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鑒于當前疫情期間，為了滿足大家對于ZEMAX 成像設計的學習需求，2022年7月6日- 7日，武漢宇熠科技通過騰訊會議直播開展了第十六期線上培訓活動——“ZEMAX 成像設計線上培訓”（點擊查看培訓詳情）。本次培訓，由武漢宇熠高級光學工程師主講，針對序列成像設計，幫助學員們掌握 優化技巧、公差分析技巧、熱分析、像質評價、坐標變換 等知識點。

為進一步加深大家對 Zemax 成像設計的理解，2022年4月14日-15日，武漢宇熠開展了有關“ Zemax 成像設計”的線上培訓活動。

近日，華東師范大學精密光譜科學與技術國家重點實驗室謝微團隊[1]提出基于自由曲面反射鏡的高分辨率成像光譜儀設計方法，通過“離軸拋物面分段拼接+Zernike多項式擬合”的創新路徑，通過Zemax仿真優化，成功實現全波段全視場像差校正，其光譜分辨率達0.015nm，優于市面同類型商用產品，為高分辨率成像光譜儀的設計提供了全新思路。

課程大綱 Zemax 成像設計線上培訓 01 OpticStudio 軟件功能介紹;02 材料庫、鏡頭庫介紹；03 如何定義新材料；04 如何使用鏡頭庫；

ZEMAX標準成像課程　　　　☆本課程為Zemax標準學習課程，專門針對剛接觸Zemax或簡單使用過Zemax的學員而設置，通過本課程密集培訓和練習互動后，能夠設計光學系統，并能進行分析、優化和公差評估。主要內容包括：　　1、光學理論基礎介紹，幾何經典成像理論，像差理論，一階光學與三階光學計算像差，像差產生原因及平衡像差的方法。　　

ZEMAX 標準成像課程 ☆本課程為ZEMAX標準學習課程，專門針對剛接觸ZEMAX或簡單使用過ZEMAX的學員而設置，通過本課程密集培訓和練習互動后，能設計光學系統，并能分析、優化和公差評估。

培訓亮點a.培訓由宇熠高級光學工程師主講，針對序列成像設計，幫助學員們掌握 優化技巧、公差分析技巧、熱分析、像質評價、坐標變換 等知識點。b.本次培訓會根據最新的 Ansys Zemax 功能特色，結合當今實際的鏡頭設計過程中可能碰到的問題，來給大家總結出一些最新的解決方案。不僅有理論上的知識分享，還有更多的實操環節，以理論結合實踐的方式，提高大家的學習效率。

這次仍然是應用廣泛需求不斷的 Ansys Zemax 成像設計課程，有意向就不要再錯過啦！ 01、培訓特色 本次培訓主題為『Ansys Zemax 成像設計』，由宇熠高級光學工程師主講，針對序列成像設計，幫助學員們掌握 優化技巧、公差分析技巧、熱分析、像質評價、坐標變換 等知識點。

綜合考慮客戶需求，宇熠決定將新一期培訓地點定在山明水秀的杭州，主題是在工作中應用廣泛的『Ansys Zemax 成像設計』。 本次培訓由宇熠高級光學工程師主講，針對序列成像設計，幫助學員們掌握 優化技巧、公差分析技巧、熱分析、像質評價、坐標變換 等知識點。線下培訓學習效率更高、更豐富、更精準，可直接與老師面對面交流提問，當場解決記憶深刻。

01 培訓介紹 由于很多客戶反饋錯過了上次的線下培訓，武漢宇熠將在4月24日-26日舉辦為期3天的成像設計培訓活動！本次培訓主題為『AnsAnsys> Zemax 成像設計』，由宇熠高級光學工程師主講，針對序列成像設計，幫助學員們掌握 優化技巧、公差分析技巧、熱分析、像質評價、坐標變換 等知識點。

培訓信息 主辦單位：武漢宇熠科技有限公司 培訓主題：Zemax 成像設計 培訓形式：線上培訓 培訓時間：2022年7月6~7日 (9:00-17:

系統仿真：多軟件聯合驗證方案可行性在完成光柵結構設計與Zemax成像性能驗證后，團隊采用Lighttools與Rsoft軟件搭建了完整的L型光柵波導系統仿真模型，對全系統的眼動范圍均勻性、能量效率進行了全面驗證，同時結合Zemax的成像仿真結果，形成了“設計-成像驗證-系統驗證”的完整仿真流程。

光學成像測量法憑借非接觸、抗干擾強等優勢成為主流選擇，但透鏡裝配偏心導致的光軸不重合、測量誤差大等技術瓶頸，長期制約著測量精度的提升。長春理工大學段潔副教授團隊基于Zemax光學設計軟件成功研發出對稱式雙遠心光路-雙CCD光學成像系統[1]，有效解決了大型階梯軸直徑測量的精度難題。

MTF曲線整體提升，全視場成像質量均滿足設計要求，實現極端溫度下的像質穩定。

，使系統成像質量達到衍射極限。

Zemax憑借全流程光學設計與仿真能力，成為解決這些問題的關鍵支撐，實現從理論設計到工程落地的高效轉化。</p><p><br></p><p><strong>Zemax完成原理建模與參數精準確定</strong></p><p>本系統基于雙目立體成像原理實現炮膛疵病三維測量，通過Zemax完成原理建模、工況仿真與核心參數優化，為后續設計奠定精準基礎。

這些指標為后續光學結構設計與仿真優化提供了明確的性能邊界，確保設計方案兼具科學性與實用性。基于ZEMAX仿真優化該設計全程采用ZEMAX光學設計軟件進行建模、優化與性能分析，通過分階段設計、逐步迭代的方式，實現光學系統性能的極致提升。1）物鏡前組設計與優化前組透鏡采用雙膠合透鏡結構，具有焦長短、放大率大、成像質量好的特點，適合與后組透鏡高效耦合。

各 Lumerical 套件之間的靈活互操作性支持多種工作流程，將設備多物理和系統級光子電路模擬與第三方設計自動化和生產力工具相結合。 Zemax光學設計產品集合 Zemax 光學產品集合能夠準確地模擬系統的光學性能，并評估最終的成像、照明效果。通過預測和驗證系統和材料變化對系統性能和感官影響 - 所有這些都是在真實條件下進行的。

工作流程 通常情況下，投影光學設計分為成像與非成像兩個方向。 #1 成像光學設計 投影鏡頭設計目前最流行的手段是采用OpticStudio完成。在這一流程中需要對成像質量進行完整的評估。主要指標包含投放畫面的亮度、對比度、透射比、分辨率、遠心度、反遠距、垂直色差等參數。