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，右擊曲線，選擇“0D from 1D”，即可以查看目標頻點（16GHz）處的傳輸特性幅度和相位隨參數掃描的變化。

MZI的一個臂設有電極，由于其下電光材料薄膜鈮酸鋰的存在，可以通過對電壓的調節在該臂上產生一個額外的相位偏移Δφ。兩個不同相位差的光信號進入2×2 MMI之后在多模區產生干涉。如圖2b和c所示，當兩個輸入光的相位差為π/2時光從上方的輸出通道輸出，當相位差為3π/2時光從下方的輸出通道輸出。而這兩個數值之外的相位差則使輸入光以一定的比例從上下兩個輸出通道同時輸出，如圖2d所示。

MZI的一個臂設有電極，由于其下電光材料薄膜鈮酸鋰的存在，可以通過對電壓的調節在該臂上產生一個額外的相位偏移Δφ。兩個不同相位差的光信號進入2×2 MMI之后在多模區產生干涉。如圖2b和c所示，當兩個輸入光的相位差為π/2時光從上方的輸出通道輸出，當相位差為3π/2時光從下方的輸出通道輸出。而這兩個數值之外的相位差則使輸入光以一定的比例從上下兩個輸出通道同時輸出，如圖2d所示。

然而，對于更復雜的系統，解析解將不存在或難以計算，我們可以使用光線追跡和優化功能在OpticStudio中設計理想的相位掩模。第2步：單位單元仿真-高度和半徑掃描在這一步中，我們掃描納米棒的高度和半徑，并獲得其透射、相位和近場信息，從而選擇出對應所需傳輸和相位特性的納米棒高度情況，然后保存相位與光場相對于半徑的結果以供后續步驟使用。

01陣列天線的波束掃描陣列天線是一種由多個天線單元組成的集成系統，通過波束掃描技術，改變天線單元間的相對相位和幅度，從而實現對波束的方向和形狀的控制。

01陣列天線的波束掃描陣列天線是一種由多個天線單元組成的集成系統，通過波束掃描技術，改變天線單元間的相對相位和幅度，從而實現對波束的方向和形狀的控制。

此外， TE基模的有效折射率是通過掃描電壓時，從FEEM所得的結果中收集的。最終得到了下圖顯示的結果，有效折射率與施加電壓為線性關系。在不同電壓下，折射率的實部相對于0V時的折射率的發生了變化。我們以Lπ作為度量參數，表示產生π相位變化所需的調制波導長度。該值與電壓相乘以得到VπL，是調制器性能的重要指標。

因此，我們第一步要做的便是對不同結構參數下的超透鏡單元進行仿真模擬，并輸出其掃描相位結果，如圖1所示為簡單的矩形介質結構超表面通過腳本掃描得到的結果。在這一過程中，通常需要點監視器、面監視器以及其他監視器的協同，并通過腳本或者FDTD自帶的掃描功能對相位結果進行輸出。

然而，對于更復雜的系統，解析解將不存在或難以計算，我們可以使用光線追跡和優化功能在OpticStudio中設計理想的相位掩模。第2步：單位單元仿真-高度和半徑掃描在這一步中，我們掃描納米棒的高度和半徑，并獲得其透射、相位和近場信息，從而選擇出對應所需傳輸和相位特性的納米棒高度情況，然后保存相位與光場相對于半徑的結果以供后續步驟使用。

然而，對于更復雜的系統，解析解將不存在或難以計算，我們可以使用光線追跡和優化功能在OpticStudio中設計理想的相位掩模。第2步：單位單元仿真-高度和半徑掃描在這一步中，我們掃描納米棒的高度和半徑，并獲得其透射、相位和近場信息，從而選擇出對應所需傳輸和相位特性的納米棒高度情況，然后保存相位與光場相對于半徑的結果以供后續步驟使用。

該掃描的輸出文件包含相位和幅度的數據庫信息，為 EH_and_phase_vs_radius_interp_rcwa.mat。請注意，掃描是針對離散數量的相位執行的，這意味著納米單元的可能半徑的離散數量。這給最終輪廓帶來了一定程度的離散化，應該也與納米單元的制造限制有關。

? 因此可以通過傾斜探測器以避免線性相位疊加，正如LSC.0001中提到。? 像散球相位表明在x和y方向不同光束尺寸組形成的一個離焦光斑。 ? 由更準確的場追跡獲得光直徑束明顯高于由光線追跡獲得的結果。此外，由于像散，在x和y方向上所獲得的光束直徑有所不同。? 由場追跡計算的附加物理光學離焦直接影響了場曲的值，如下表所示。

概括案例 1.系統細節? 光源- 綠色激光二極管? 元件- 基于單掃描微鏡的激光掃描系統，例如MEMS（微機電系統）? 探測器- 光線可視化檢查（3D顯示）- 場分布和相位計算- 光束參數（M2值，發散角）? 建模/設計- 光線追跡：首先概覽系統性能- 場追跡：√ 光束傳播包含表面像差√ 分析生成光束的形狀和質量

因此，如果探測器（1）正交于光軸的話，線性相位的疊加依賴于中心方向。 通過傾斜探測器(2)以避免線性相位，根據場的中心方向，可由主光線的方向決定。最后，剩余的球面相位表示離焦像差。 入射角到非球面透鏡是25°。在探測器平面將探測器進行橫向偏移以及傾斜來減小采樣數以分析光束剖面。

超透鏡是一種通過控制表面納米結構來調制光束的幅度和相位，進而實現波前操控（如光束偏轉、光束聚焦和偏振分束等）的新型技術，在之前的文章中已經簡單介紹了介質天線結構和金屬諧振結構的單元仿真，在掃描了不同結構參數對應的相位后，就可以根據目標相位曲線進行相關建模和仿真。

因此，如果探測器（1）正交于光軸的話，線性相位的疊加依賴于中心方向。 通過傾斜探測器(2)以避免線性相位，根據場的中心方向，可由主光線的方向決定。最后，剩余的球面相位表示離焦像差。 入射角到非球面透鏡是25°。在探測器平面將探測器進行橫向偏移以及傾斜來減小采樣數以分析光束剖面。

步驟2：微納單元仿真–高度和半徑掃描（未涵蓋）此步驟包括對微納單元參數（例如納米棒的半徑）進行掃描，以確定微納單元的局部特性與其輸出相位和振幅之間的關系，生成納米單元響應的數據庫。該過程不受超透鏡整體尺寸規模影響。該掃描的輸出文件包含相位和幅度的數據庫信息，為 EH_and_phase_vs_radius_interp_rcwa.mat。

因此，如果探測器（1）正交于光軸的話，線性相位的疊加依賴于中心方向。 通過傾斜探測器(2)以避免線性相位，根據場的中心方向，可由主光線的方向決定。最后，剩余的球面相位表示離焦像差。 入射角到非球面透鏡是25°。在探測器平面將探測器進行橫向偏移以及傾斜來減小采樣數以分析光束剖面。

這種穩定的能量分布模式，不僅驗證了 HOE 對光束相位調制的有效性，也為其在高精度應用中的可靠性提供了有力支撐。圖5. 200μm，700μm和1200μm的光場分布利用XZ的參數掃描創建橫向的強度分布，如圖6所示。可以看到在HOE后面0到1.5mm的范圍內光束保持聚焦的狀態，和高斯光束的聚焦相比，貝塞爾光束保持較大的DOF。這種長焦深得益于軸錐鏡的相位分布函數。

?因此可以通過傾斜探測器以避免線性相位疊加，正如LSC.0001中提到。?像散球相位表明在x和y方向不同光束尺寸組形成的一個離焦光斑。 ?由更準確的場追跡獲得光直徑束明顯高于由光線追跡獲得的結果。此外，由于像散，在x和y方向上所獲得的光束直徑有所不同。?由場追跡計算的附加物理光學離焦直接影響了場曲的值，如下表所示。