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案例設(shè)置與操作光源設(shè)置光源準(zhǔn)直勻化系統(tǒng)：導(dǎo)入 UV - LED光源模型，基于軟件內(nèi)置 LED 材料庫定義光源發(fā)光特性，搭建由復(fù)曲面透鏡、微透鏡陣列組成的準(zhǔn)直勻化結(jié)構(gòu)，通過參數(shù)化建模工具精確設(shè)置透鏡曲率半徑、中心厚度及間距，確保光源經(jīng)準(zhǔn)直后平行度誤差≤0.5°，勻化后光斑均勻度達(dá)設(shè)計閾值。

然而，其復(fù)雜的光學(xué)元件組合和光線傳播路徑，使得雜散光的產(chǎn)生難以避免，從而影響系統(tǒng)的成像清晰度和對比度。本案例旨在利用 OAS 光學(xué)軟件對庫克三片式鏡頭進(jìn)行精確的雜散光分析，為優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)性能提供科學(xué)依據(jù)。案例設(shè)置與操作參數(shù)配置本案例中的庫克三片式鏡頭采用半孔徑為 9mm 的平行光源作為輸入。

光線通過單軸晶體時，分為o光(ordinary)和e光(extraordinary)，其中o光電場分量與主平面（光線與光軸組成的平面）垂直，e光電場分量與主平面平行，在晶體內(nèi)o光和e光的速度一般會不同（與光軸和光線方向有關(guān)），即等效折射率不同，所以兩種光分開一個很小的角度，而且傳播同樣距離會有一個相位差。由于o光e光偏振角度不同，并不能直接相干，但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。

請注意，只有傾斜物體才能保持光波導(dǎo)的上表面與X-Z平面平行。由于物體是圍繞光波導(dǎo)輸入面的中心旋轉(zhuǎn)，而不是頂部邊緣，所以Y的位置也需要略做改變。在物體傾斜的前后表面上都設(shè)置拾取 (Pickup) 求解以確保他們與Y-Z平面保持平行。BEF是系統(tǒng)中最復(fù)雜的元件。手動復(fù)制父棱鏡將非常耗時，且在光線追跡時需要大量內(nèi)存。

1.1 C-T光路結(jié)構(gòu)C-T型光路的核心組成的為“入射狹縫-準(zhǔn)直鏡-光柵-聚焦鏡-探測器”，如圖1所示：光線經(jīng)狹縫進(jìn)入系統(tǒng)后，由準(zhǔn)直鏡將發(fā)散光束轉(zhuǎn)化為平行光；光柵對平行光進(jìn)行光譜分光，使不同波長光線以不同角度衍射；最終，聚焦鏡將衍射光匯聚至探測器對應(yīng)位置，完成光譜信息記錄。

這意味著，如果照明面積為100mm2，光線最好的平行度為±1.70°。我們可以用有限大小的光源和兩個準(zhǔn)直器來直觀地解釋étendue的概念。 較小準(zhǔn)直鏡的焦距是較大準(zhǔn)直鏡焦距的四分之一。

光線通過單軸晶體時，分為o光(ordinary)和e光(extraordinary)，其中o光電場分量與主平面（光線與光軸組成的平面）垂直，e光電場分量與主平面平行，在晶體內(nèi)o光和e光的速度一般會不同（與光軸和光線方向有關(guān)），即等效折射率不同，所以兩種光分開一個很小的角度，而且傳播同樣距離會有一個相位差。由于o光e光偏振角度不同，并不能直接相干，但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。

具體參數(shù)為生成子光線代數(shù)等于 2，通過該設(shè)置可對入射光線進(jìn)行精細(xì)化拆分與追蹤，提高雜散光檢測的靈敏度與準(zhǔn)確性，確保分析結(jié)果的可靠性。庫克三片式反向追跡的三維追跡圖庫克三片式反向追跡的探測器結(jié)果圖總結(jié)本案例通過反向追跡技術(shù)，能夠精準(zhǔn)模擬庫克三片式鏡頭在平行光入射條件下的雜散光傳播路徑與能量分布情況。

請注意，只有傾斜物體才能保持光波導(dǎo)的上表面與X-Z平面平行。由于物體是圍繞光波導(dǎo)輸入面的中心旋轉(zhuǎn)，而不是頂部邊緣，所以Y的位置也需要略做改變。在物體傾斜的前后表面上都設(shè)置拾取 (Pickup) 求解以確保他們與Y-Z平面保持平行。BEF是系統(tǒng)中最復(fù)雜的元件。手動復(fù)制父棱鏡將非常耗時，且在光線追跡時需要大量內(nèi)存。

條紋對比度可見性為： 條紋對比度可見性是由孔隙處光強度和相干系數(shù)的模決定的。|μ12| 的值在 0 和 1 之間，它僅僅是兩個孔隙的光場在時間平均基礎(chǔ)上的關(guān)聯(lián)程度。對于I1 = I2 的情況，我們可以看到 V = |μ12| 。 照射孔隙的光的相干因子 μ12 是由光源大小、光源的空間相干函數(shù)和光源到孔隙平面的傳播距離組成的函數(shù)。

對比度從檢測器的中心區(qū)域計算，每個光源寬度的值在相應(yīng)圖像的標(biāo)題中報告。值得注意的是，當(dāng)光源從 50 μm 增加到 150 μm，然后再從150 μm 增加到250 μm 時條紋會有相位反轉(zhuǎn)。 模擬結(jié)果和理論的對比現(xiàn)在，我們可以將模擬條紋對比度（采用適當(dāng)?shù)姆栠x擇來表示相干因子）覆蓋在本文開頭的理論曲線上。

請注意，只有傾斜物體才能保持光波導(dǎo)的上表面與X-Z平面平行。由于物體是圍繞光波導(dǎo)輸入面的中心旋轉(zhuǎn)，而不是頂部邊緣，所以Y的位置也需要略做改變。在物體傾斜的前后表面上都設(shè)置拾取 (Pickup) 求解以確保他們與Y-Z平面保持平行。 BEF是系統(tǒng)中最復(fù)雜的元件。手動復(fù)制父棱鏡將非常耗時，且在光線追跡時需要大量內(nèi)存。

光線通過單軸晶體時，分為o光(ordinary)和e光(extraordinary)，其中o光電場分量與主平面（光線與光軸組成的平面）垂直，e光電場分量與主平面平行，在晶體內(nèi)o光和e光的速度一般會不同（與光軸和光線方向有關(guān)），即等效折射率不同，所以兩種光分開一個很小的角度，而且傳播同樣距離會有一個相位差。由于o光e光偏振角度不同，并不能直接相干，但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。

如何產(chǎn)生光線？ 我們的答案是一種基于物理光學(xué)并且光線光學(xué)也包含在其中的方式。用戶可以選擇“Include Diffraction-Induced Contribution to Ray Direction”選項。然后，在高斯光束或任何其他光源模式的情況下，計算應(yīng)該追跡通過的系統(tǒng)的第一個表面上模式的發(fā)散度，包括其衍射效應(yīng)。這給我們提供了生成光線所需的信息，光線的方向包括發(fā)散度。

，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長線指向一點。

相干光源定義 在FRED中有一些默認(rèn)的光源，包括平行光源，點光源，高斯TEM00模激光束和激光二極管光束。相干的高斯He-Ne激光束用于這個例子。一個高斯光束的輸入?yún)?shù)有光束大?。ㄊ肟讖剑⒕W(wǎng)格大?。ㄔ诓蓸悠矫嫣幍难堪肟讖剑┖驼麄€平面上點的數(shù)目。一個好的經(jīng)驗法則是設(shè)定光束大小（束腰半徑）為網(wǎng)格尺寸的一半。

在雙折射介質(zhì)中，S和P表示與晶軸垂直或平行的方向，而不是參考于表面法向量。其中尋常光的折射率為垂直方向（S偏振態(tài)）的折射率，非尋常光的折射率為平行方向（P偏振態(tài)）的折射率。 如果模式參數(shù)為0，則系統(tǒng)追跡尋常光線（只包含S分量），P分量光的透過率為0。如果設(shè)置模式參數(shù)為1則系統(tǒng)追跡非尋常光線，S分量光的透過率為0。

這意味著使用瓊斯矩陣表面或物體的前提假設(shè)是入射光線需垂直于瓊斯矩陣表面，例如將瓊斯矩陣表面放置在平行光束中。該假設(shè)也與大部分實際應(yīng)用環(huán)境相符：多數(shù)起偏器或波片都是在平行光或發(fā)散角較小的光束中使用的。如果一束平行光垂直入射至瓊斯矩陣表面，則由于k·E = 0 并且向量k可表示為{0, 0, 1} 因此Ez必須為零，這樣我們就可以只用Ex和Ey分量來描述偏振。