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透鏡參數在光學設計上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價函數中加入ASTI操作數達成目的，此時我們將目標值設為0、加大權重，並且使用單一波長。在縮小遠點球面上最小模糊圈的方面，我們可以透過OpticStudio的預設優化函數和光點半徑標準等功能達成目的。

注意，採用這種結構，透鏡的最大允許直徑可能嚴格取決於入射光束的相干程度和透鏡焦距。本文將不討論設計帶區透鏡的原理。Figure 3 菲涅耳波帶片系統佈局圖但是，如果現在使用POP分析建模相同的情況，則將觀察到光束開始聚焦在成像表面上，如圖4所示。在這裡，我們從束腰尺寸為2.6 mm的高斯光束開始並將光束聚焦下降到束腰約0.4毫米的斑點。

自訂分析模式用於填充自訂分析的資料。這些資料是用OpticStudio提供的現有圖形來顯示，用於大多數分析。此模式不允許對當前鏡頭系統或使用者介面進行更改（即：在這種模式下只允許對系統的副本進行更改）。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫。本文的自訂分析是用C#編寫的。

智慧型手機是地球上最普遍的消費技術之一，包含大量高科技光學系統。大多數都有多個相機單元，這對設計師和製造商提出了挑戰，以滿足嚴格的性能、成本和尺寸要求。在這篇Blog中，我們將討論 Zemax 解決方案如何幫助應對和克服這些挑戰。智慧型手機鏡頭模組用於智慧型手機相機的鏡頭模組非常複雜，每個模組都包含多個鏡頭元件。

從具有矩形、圓形和橢圓形增益孔徑的雷射共振腔產生的光束可以使用 Hermite-Gaussian、Laguerre-Gaussian Ince-Gaussian 光束的可用模型進行表徵。Hermite-Gaussian 模態對於具有矩形對稱性的雷射腔設計，即具有矩形增益孔徑的設計，近軸波動方程的適當解由 Hermite-Gaussian 模態提供。

軸向分辨率完全來自光源特性，應在5μm的數量級上。 來自樣品處光束半徑的橫向分辨率應為15μm。800 nm範圍內的光將用於避免組織中的高吸收，這會限制穿透。光源規格OCT將干涉測量技術與寬帶近紅外光結合使用。 較寬的帶寬可提供最佳分辨率，而波長選擇可確定樣品材料中的穿透深度。

因此，當我們要計算一條光線的OPD時，此光線會從物面出發後一路追跡穿過光學系統，最終到達像面後，在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點，半徑是主光線與像面交點到主光線與出瞳面的焦點。然後我們就計算這條光線的總光程，並扣去主光線的光程 (因此主光線的光程差永遠為零，因為他本身就是零的參考點)。

02/矢量成像模型二維矢量光刻成像模型聚焦平面圖形的高保真成像，主要應用于邏輯芯片的二維關鍵圖形（如柵極、接觸孔陣列）。

巖石薄片鑒定和高壓壓汞測試分析結果表明,古近系不同類型儲集體的儲集空間及物性差異明顯(表1),其中,儲集物性受控于沉積組構和成巖流體改造。 在不同區帶成巖流體演化過程分析的基礎上,以不同類型儲集體中能夠聚集并產出工業油氣流或產水的儲層作為有效儲層,選取典型巖心樣品,基于巖石薄片觀察,重新分析了儲層成巖序列,利用反演回剝方法恢復了儲集物性演化過程(圖6)。

奧林巴斯推出的BX61WI和BX51WI系列載物臺固定式顯微鏡，專為高精度的材料分析和動態信號檢測設計。這兩款設備以其卓越的穩定性、針對液體環境優化的光學元件以及創新的設計理念，在材料研究領域展現了極高的應用價值。

Magn.）等數據，分析河墩對水流的阻擋與分流效應，優化墩體間距與形狀以避免局部沖刷。</li><li><strong>帶孔結構溢洪道</strong>：針對泄槽段或控制段帶排水孔、導流孔的溢洪道，軟件可精準模擬孔口出流速度（如&nbsp;Y&nbsp;向速度&nbsp;Y vel.）與主流場的相互作用，評估孔結構對整體流態的影響，避免孔口附近出現負壓或渦流。

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傅立葉顯微鏡對單分子成像 建模用于單分子成像的完整高NA傅立葉顯微鏡系統，特別展示了例如：菲涅爾損耗、由于孔徑引起的衍射，并將仿真結果與參考值進行比較。 分析高NA物鏡的聚焦 高NA物鏡廣泛用于光學光刻，顯微技術等。

圖 2 - 用于分析顯微鏡分辨率的多配置方法的場設置。僅保留軸上視場，并且已將其轉換為象度。然后，使用單個YFIE操作數創建兩個結構，并在第二個結構中指定值1.8e-3 mm，如圖3所示。圖 3 - PSF重疊分析的多重結構設置。 兩個點源在物平面上相距1.8 um。最后，使用一個惠更斯PSF和惠更斯PSF截面來分析圖像平面中兩個PSF的重疊。

四、如何多樣化配置傳輸算法 逐點電磁場傳輸是指不必先計算整張輸出面，而是直接求取目標點、曲線或局部區域上的電磁場值。這類方法特別適合焦點場值提取、軸上掃描和局部場增強分析。相比整面傳播，逐點傳輸更有針對性，也更節省計算資源。

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表1 （左）NIR光譜分裂系統（右）可見光光譜分裂系統分析若要獲得表1的模擬值，實驗濾波器需要O = 0.55（系統1）和O = 0.76（系統2）的權重疊值。已經獲得具有O = 0.35的原型濾波器（系統2），產生的IoBB > 10％。

驅動排氣閥打開的高壓油由高壓油管進入排氣閥頂部，油路分為 2 路，主油路驅動排氣閥閥桿，打開排氣閥；另外一路油經節流閥中間的小阻尼孔流入 C 空間，經泄油口回油。經分析，該節流閥阻尼孔的主要作用是卸荷作用。另外，該機構通過阻尼孔的孔徑對排氣閥的升程進行控制，孔徑變大，排氣閥升程變小 （卸荷作用增強）；孔徑變小，排氣閥升程變大。

不同膠粘劑剪切試驗方法示意圖：a – butt torsion，b – napkin ring，c – 1?2"搭接剪切，d – 厚被粘物剪切試驗，作者繪制D5656試驗方法相對復雜，且受多種因素影響。試樣制備過程需要高精度的切割與鉆孔——安裝孔位置偏差將導致試樣加載不均，進而引起接頭中應力分布不均勻。

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