【線上培訓】Zemax 成像設計課程 招生中
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01 OpticStudio 軟件功能介紹; 02 材料庫、鏡頭庫介紹; 03 如何定義新材料; 04 如何使用鏡頭庫; 05 像差理論介紹; 06 Zemax 里像差分析圖譜; 07 優(yōu)化; 08 局部優(yōu)化 09 全局優(yōu)化; 10 錘形優(yōu)化; 11 優(yōu)化函數(shù)架構技巧; 12 單透鏡優(yōu)化實例 13 雙膠合優(yōu)化實例; 14 熱分析及衍射光學元件的使用; 15 實例設計及分析; 16 MTF 17 雙高斯鏡頭設計及優(yōu)化; 18 像質評價與圖像模擬; 19 坐標變換; 20 坐標斷點面的使用技巧 21 序列模式棱鏡建模; 22 掃描反射鏡設計實例; |
23 柯勒照明綜合設計實例; 24 投影系統(tǒng)設計 25 集光系統(tǒng)設計; 26 暗盒系統(tǒng)介紹; 27 分析工具應用; 28 尋找最佳非球面 29 曲率套樣板; 30 鏡頭匹配工具; 31 Zemax 公差分析功能介紹; 32 加工誤差、裝配誤差; 33 靈敏度分析; 34 反靈敏度分析; 35 蒙特卡羅分析; 36 公差評價標準; 37 公差操作數(shù); 38 補償變量的使用; 39 單透鏡公差分析; 40 庫克鏡頭公差分析; 41 分析報告查看說明; 42 公差腳本的使用; 43 鏡頭出圖、CAD 出圖; 44 小結及答疑。 |
培訓時間:2022年4月14~15日 (9:00-17:00)
培訓費用:¥ 1980元 / 人
(三人及以上組團報名可享八折優(yōu)惠)
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銷售熱線:027-87878386
咨詢郵箱:sales@ueotek.com
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