偏振光干涉
關注創建者：匿名 創建時間：2025-12-02
偏振光干涉的視頻教程
偏振光干涉的實例教程
? 雙折射晶體和偏振光干涉
? 光源偏振設置
? 雙折射材料方向和其他設定
? 干涉結果和光線性質查看
? 漸變折射率(GRIN)材料
? 腳本設置漸變折射率材料
? 定性模擬結果
雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現象在實際中有很多應用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗，設置如下圖所示：左側是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經過方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過設置偏振鍍膜來實現的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來計算光強。
圖1. 系統設置
下面設置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類型為取樣雙折射材料或旋光性物質（sampled birefringent and/or optically active material），波長設置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設為1.66 和 1.49，光軸方向設置為z軸（0，0，1）。
圖2. 雙折射材料
偏振片是通過偏振鍍膜來實現的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3. 偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細光源。命名為Diverging beam，光源的類型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點發出，并且把這一點選在z軸負軸的某一點(0,0,-20)。
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雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現象在實際中有很多應用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗，設置如下圖所示：左側是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經過方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過設置偏振鍍膜來實現的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來計算光強。
圖1.系統設置
下面設置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類型為取樣雙折射材料或旋光性物質（sampled birefringent and/or optically active material），波長設置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設為1.66 和 1.49，光軸方向設置為z軸（0，0，1）。
圖2.雙折射材料
偏振片是通過偏振鍍膜來實現的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3.偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細光源。命名為Diverging beam，光源的類型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點發出，并且把這一點選在z軸負軸的某一點(0,0,-20)。
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雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現象在實際中有很多應用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗，設置如下圖所示：左側是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經過方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過設置偏振鍍膜來實現的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來計算光強。
圖1. 系統設置
下面設置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類型為取樣雙折射材料或旋光性物質（sampled birefringent and/or optically active material），波長設置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設為1.66 和 1.49，光軸方向設置為z軸（0，0，1）。
圖2. 雙折射材料
偏振片是通過偏振鍍膜來實現的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3. 偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細光源。命名為Diverging beam，光源的類型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點發出，并且把這一點選在z軸負軸的某一點(0,0,-20)。
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雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現象在實際中有很多應用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗，設置如下圖所示：左側是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經過方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過設置偏振鍍膜來實現的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來計算光強。
圖1.系統設置
下面設置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類型為取樣雙折射材料或旋光性物質（sampled birefringent and/or optically active material），波長設置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設為1.66 和 1.49，光軸方向設置為z軸（0，0，1）。
圖2.雙折射材料
偏振片是通過偏振鍍膜來實現的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3.偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細光源。命名為Diverging beam，光源的類型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點發出，并且把這一點選在z軸負軸的某一點(0,0,-20)。
展開 ? 雙折射晶體和偏振光干涉
? 光源偏振設置
? 雙折射材料方向和其他設定
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? 漸變折射率(GRIN)材料
? 腳本設置漸變折射率材料
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雙折射晶體和偏振光干涉
偏振光干涉現象在實際中有很多應用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗，設置如下圖所示：左側是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經過方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過設置偏振鍍膜來實現的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來計算光強。
圖1. 系統設置
下面設置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類型為取樣雙折射材料或旋光性物質（sampled birefringent and/or optically active material），波長設置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設為1.66 和 1.49，光軸方向設置為z軸（0，0，1）。
圖2. 雙折射材料
偏振片是通過偏振鍍膜來實現的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認的就是沿x軸偏振鍍膜。
圖3. 偏振鍍膜
右擊光源文件夾并選擇新建詳細光源。命名為Diverging beam，光源的類型選擇為六邊形平面，方向選擇從某點發出，并且把這一點選在z軸負軸的某一點(0,0,-20)。
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授課時間
2026/6/23（二）-6/24（三）AM 9:00-PM 16:00
授課地點
上海市嘉定區南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室
課程講師
訊技光電工程團隊及資深顧問
</p><p>? 雙折射晶體和偏振光干涉</p><p>? 光源偏振設置</p><p>? 雙折射材料方向和其他設定</p><p>? 干涉結果和光線性質查看</p><p>? 漸變折射率(GRIN)材料</p><p>? 腳本設置漸變折射率材料</p><p>? 定性模擬結果</p><p>雙折射晶體和偏振光干涉</p><p>偏振光干涉現象在實際中有很多應用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗，設置如下圖所示
[FRED] 天文光干涉儀2個月前
簡介
天文光干涉儀能夠實現恒星和星系的高角分辨率的測量。首次搭建的天文光干涉儀分別由菲索（1868）和邁克爾遜（1890）提出。邁克爾遜恒星干涉儀于1920年成功地測出參宿四的直徑。現如今，恒星干涉儀可用于前沿研究，如外行星識別和恒星的超高分辨率（4豪弧秒）成像。在本文中，一種經典的邁克遜恒星干涉儀將會在FRED里面進行設計和分析。
恒星干涉儀設計
系統的幾何結構如圖1所示。干涉儀由四個反射鏡
用于光柵仿真的非偏振光3個月前
光柵仿真中的非偏振光
光柵等光學設備對光的偏振很敏感。 因此，在仿真中正確考慮光的偏振非常重要。 在實踐中，光柵有時使用非偏振光作為輸入。 我們展示了如何將這種非偏振光建模為兩個正交偏振態的平均值，用于 VirtualLab Fusion 中的光柵仿真。 提供了示例來說明軟件中的相應設置。
摘要
光柵等光學設備對光的偏振很敏感。 因此，在仿真中正確考慮光的偏振非常重要。 在實踐中，光柵有時使用非偏振光作為輸入。 我們展示了如何將這種非偏振光建模為兩個正交偏振態的平均值，用于 VirtualLab Fusion 中的光柵仿真。 提供了示例來說明軟件中的相應設置。
光柵仿真中的非偏振光
? 光柵分析
– 對于使用傅立葉模態方法 (FMM / RCWA) 的單光柵分析
摘要
干涉測量是光學計量的重要技術。 例如，在VirtualLab Fusion中構建具有相干激光光源的馬赫澤德干涉儀。 特別是在此示例中插入兩個偏振片以控制兩個干涉光束的偏振態。 通過旋轉其中一個偏振器，可以達到干涉圖案變化的可視化，最終產生空間變化的偏振。
建模任務
干涉圖案隨偏振器旋轉變化
通過偏振光干涉生成空間變化的偏振5個月前
[圖片]
摘要
干涉測量是光學計量的重要技術。 例如，在VirtualLab Fusion中構建具有相干激光光源的馬赫澤德干涉儀。 特別是在此示例中插入兩個偏振片以控制兩個干涉光束的偏振態。 通過旋轉其中一個偏振器，可以達到干涉圖案變化的可視化，最終產生空間變化的偏振。
建模任務
干涉圖案隨偏振器旋轉變化
摘要
像光柵這樣的光學設備對光的偏振比較敏感。 因此，在仿真中適當考慮光的偏振非常重要。 在實際中，光柵有時會以非偏振光作為輸入。 作為兩個正交偏振態的平均值，我們為您展示了如何在VirtualLab Fusion中建模這種用于光柵仿真的非偏振光。 為此，我們提供了示例來說明軟件中的相應設置。
光柵仿真中的非偏振光
?光柵分析
?對于使用傅立葉模態方法
偏振分光立方是一種常用的光學元件，由兩個等邊直角棱鏡組成，透射面之間鍍有偏振分光膜，用于按偏振狀態將入射光學分成兩束互相垂直的光。本案例中，設計了一種偏振使用的分光膜能夠在可見光波段、45°入射條件下p偏振光大部分透射，s偏振光大部分反射。
摘要
