
按上圖數(shù)據(jù),點(diǎn)擊RGHOST
優(yōu)化表面3的冷反射
點(diǎn)擊 按鈕打開(kāi)C30M2.MAC
點(diǎn)擊 按鈕
在Command Window中輸入NAR
透鏡得到了很大改善,表面 3 上的冷反射達(dá)到了我們的目標(biāo)。然而,現(xiàn)在來(lái)自表面 7 的冷反射低于我們的極限。
優(yōu)化表面7的冷反射
在AANT文件中加入命令LLL .23 1 .1 A NAR 7
點(diǎn)擊 按鈕運(yùn)行C30M2
在Command Window中輸入NAR
總結(jié)
本例講述了什么是冷反射,NAR透鏡冷反射特性,GHPLOT不良冷反射透鏡圖,PSPRD衍射點(diǎn)擴(kuò)散圖,RGHOST鬼像分析,優(yōu)化冷反射。
展開(kāi) 冷反射發(fā)生了什么?在命令窗口輸入NAR
鏡頭得到了很大改善。事實(shí)上,表面8上的冷反射效應(yīng)變得比我們的目標(biāo)更大。為什么?這個(gè)鏡頭來(lái)自專(zhuān)利文獻(xiàn),我們懷疑原設(shè)計(jì)師完全忽略了冷反射效應(yīng)。當(dāng)我們重新優(yōu)化它時(shí),我們發(fā)現(xiàn)它很容易控制。
但現(xiàn)在表面9的冷反射低于我們的極限。我們也為該表面添加目標(biāo)并重新優(yōu)化,然后在表面10處執(zhí)行相同的操作,結(jié)果很好。現(xiàn)在所有表面都接近或超過(guò)極限。
冷反射效應(yīng)通常不難控制,但是如果你忘記查看NAR列表,并且不控制值,你可能最終得到一個(gè)非常糟糕的結(jié)果。
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本文將演示如何在具有制冷型探測(cè)器的紅外系統(tǒng)中分析冷反射效應(yīng)。冷反射圖像是由光學(xué)系統(tǒng)表面反射形成的制冷型探測(cè)器的圖像,當(dāng)(近)對(duì)焦時(shí),在圖像中將產(chǎn)生一個(gè)黑暗的中心斑點(diǎn)。
分析將從使用OpticStudio的鬼像分析生成鬼像文件開(kāi)始,并收集每個(gè)文件的漸暈和傳輸數(shù)據(jù)。
冷反射積分系數(shù)是根據(jù)用戶(hù)輸入的溫度數(shù)據(jù)(外殼、探測(cè)器和環(huán)境)計(jì)算出來(lái)的。表面NITD貢獻(xiàn)和總NITD結(jié)果會(huì)顯示在圖中并且數(shù)字NITD數(shù)據(jù)會(huì)被寫(xiě)入一個(gè)文本文件。
簡(jiǎn)介
冷反射效應(yīng)是致冷型紅外系統(tǒng)中一種著名的現(xiàn)象,它是由探測(cè)器與殼體的巨大溫差引起的。
鏡片鍍膜的抗反射性能的不完善會(huì)導(dǎo)致殘留的熱輻射從每個(gè)鏡片表面返回。熱殼體的部分輻照度也到達(dá)探測(cè)器。如果鏡頭設(shè)計(jì)不當(dāng),就會(huì)在圖像上產(chǎn)生可分辨的對(duì)比度差異。
對(duì)于固定的鏡頭位置和機(jī)架溫度,這種對(duì)比度差可以通過(guò)電子非均勻性校正算法來(lái)消除。但這些參數(shù)的改變會(huì)導(dǎo)致冷反射圖案的回歸。因此,冷反射分析是制冷型紅外探測(cè)器設(shè)計(jì)過(guò)程中一個(gè)非常重要的部分。
定義冷反射引起的溫差
附件中的宏“Narcissus.zpl” 可以計(jì)算使用制冷型探測(cè)的紅外鏡頭的冷反射引入等效溫差(NITD)。其計(jì)算過(guò)程使用了以下公式1,2:
σij = 從表面j落在冷卻型探測(cè)器表面的反射輻射的立體角與探測(cè)器像元i的冷屏蔽立體角的比值。
t0(λ) = 從第一透鏡表面到探測(cè)器的平均透射率。
ti(λ) = 從探測(cè)器到我們關(guān)心的表面i的平均透射率。
以上等式機(jī)基于下假設(shè):
假設(shè)探測(cè)器的歸一化光譜響應(yīng)在工作波長(zhǎng)上是恒定的,所以這個(gè)參數(shù)在計(jì)算中不需要。
大氣透射率假設(shè)為1,這意味著NITD參考的是鏡頭前面的環(huán)境溫度。
假設(shè)應(yīng)用在透鏡表面的所有鍍膜的性能在工作波長(zhǎng)上是恒定的。
展開(kāi) 本文將演示如何在具有制冷型探測(cè)器的紅外系統(tǒng)中分析冷反射效應(yīng)。冷反射圖像是由光學(xué)系統(tǒng)表面反射形成的制冷型探測(cè)器的圖像,當(dāng)(近)對(duì)焦時(shí),在圖像中將產(chǎn)生一個(gè)黑暗的中心斑點(diǎn)。
分析將從使用OpticStudio的鬼像分析生成鬼像文件開(kāi)始,并收集每個(gè)文件的漸暈和傳輸數(shù)據(jù)。
冷反射積分系數(shù)是根據(jù)用戶(hù)輸入的溫度數(shù)據(jù)(外殼、探測(cè)器和環(huán)境)計(jì)算出來(lái)的。表面NITD貢獻(xiàn)和總NITD結(jié)果會(huì)顯示在圖中并且數(shù)字NITD數(shù)據(jù)會(huì)被寫(xiě)入一個(gè)文本文件。
作者 Serhat Hasan, shaslan@aselsan.com.tr
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簡(jiǎn)介
冷反射效應(yīng)是致冷型紅外系統(tǒng)中一種著名的現(xiàn)象,它是由探測(cè)器與殼體的巨大溫差引起的。
鏡片鍍膜的抗反射性能的不完善會(huì)導(dǎo)致殘留的熱輻射從每個(gè)鏡片表面返回。熱殼體的部分輻照度也到達(dá)探測(cè)器。如果鏡頭設(shè)計(jì)不當(dāng),就會(huì)在圖像上產(chǎn)生可分辨的對(duì)比度差異。
對(duì)于固定的鏡頭位置和機(jī)架溫度,這種對(duì)比度差可以通過(guò)電子非均勻性校正算法來(lái)消除。但這些參數(shù)的改變會(huì)導(dǎo)致冷反射圖案的回歸。因此,冷反射分析是制冷型紅外探測(cè)器設(shè)計(jì)過(guò)程中一個(gè)非常重要的部分。
定義冷反射引起的溫差
附件中的宏“Narcissus.zpl” 可以計(jì)算使用制冷型探測(cè)的紅外鏡頭的冷反射引入等效溫差(NITD)。其計(jì)算過(guò)程使用了以下公式1,2:
σij = 從表面j落在冷卻型探測(cè)器表面的反射輻射的立體角與探測(cè)器像元i的冷屏蔽立體角的比值。
t0(λ) = 從第一透鏡表面到探測(cè)器的平均透射率。
ti(λ) = 從探測(cè)器到我們關(guān)心的表面i的平均透射率。
展開(kāi) 
冷反射的相關(guān)專(zhuān)題、標(biāo)簽、搜索
冷反射的最新內(nèi)容
02案例描述
在制冷型紅外熱成像系統(tǒng)中,冷反射抑制面臨兩大核心難點(diǎn):一是如何準(zhǔn)確識(shí)別和量化各光學(xué)表面對(duì)冷反射的貢獻(xiàn)程度;二是在保證關(guān)鍵性能指標(biāo)的前提下,對(duì)冷反射進(jìn)行有效抑制。
針對(duì)這一難點(diǎn),本文提出一種基于 OAS 光學(xué)軟件的紅外冷反射全鏈路分析方案:系統(tǒng)以長(zhǎng)波紅外熱成像鏡頭為研究對(duì)象,涵蓋模型構(gòu)建、光源精確配置、光線(xiàn)追跡、數(shù)據(jù)分析及優(yōu)化設(shè)計(jì)等多個(gè)環(huán)節(jié)。
垂直腔面發(fā)射激光器(VCSEL)是一種二極管激光器,其發(fā)射的近高斯光束垂直于芯片頂面。與傳統(tǒng)的邊緣發(fā)射激光器(光發(fā)射于芯片的一兩個(gè)邊緣)相比,VCSEL在制造和性能方面具有諸多優(yōu)勢(shì)。
在本例中,我們將介紹如何構(gòu)建VCSEL結(jié)構(gòu),并模擬和分析反射率、模式和頻率。本例在Ansys Lumerical Multiphysics軟件(2025 R1.1及更高版本)上運(yùn)行,并且需要Ansys Lumerical
應(yīng)用場(chǎng)景
設(shè)計(jì)一款冷反射鏡,在初始膜系結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上,通過(guò)拓寬截止帶并減小通帶波紋,以提升整體光譜性能,目標(biāo)是在45°入射角下實(shí)現(xiàn)400–690?nm波段內(nèi)平均透射率低于1%,在750–1100?nm波段內(nèi)平均透射率高于99%。
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設(shè)計(jì)結(jié)果
設(shè)計(jì)結(jié)果如圖所示,45入射時(shí),截止帶平均反射率<1%, 通帶平均反射率大于99%,滿(mǎn)足設(shè)計(jì)指標(biāo)。
摘要
設(shè)計(jì)一款冷反射鏡,在初始膜系結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上,通過(guò)拓寬截止帶并減小通帶波紋,以提升整體光譜性能,目標(biāo)是在45°入射角下實(shí)現(xiàn)400–690?nm波段內(nèi)平均透射率低于1%,在750–1100?nm波段內(nèi)平均透射率高于99%。
紅外冷反射案例分析
簡(jiǎn)介
在紅外光學(xué)系統(tǒng)中,冷反射現(xiàn)象是影響成像質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。當(dāng)系統(tǒng)內(nèi)部低溫表面反射紅外輻射并干擾探測(cè)器正常接收信號(hào)時(shí),會(huì)產(chǎn)生雜散光,導(dǎo)致圖像出現(xiàn)偽影、對(duì)比度下降等問(wèn)題,嚴(yán)重影響紅外熱成像系統(tǒng)的探測(cè)精度與可靠性。因此,有效分析和抑制紅外冷反射,對(duì)提升紅外光學(xué)系統(tǒng)性能至關(guān)重要。
當(dāng)背景不均勻時(shí),由于冷反射的存在,可能產(chǎn)生雜散信號(hào)。對(duì)于國(guó)防和安全問(wèn)題尤為重要,在其中我們可以發(fā)現(xiàn)具有不同熱溫度或輻射率的物體,此時(shí)可以從圖像場(chǎng)景的剩余部分區(qū)分出它們。對(duì)于這個(gè)問(wèn)題的主要應(yīng)用是:探測(cè)、分類(lèi)和追跡隱藏在個(gè)人身上、包裹中、車(chē)輛上或船運(yùn)集裝箱中的武器、人員、車(chē)輛、物品和材料。
以下是本次研討會(huì)的具體介紹:
會(huì)議大綱
01
SYNOPSYS V16.104版本更新說(shuō)明
02
SYNOPSYS 鬼像分析實(shí)例演示
03
SYNOPSYS 冷反射分析實(shí)例演示
會(huì)議詳情
會(huì)議講師 :武漢墨光科技資深光學(xué)工程師
主辦單位 :武漢墨光科技有限公司
會(huì)議時(shí)間 :2024年5月24日(15:00-16:00)
報(bào)名方式
更新了冷反射分析菜單。
(1) 在圖像分析菜單中為冷反射分析創(chuàng)建一個(gè)新菜單項(xiàng)。冷反射分析以前包含在鬼像分析菜單中。
(2) 創(chuàng)建新的全視場(chǎng)冷反射 (FNAR) 分析圖形用戶(hù)界面。FNAR 數(shù)據(jù)現(xiàn)在可在新界面的 "數(shù)據(jù) "選項(xiàng)卡中查看。
(3) "冷反射分析圖 "中更新了點(diǎn)列圖、曲面圖和偽彩色圖的繪制圖形。
4.
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本文將演示如何在具有制冷型探測(cè)器的紅外系統(tǒng)中分析冷反射效應(yīng)。冷反射圖像是由光學(xué)系統(tǒng)表面反射形成的制冷型探測(cè)器的圖像,當(dāng)(近)對(duì)焦時(shí),在圖像中將產(chǎn)生一個(gè)黑暗的中心斑點(diǎn)。
分析將從使用OpticStudio的鬼像分析生成鬼像文件開(kāi)始,并收集每個(gè)文件的漸暈和傳輸數(shù)據(jù)。
冷反射積分系數(shù)是根據(jù)用戶(hù)輸入的溫度數(shù)據(jù)(外殼、探測(cè)器和環(huán)境)計(jì)算出來(lái)的。
汽車(chē)抬頭顯示系統(tǒng)設(shè)計(jì)
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