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3.研究不同對(duì)齊誤差在干涉圖上的影響，如傾斜和偏移 利用VirtualLab軟件可對(duì)馬赫澤德干涉儀生成的干涉圖案進(jìn)行研究分析。 應(yīng)用示例詳細(xì)內(nèi)容 系統(tǒng)參數(shù) 1.仿真任務(wù)：馬赫澤德干涉儀 ?通過(guò)使用這種干涉儀設(shè)置，可測(cè)量?jī)赏耆嗤馐€間的相對(duì)相移。 這使得可以對(duì)一個(gè)樣品元件引起的相移進(jìn)行研究。

研究不同對(duì)齊誤差在干涉圖上的影響，如傾斜和偏移 利用VirtualLab軟件可對(duì)馬赫澤德干涉儀生成的干涉圖案進(jìn)行研究分析。 應(yīng)用示例詳細(xì)內(nèi)容 系統(tǒng)參數(shù) 1. 仿真任務(wù)：馬赫澤德干涉儀 ? 通過(guò)使用這種干涉儀設(shè)置，可測(cè)量?jī)赏耆嗤馐€間的相對(duì)相移。 這使得可以對(duì)一個(gè)樣品元件引起的相移進(jìn)行研究。 2.

光學(xué)測(cè)量＞干涉測(cè)量 任務(wù)/系統(tǒng)描述 亮點(diǎn) ? 在光線追跡分析與高速物理光學(xué)建模間簡(jiǎn)單轉(zhuǎn)換? 相干效應(yīng)以及干涉圖案的高速仿真 說(shuō)明：光源 說(shuō)明：擴(kuò)束器 說(shuō)明：分束器 說(shuō)明：反射鏡 說(shuō)明：相位延遲元件 說(shuō)明：研究對(duì)象

光學(xué)測(cè)量＞干涉測(cè)量 任務(wù)/系統(tǒng)描述 亮點(diǎn) ?在光線追跡分析與高速物理光學(xué)建模間簡(jiǎn)單轉(zhuǎn)換?相干效應(yīng)以及干涉圖案的高速仿真 說(shuō)明：光源 說(shuō)明：擴(kuò)束器 說(shuō)明：分束器 說(shuō)明：反射鏡 說(shuō)明：相位延遲元件

光學(xué)相干斷層掃描（OCT）是一種斷層成像系統(tǒng)，可以根據(jù)從圖像反射或散射的光生成橫截面或三維圖像。 醫(yī)用組織成像是該系統(tǒng)的最典型應(yīng)用，因?yàn)镺CT安全且具有高分辨率，儘管光可以穿透的深度限制在毫米量級(jí)。OCT測(cè)量系統(tǒng)依賴於邁克森干涉儀 (Michelson interferometer)，使得從參考物反射的光與樣品之間的相干性表明散射光源自樣品中與參考鏡的位置相對(duì)應(yīng)的深度。

整個(gè)系統(tǒng)中部分相干的白光可以利用VirtualLab Fusion仿真。 試用軟件和應(yīng)用示例： 如果對(duì)更多信息感興趣，請(qǐng)通過(guò) support@lighttrans.com 或通過(guò)VirtualLab Fusion試用版結(jié)合我們提供的應(yīng)用示例開展你的實(shí)驗(yàn)工作：?MSY.0001: 使用相干光的馬赫澤德干涉儀仿真。

雙縫干涉實(shí)驗(yàn)最初由Thomas Young在19世紀(jì)初進(jìn)行，它顯示了光的波動(dòng)性質(zhì)，是空間相干測(cè)量的重要技術(shù)。在VirtualLab Fusion中，我們用單點(diǎn)光源和擴(kuò)展光源復(fù)現(xiàn)了Young的實(shí)驗(yàn)。我們通過(guò)檢查干涉條紋對(duì)比度的變化來(lái)研究擴(kuò)展源的相干特性。

雙縫干涉實(shí)驗(yàn)最初由Thomas Young在19世紀(jì)初進(jìn)行，它顯示了光的波動(dòng)性質(zhì)，是空間相干測(cè)量的重要技術(shù)。在VirtualLab Fusion中，我們用單點(diǎn)光源和擴(kuò)展光源復(fù)現(xiàn)了Young的實(shí)驗(yàn)。我們通過(guò)檢查干涉條紋對(duì)比度的變化來(lái)研究擴(kuò)展源的相干特性。

圖3 高斯光線尺寸點(diǎn)列圖，放大的中心用以顯示細(xì)節(jié)。(a)在光源位置。(b)當(dāng)光束傳播了650mm后，輪廓如最右邊的子光束。基準(zhǔn)光線準(zhǔn)直，二次光線發(fā)散。 假設(shè)擴(kuò)束器是光學(xué)系統(tǒng)的一部分，它需要第一表面距離激光源650毫米。一個(gè)例子是馬赫澤德干涉儀，在其臂處有不同的光束尺寸，如圖4所示。 圖4 馬赫澤德干涉儀的FRED模型，在一個(gè)臂處有擴(kuò)束器。

這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模擬功能，該功能可以在考慮其物理特性的情況下，在序列模式下對(duì)全像光柵進(jìn)行全面模擬和分析。在非序列模式下也透過(guò)使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對(duì)於設(shè)計(jì)用於虛擬實(shí)境 (VR) 和增強(qiáng)實(shí)境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統(tǒng)非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數(shù)。

走進(jìn)VirtualLab Fusion VirtualLab Fusion工作流程?編程一個(gè)雙縫函數(shù)功能?編程一個(gè)雙狹函數(shù)[用例] ?使用以下命令檢查不同參數(shù)的影響參數(shù)運(yùn)行?參數(shù)運(yùn)行文檔的使用[用例] ?參數(shù)運(yùn)行的掃描模式[用例] ?通過(guò)偏移基本場(chǎng)方法對(duì)部分相干源進(jìn)行建模 VirtualLab

[教程視頻] ?使用導(dǎo)入的數(shù)據(jù)自定義表面輪廓 ?定義元件的位置和方向 ? LPD II：位置和方向[教程視頻] ?正確設(shè)置通道以進(jìn)行非序列追跡 ?非序列追跡的通道設(shè)置[用例] ?使用參數(shù)運(yùn)行檢查影響/變化 ?參數(shù)運(yùn)行文檔的使用[用例] VirtualLab

摘要 干涉測(cè)量是光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 例如，在VirtualLab Fusion中構(gòu)建具有相干激光光源的馬赫澤德干涉儀。 特別是在此示例中插入兩個(gè)偏振片以控制兩個(gè)干涉光束的偏振態(tài)。 通過(guò)旋轉(zhuǎn)其中一個(gè)偏振器，可以達(dá)到干涉圖案變化的可視化，最終產(chǎn)生空間變化的偏振。

摘要 掃描干涉儀是用于執(zhí)行表面高度測(cè)量的技術(shù)。 通過(guò)利用白光光源的低相干性，僅當(dāng)光程長(zhǎng)度差在相干長(zhǎng)度內(nèi)時(shí)才會(huì)出現(xiàn)干涉圖樣。 因此，它可以實(shí)現(xiàn)精確的顯微鏡測(cè)量。在本案例中，氙氣燈和邁克爾遜干涉儀被構(gòu)建并用于測(cè)量表面平滑變化的樣品。

在快速物理光學(xué)軟件VirtualLab Fusion中，我們利用這種方法建模了一個(gè)空間擴(kuò)展部分相干光源，并探討了基本場(chǎng)的配置和場(chǎng)的數(shù)量對(duì)光源的影響，然后利用該光源進(jìn)行楊氏干涉實(shí)驗(yàn)，通過(guò)檢測(cè)干涉條紋對(duì)比度的變化來(lái)研究光源的相干特性。用移位基本場(chǎng)法建模空間擴(kuò)展光源 本用例演示了如何基于楊氏干涉實(shí)驗(yàn)，實(shí)現(xiàn)Tervo等人報(bào)道的移位基本場(chǎng)法[J. Opt. Soc. Am.

相干光場(chǎng)再現(xiàn)FRED的相干場(chǎng)重新采樣特性可以解決相干光線的誤差，通過(guò)在一個(gè)擴(kuò)展的空間領(lǐng)域再現(xiàn)當(dāng)前的標(biāo)量場(chǎng)，并生成一系列新的相干光線。下圖是對(duì)馬赫-曾德干涉儀的相干場(chǎng)的再現(xiàn)分析。基模及高階模高斯光束傳播分析 FRED對(duì)分析面的方向設(shè)置無(wú)限制，因此可以計(jì)算沿著傳播方向的能量密度，如圖是拉蓋爾高階模式縱向和橫向的能量密度分布。

許多設(shè)計(jì)過(guò)程需要兩種不同的光學(xué)理論/算法來(lái)分別處理光束在自由空間和微結(jié)構(gòu)中的傳播，而其他一些過(guò)程僅使用純光線追跡來(lái)達(dá)到目標(biāo)。由於模擬技術(shù)發(fā)展迅速，因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。如果用戶提供新訊息或有任何要求，請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)繫，我們可以相應(yīng)地更新本文。

[用例]?使用參數(shù)運(yùn)行檢查影響/變化?參數(shù)運(yùn)行文檔的使用[用例] VirtualLab Fusion技術(shù) 文件信息

?通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的方式指定光源所有參數(shù)，使用戶對(duì)使用的概念更加熟悉，并可通過(guò)相同的步驟配置所有光源。?VirtualLab中不僅可以模擬基本光源(如球面場(chǎng)、平面場(chǎng)以及高斯光場(chǎng))也可模擬部分相干光源(仿真LED，受激準(zhǔn)分子激光器和多模激光器)。

VirtualLab Fusion 中的工作流程? 輸入場(chǎng)設(shè)置? 基本光源模型 [視頻教程]? 定義元件的位置和方向? 光路圖II：位置和方向 [視頻教程]? 正確設(shè)置非序列追跡通道? 非序列追跡的通道設(shè)置 [使用案例]? 使用“參數(shù)運(yùn)行”檢查影響/變化? “參數(shù)運(yùn)行文件”的使用 [使用案例] 6.