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陣列透鏡是照明系統中有用的光學元件。它是將單個光學元件組裝或形成為單個光學元件的二維陣列，用於在照明平面上將光從非均勻分佈空間轉換為均勻輻照度分佈。這篇文章討論了複眼空間光學積分器在數位投影機中的使用，以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進行建模。在數位投影器設計中，我們希望確保數位光源在輻照度分佈方面與投影圖像相匹配。

透鏡參數在光學設計上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價函數中加入ASTI操作數達成目的，此時我們將目標值設為0、加大權重，並且使用單一波長。在縮小遠點球面上最小模糊圈的方面，我們可以透過OpticStudio的預設優化函數和光點半徑標準等功能達成目的。

某個角度的一道入射平面波會在下面兩個介面中反覆交錯無數次：空氣到膜層介面以及膜層到基板介面。在每一次的交錯中，就相應產生一道穿透以及一道反射光場，最後這些光場會在同調的假設下相加。經過一番如魔術般建設性以及破壞性干涉後，最後的結果可以用巨觀的反射以及穿透係數來表示。入射光的電場並非用單一個點來描述，相對的，我們會假設該電場比多重光束干涉發生的區域更大許多。

該模型的輸入是階數 p 和度數 m、束腰 (w0)、光束的半焦距 (f0) 和光束極性（0 = 偶數；1 = 奇數）；最後一個輸入決定了光束是由偶數還是奇數 Ince 多項式描述的。 Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的論文中提供了上述每個輸入的完整描述。 2 列出了一些未使用的輸入，以便該模型的輸入表結構與 OpticStudio 中內置的高斯腰模型的結構相匹配。

請注意，POP基於標量繞射理論，因此不適用於特徵尺寸通常為次波長的超穎透鏡。有興趣嘗試在OpticStudio中設計DOE或超穎透鏡嗎？請查看OpticStudio產品頁面以了解更多訊息並獲得免費試用版。參考文獻:[1] Chen, W.T., Zhu, A.Y. & Capasso, F.

Moldex3D Solid的分析時間與模具試模的次數與成本相較來看，每批模具我們至少減少了一半的試模次數，這項工作是值得的。」為了加快 Tokyo Seiki 公司跨入其它模具產品的設計能力，Mr. VC Chong 認為 CAE 模流分析將是公司保持競爭力的優質工具，除了在模具代工的低價競爭中脫穎而出，更能有效的提供良好的設計給客戶。

關於SRG的工具，請參見知識庫文章Simulating diffraction efficiency of surface-relief grating using the RCWA method。耦合波理論我們來回顧一下耦合波理論，它主要用於體積全像光柵模型。考慮一個簡單的情況，即一個法向量n的全像平面被兩個波長相同的平面波照射，沿波向量k1和k2的方向傳播。

但有時因為分類數據報告(Prescription data)不夠齊全，在進行模擬時會需要簡化後的模型。舉例而言，當我們無法得到真實的鍍膜資訊時，OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。相似的，Jones Matrix可以在缺乏實際模型的情況下，用來表示偏振元件。

如下圖所示：來自紅色行人的散射光到達了雷射雷達探測器的一個單位圖元上。雷射雷達會將接收到返回信號花費的時長記錄下來，即飛行時間，並將飛行時間轉換為距離。圖元的位置可表明入射光的方向。這兩個值都表明散射光線來自站在離貨車10米遠的紅色行人。OpticStudio實際上測量的不是時間，而是光線路徑長度，也就是物體和探測器之間的距離。

大多數都有多個相機單元，這對設計師和製造商提出了挑戰，以滿足嚴格的性能、成本和尺寸要求。在這篇Blog中，我們將討論 Zemax 解決方案如何幫助應對和克服這些挑戰。智慧型手機鏡頭模組用於智慧型手機相機的鏡頭模組非常複雜，每個模組都包含多個鏡頭元件。追求更好的成像性能，加上需要模組盡可能小以增強手機的美感，需要復雜的設計形式。透鏡的形狀通常是高度非球面的。

? 增強競爭力在全球化競爭中，擁有高效的供應鏈管理平臺可以使企業在市場中占據優勢。供應鏈平臺解決方案針對上述挑戰，我們認為在以模具T零量產為核心的目標之下，需整合高分子材料資料、模塑工程和先進射出成型技術，為供應商及客戶提供全過程的支持和管理。目標是通過精準的項目管理、模具開發和射出生產，幫助企業獲取高質量的關鍵零部件和多零件模塊件。

目前為止設定如下： 然後我們在Merit Function中使用OPTH這個操作數驗證視場1、波長編號2，經過光瞳Py = -1位置的光線以及主光線，兩條光線在參考球面上的光程差。注意我除以波長編號2的波長 (wavelength)，因此單位會是波長 (waves)。下面可以看到我們算出來是0.272387 (須乘以一千倍)。

深度掃描也稱為軸向掃描或A掃描，它根據反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。 儘管它在OCT系統的類型之間有所不同，但深度掃描通常由參考鏡執行，以使樣品返回的光對應於樣品和參考之間的特定光程差（OPD）。 透過以x或y方向旋轉掃描鏡來執行橫向，橫向或b掃描，從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統中獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性，應在5μm的數量級上。

對于稀疏矩陣，該圖可以描述向量乘法的基本計算量和數據依賴關系，稀疏矩陣向量乘法的負載均衡可以轉化為圖的多路劃分問題。在一些線性方程求解庫中，可以看到相應的圖劃分工具。5. 線性方程組求解線性方程組求解是隱式有限元方法求解的核心。考慮到大規模稀疏對稱矩陣線性方程組求解方法的復雜性以及求解庫繁多，作為系列文章，后面專門分多文介紹。

變密度法相對于其他方法更能反映拓撲優化的本質特征，而且其概念簡單、設計變量少，因此更適用于實際工程中的結構優化設計。變密度法是引入一種密度在0~1之間的中間變量，即將有限元模型設計空間的每個單元的“單元密度”作為設計變量。

輕量化方案有限元模型如圖6和圖7所示。圖6 車門輕量化方案一 圖7 車門輕量化方案二 新方案的輕量化效果如表2所示。

為打破“重展示、輕實效”的行業痛點，本次展會配套舉辦的10余場專業論壇、賽事及特色活動，將成為產業對接與思想碰撞的核心平臺。展會將邀請院士專家、行業大咖、龍頭企業負責人及投資機構代表齊聚一堂，圍繞具身大模型迭代、人形機器人量產路徑、核心技術突破難點、場景落地創新等熱點議題展開深度研討，解讀行業發展趨勢與政策導向，為產業高質量發展建言獻策。

但是以上兩種提高有限元精度的代價就是計算量幾何倍數增加。為了提高數值近似精度同時盡量較少地提高計算量，有限元法經歷了很多發展和改良。下圖就是一典型的有限元問題，因為模型中間空洞部分幾何不規則性，結構用有限三角單元劃分。由于在靠外區域，結構反應不是很大，因此劃分的單元比較大和粗糙，而在內部，應力變化比較大，劃分也比較精細。

1 壓縮機支架分析1.1 有限元模型壓縮機質量為6.5kg，材料為鑄鋁ADC12。對其內部復雜構造進行簡化建模，并根據壓縮機的外殼進行實體solid網格劃分。壓縮機網格采用tetra四面體網格，網格尺寸選用4mm。壓縮機支架也為鑄鋁件，亦采用tetra四面體網格。壓縮機支架作為過渡支架通過長桿螺栓將壓縮機固定在發動機缸體上，其有限元模型如圖1所示。