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3.研究不同對齊誤差在干涉圖上的影響，如傾斜和偏移 利用VirtualLab軟件可對馬赫澤德干涉儀生成的干涉圖案進行研究分析。 應用示例詳細內容 系統參數 1.仿真任務：馬赫澤德干涉儀 ?通過使用這種干涉儀設置，可測量兩完全相同光束線間的相對相移。 這使得可以對一個樣品元件引起的相移進行研究。

研究不同對齊誤差在干涉圖上的影響，如傾斜和偏移 利用VirtualLab軟件可對馬赫澤德干涉儀生成的干涉圖案進行研究分析。 應用示例詳細內容 系統參數 1. 仿真任務：馬赫澤德干涉儀 ? 通過使用這種干涉儀設置，可測量兩完全相同光束線間的相對相移。 這使得可以對一個樣品元件引起的相移進行研究。 2.

光學測量＞干涉測量 任務/系統描述 亮點 ? 在光線追跡分析與高速物理光學建模間簡單轉換? 相干效應以及干涉圖案的高速仿真 說明：光源 說明：擴束器 說明：分束器 說明：反射鏡 說明：相位延遲元件 說明：研究對象

光學測量＞干涉測量 任務/系統描述 亮點 ?在光線追跡分析與高速物理光學建模間簡單轉換?相干效應以及干涉圖案的高速仿真 說明：光源 說明：擴束器 說明：分束器 說明：反射鏡 說明：相位延遲元件

光學相干斷層掃描（OCT）是一種斷層成像系統，可以根據從圖像反射或散射的光生成橫截面或三維圖像。 醫用組織成像是該系統的最典型應用，因為OCT安全且具有高分辨率，儘管光可以穿透的深度限制在毫米量級。OCT測量系統依賴於邁克森干涉儀 (Michelson interferometer)，使得從參考物反射的光與樣品之間的相干性表明散射光源自樣品中與參考鏡的位置相對應的深度。

整個系統中部分相干的白光可以利用VirtualLab Fusion仿真。 試用軟件和應用示例： 如果對更多信息感興趣，請通過 support@lighttrans.com 或通過VirtualLab Fusion試用版結合我們提供的應用示例開展你的實驗工作：?MSY.0001: 使用相干光的馬赫澤德干涉儀仿真。

雙縫干涉實驗最初由Thomas Young在19世紀初進行，它顯示了光的波動性質，是空間相干測量的重要技術。在VirtualLab Fusion中，我們用單點光源和擴展光源復現了Young的實驗。我們通過檢查干涉條紋對比度的變化來研究擴展源的相干特性。

雙縫干涉實驗最初由Thomas Young在19世紀初進行，它顯示了光的波動性質，是空間相干測量的重要技術。在VirtualLab Fusion中，我們用單點光源和擴展光源復現了Young的實驗。我們通過檢查干涉條紋對比度的變化來研究擴展源的相干特性。

圖3 高斯光線尺寸點列圖，放大的中心用以顯示細節。(a)在光源位置。(b)當光束傳播了650mm后，輪廓如最右邊的子光束。基準光線準直，二次光線發散。 假設擴束器是光學系統的一部分，它需要第一表面距離激光源650毫米。一個例子是馬赫澤德干涉儀，在其臂處有不同的光束尺寸，如圖4所示。 圖4 馬赫澤德干涉儀的FRED模型，在一個臂處有擴束器。

這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模擬功能，該功能可以在考慮其物理特性的情況下，在序列模式下對全像光柵進行全面模擬和分析。在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對於設計用於虛擬實境 (VR) 和增強實境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數。

走進VirtualLab Fusion VirtualLab Fusion工作流程?編程一個雙縫函數功能?編程一個雙狹函數[用例] ?使用以下命令檢查不同參數的影響參數運行?參數運行文檔的使用[用例] ?參數運行的掃描模式[用例] ?通過偏移基本場方法對部分相干源進行建模 VirtualLab

[教程視頻] ?使用導入的數據自定義表面輪廓 ?定義元件的位置和方向 ? LPD II：位置和方向[教程視頻] ?正確設置通道以進行非序列追跡 ?非序列追跡的通道設置[用例] ?使用參數運行檢查影響/變化 ?參數運行文檔的使用[用例] VirtualLab

摘要 干涉測量是光學計量的重要技術。 例如，在VirtualLab Fusion中構建具有相干激光光源的馬赫澤德干涉儀。 特別是在此示例中插入兩個偏振片以控制兩個干涉光束的偏振態。 通過旋轉其中一個偏振器，可以達到干涉圖案變化的可視化，最終產生空間變化的偏振。

摘要 掃描干涉儀是用于執行表面高度測量的技術。 通過利用白光光源的低相干性，僅當光程長度差在相干長度內時才會出現干涉圖樣。 因此，它可以實現精確的顯微鏡測量。在本案例中，氙氣燈和邁克爾遜干涉儀被構建并用于測量表面平滑變化的樣品。

在快速物理光學軟件VirtualLab Fusion中，我們利用這種方法建模了一個空間擴展部分相干光源，并探討了基本場的配置和場的數量對光源的影響，然后利用該光源進行楊氏干涉實驗，通過檢測干涉條紋對比度的變化來研究光源的相干特性。用移位基本場法建模空間擴展光源 本用例演示了如何基于楊氏干涉實驗，實現Tervo等人報道的移位基本場法[J. Opt. Soc. Am.

相干光場再現FRED的相干場重新采樣特性可以解決相干光線的誤差，通過在一個擴展的空間領域再現當前的標量場，并生成一系列新的相干光線。下圖是對馬赫-曾德干涉儀的相干場的再現分析。基模及高階模高斯光束傳播分析 FRED對分析面的方向設置無限制，因此可以計算沿著傳播方向的能量密度，如圖是拉蓋爾高階模式縱向和橫向的能量密度分布。

許多設計過程需要兩種不同的光學理論/算法來分別處理光束在自由空間和微結構中的傳播，而其他一些過程僅使用純光線追跡來達到目標。由於模擬技術發展迅速，因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。如果用戶提供新訊息或有任何要求，請隨時與我們聯繫，我們可以相應地更新本文。

[用例]?使用參數運行檢查影響/變化?參數運行文檔的使用[用例] VirtualLab Fusion技術 文件信息

?通過標準的方式指定光源所有參數，使用戶對使用的概念更加熟悉，并可通過相同的步驟配置所有光源。?VirtualLab中不僅可以模擬基本光源(如球面場、平面場以及高斯光場)也可模擬部分相干光源(仿真LED，受激準分子激光器和多模激光器)。

觀測平面內形成的時間平均強度為： 其中I1和I2是在孔隙處的光強度，μ12是在孔隙處評估的所謂 “復雜相干因子”，φ12 = arg{μ12} [Ref. 1, Eq. 5.2-36]。條紋對比度可見性為： 條紋對比度可見性是由孔隙處光強度和相干系數的模決定的。