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在範例檔案中我們以視場角15°和30°進行印證，但要注意的是其實許多眼鏡的設計允許配戴者能有50°以上的視角。此外還有一點是我們需要特別注意的，範例所使用的設計方法忽略了大部分的複雜人眼結構，此處我們僅考慮瞳孔的大小，且此時無轉動的眼睛也是不被納入考量的。如下圖，對一個遠視的眼睛而言，其遠點球位於眼球的後方。在OpticStudio中，眼科鏡片的設計看起來是十分簡單的。

如果存在已知或假設的半徑，則可以使用Peterson 應力集中因子等資源來量化應力集中因子并與截面力結合使用來查找真實應力，這在下面的示例中完成。在下面的輪廓中，同一軸添加了 0.5 mm 的半徑。上圖顯示，當添加小半徑時，應力值會收斂。在這種情況下，由于半徑引起的應力集中，這些應力將與截面力不匹配；然而，這種應力集中可以使用Peterson 的應力集中因子進行量化。

第 1 步：耦合光柵的優化使用內置的粒子群優化（PSO）實用程序，優化SRG的傾斜角、填充因子和光柵高度，以最大限度地提高在法向入射時 550 nm波長下S偏振的透射率。第 2 步：完整特性描述和數據導出光柵優化是使用來自光柵上方的正常入射光進行的。但是，一旦選擇了優化的幾何結構，就必須針對光線追蹤仿真中預期的入射角范圍以及前進和后退方向計算完整的光柵特性。

該方法繼承了之前的所有因子，適用于雙折射取向材料的表征，例如偶氮染料光取向層. References1.Konovalov V.A., Muravski A.A., Yakovenko S.Ye., Pelzl J., SID Symp. Dig. Tech. Pap. 31 (1), p. 620 (2000).2.Chigrinov V.G., Kwok H.

該方法繼承了之前的所有因子，適用于雙折射取向材料的表征，例如偶氮染料光取向層. References 1. Konovalov V.A., Muravski A.A., Yakovenko S.Ye., Pelzl J., SID Symp. Dig. Tech. Pap. 31 (1), p. 620 (2000). 2. Chigrinov V.G., Kwok H.

雖然重點采樣在追跡特定光線時是有效的，但這些光線被加權，仿佛它們是更寬的立體角光線的一個子集。對于高斯散射，整體立體角是由Sigma參數決定的；而對于朗伯散射，立體角是2π，所以單根光線的強度會變得很低。

由于裂紋擴展速率大小取決于應力強度因子,裂紋擴展的同時,應力強度因子會逐漸增大,裂紋擴展速率迅速增大。

雖然重點采樣在追跡特定光線時是有效的，但這些光線被加權，仿佛它們是更寬的立體角光線的一個子集。對于高斯散射，整體立體角是由Sigma參數決定的；而對于朗伯散射，立體角是2π，所以單根光線的強度會變得很低。

激光用x和y方向發散角和焦點的位置指定。此外，發散角的準確含義可以根據不同的半寬和全寬來說明。這種激光模型也對相干光傳輸更精確的模擬進行了Gabor合成。 圖4.簡易激光半導體光束規格 例4.M平方激光束“M平方激光束”光源類型基于其M2因子模擬一個激光，，也被稱為光束質量或光束傳播因子。

點擊角上的設定圖標來開啟進階選項窗口：先執行冷卻于充填分析前 (run cooling for mold temperature)：若有勾選，則所有組別的分析序列都會由冷卻分析開始(CFPC vs. FPC)。考慮流道效應 (consider runner effect)：若有勾選，在考慮質量因子時會把流道的結果也考慮進去。

在這種情況下，入射角的范圍變得不對稱。我們將主射線角（CRA）定義為從物鏡中心到所考慮像素的光線。 用于計算均勻照明下的場強和OE的權重因子隨像素的位置而變化。低數值孔徑系統中邊緣像素的W的良好近似值為 其中 k||是面內波矢量，k||CRA是CRA的面內波矢量，NA是物鏡的數值孔徑。

激光用x和y方向發散角和焦點的位置指定。此外，發散角的準確含義可以根據不同的半寬和全寬來說明。這種激光模型也對相干光傳輸更精確的模擬進行了Gabor合成。圖 4.簡易激光半導體光束規格例4.M平方激光束“M平方激光束”光源類型基于其M2因子模擬一個激光，，也被稱為光束質量或光束傳播因子。M2最小的可能值是1，這會指定一個高斯TEM00光束。

激光用x和y方向發散角和焦點的位置指定。此外，發散角的準確含義可以根據不同的半寬和全寬來說明。這種激光模型也對相干光傳輸更精確的模擬進行了Gabor合成。 圖4.簡易激光半導體光束規格 例4.M平方激光束“M平方激光束”光源類型基于其M2因子模擬一個激光，，也被稱為光束質量或光束傳播因子。M2最小的可能值是1，這會指定一個高斯TEM00光束。

激光用x和y方向發散角和焦點的位置指定。此外，發散角的準確含義可以根據不同的半寬和全寬來說明。這種激光模型也對相干光傳輸更精確的模擬進行了Gabor合成。 圖4.簡易激光半導體光束規格 例4.M平方激光束“M平方激光束”光源類型基于其M2因子模擬一個激光，，也被稱為光束質量或光束傳播因子。M2最小的可能值是1，這會指定一個高斯TEM00光束。

這個慣例暗示了相位變化在正向入射上為最大，並且隨著入射角變大、相對應餘弦值變小而相位變化也漸漸變小。但光線追跡上，我們是使用不同的方法來描述的。光線追跡的處理方式是如同上面第一張圖表的。過程中只有三條光線：入射、穿透以及反射。你可以隨意的放大檢視，永遠只有三條線。膜層本身不用光線追跡來處理，而用不同的函數來操作。對於光線追跡，光學相位的超前或延遲都是沿著光線觀察的。

激光用x和y方向發散角和焦點的位置指定。此外，發散角的準確含義可以根據不同的半寬和全寬來說明。這種激光模型也對相干光傳輸更精確的模擬進行了Gabor合成。圖 4.簡易激光半導體光束規格例4.M平方激光束“M平方激光束”光源類型基于其M2因子模擬一個激光，，也被稱為光束質量或光束傳播因子。M2最小的可能值是1，這會指定一個高斯TEM00光束。

根據上述參數選擇以下光柵參數：光柵周期：250 nm填充因子：0.5光柵高度：200 nm材料n_1：熔融石英（來自目錄）材料n_2：二氧化鈦（來自目錄） 偏振態分析現在，用TE偏振光照射光柵，并應用圓錐入射角（??）變量。如前所述，瑞利系數的平方振幅將提供關于特定級次的偏振態的信息。

填充因子 6. 衍射效率vs.變化的入射角 7. 走進VirtualLab Fusion 8.

根據上述參數選擇以下光柵參數：光柵周期：250 nm填充因子：0.5光柵高度：200 nm材料n_1：熔融石英（來自目錄）材料n_2：二氧化鈦（來自目錄）偏振態分析現在，用TE偏振光照射光柵，并應用圓錐入射角（??）變量。如前所述，瑞利系數的平方振幅將提供關于特定級次的偏振態的信息。

根據上述參數選擇以下光柵參數：光柵周期：250 nm填充因子：0.5光柵高度：200 nm材料n_1：熔融石英（來自目錄）材料n_2：二氧化鈦（來自目錄）偏振態分析現在，用TE偏振光照射光柵，并應用圓錐入射角（??）變量。如前所述，瑞利系數的平方振幅將提供關于特定級次的偏振態的信息。