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這表明發生了重大變化。代表性的OCT系統如下所示。 光束應均勻地分成兩臂，其中一個在樣品體積上會聚，以最小化給定掃描的照射面積。 光源應為一束準直的寬帶光束；大帶寬意味著低相干性和高精度定位產生相干性的深度。深度掃描也稱為軸向掃描或A掃描，它根據反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。

在每一次的交錯中，就相應產生一道穿透以及一道反射光場，最後這些光場會在同調的假設下相加。經過一番如魔術般建設性以及破壞性干涉後，最後的結果可以用巨觀的反射以及穿透係數來表示。入射光的電場並非用單一個點來描述，相對的，我們會假設該電場比多重光束干涉發生的區域更大許多。在Zemax OpticStudio中，我們使用field係數來表示這個結果，這些係數已經被薄膜膜層的程式驗證過許多次。

有一點必須要特別注意的，Jones Matrix並不會因為Ez的變化產生改變 (系統預設入射光垂直入射偏振片)。一般而言，偏振片和玻板(waveplate)確實是用在準直入射光線或發散角(divergence angle)極小的情況下。假如是入射光束是準直的，且與Jones Matrix互相垂直。

碰撞力通過兩物體彈性力和阻尼力的疊加計算，彈性力是物體之間相互擠壓穿透產生，阻尼力是兩物體相對運動產生，可通過設置材料剛度、碰撞指數、穿透深度、阻尼等使仿真模擬結果更準確。本文中的接觸碰撞力，包括導軌與觸發擺塊、防墜擺塊之間的相互接觸碰撞，防墜擺塊與固定擋桿的接觸碰撞等。具體碰撞參數參見表4。

如果厚度從t到t'發生變化，則可以透過修改K∥計算出新的光柵向量，如方程式（4）。圖 4. 當全像材料收縮時，厚度從t 減少到 t'。我們現在已經介紹了體積全像圖模型的基礎知識。要了解有關如何在 OpticStudio 中應用該理論、如何設置序列和非序列系統以及下載範例系統的更多信息，您可以在此處取得本知識庫文章的全部內容。

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超聲波由于能穿透電磁波、光波等無法穿透的物質，同時又能在兩種物質（兩者的密度和聲速顯著不同）的界面上反射。如果某種物質內部存在不均勻性，如氣泡、裂痕、夾雜、疏松、位錯或脫粘等缺陷，就會引起超聲波的反射。因此，利用超聲波能探測物質內部的結構（缺陷和不均勻分布）等。

是利用電生磁的原理，當電流通過硅鋼片時，電磁鎖會產生強大的吸力緊緊的吸住吸附鐵板達到鎖止的效果。