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摘要 干涉測量是光學計量的重要技術。 例如，在VirtualLab Fusion中構建具有相干激光光源的馬赫澤德干涉儀。 特別是在此示例中插入兩個偏振片以控制兩個干涉光束的偏振態。 通過旋轉其中一個偏振器，可以達到干涉圖案變化的可視化，最終產生空間變化的偏振。

摘要 干涉測量是光學計量的重要技術。 例如，在VirtualLab Fusion中構建具有相干激光光源的馬赫澤德干涉儀。 特別是在此示例中插入兩個偏振片以控制兩個干涉光束的偏振態。 通過旋轉其中一個偏振器，可以達到干涉圖案變化的可視化，最終產生空間變化的偏振。

摘要 干涉測量是光學計量的重要技術。 例如，在VirtualLab Fusion中構建具有相干激光光源的馬赫澤德干涉儀。 特別是在此示例中插入兩個偏振片以控制兩個干涉光束的偏振態。 通過旋轉其中一個偏振器，可以達到干涉圖案變化的可視化，最終產生空間變化的偏振。

摘要 干涉測量是光學計量的重要技術。 例如，在VirtualLab Fusion中構建具有相干激光光源的馬赫澤德干涉儀。 特別是在此示例中插入兩個偏振片以控制兩個干涉光束的偏振態。 通過旋轉其中一個偏振器，可以達到干涉圖案變化的可視化，最終產生空間變化的偏振。

兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的，所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線，不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同，這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化，所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。實際上，會在相干環上出現一個暗的十字刷。下面追跡光線并且查看能量分布，如下圖所示。

兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的，所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線，不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同，這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化，所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。實際上，會在相干環上出現一個暗的十字刷。下面追跡光線并且查看能量分布，如下圖所示。

兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的，所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。 對于同一個傾角的光線，不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同，這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化，所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。實際上，會在相干環上出現一個暗的十字刷。 下面追跡光線并且查看能量分布，如下圖所示。

兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的，所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線，不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同，這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化，所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。實際上，會在相干環上出現一個暗的十字刷。下面追跡光線并且查看能量分布，如下圖所示。

偏振片前光線的偏振情況</p><p>下面考慮將偏振片旋轉一定角度后干涉結果會如何變化，如下圖，將偏振片繞z軸旋轉 -80度。

兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的，所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線，不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同，這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化，所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。實際上，會在相干環上出現一個暗的十字刷。下面追跡光線并且查看能量分布，如下圖所示。

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兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的，所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線，不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同，這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化，所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。實際上，會在相干環上出現一個暗的十字刷。下面追跡光線并且查看能量分布，如下圖所示。

兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的，所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線，不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同，這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化，所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。實際上，會在相干環上出現一個暗的十字刷。下面追跡光線并且查看能量分布，如下圖所示。

以馬赫-澤德干涉儀為例，采用分束器、反射鏡和透鏡構成干涉儀的基本結構，在干涉儀的兩個臂上插入偏振片，通過旋轉偏振片產生空間變化的偏振態。既然我們討論的是偏振片，有必要提到VirtualLab Fusion提供了一個超越Jones矩陣方法的非近軸模型。

由此，我們可以看到，當偏振光入射到表面時，S和P偏振態是相對于該表面定義的。如果該表面涂有涂層，則透射光的部分可能會發生顯著變化，具體取決于系統管理器中定義的參考方法。 以一個點物體為例，它位于具有P狀態通過鍍層的平面前方一定距離處；來自該點的光被定義為具有初始偏振態Jx=0，Jy=1。使用X或Y軸參考，通過系統傳輸（或阻擋）的S和P偏振光的量在整個表面上顯著變化。

由此，我們可以看到，當偏振光入射到表面時，S和P偏振態是相對于該表面定義的。如果該表面涂有涂層，則透射光的部分可能會發生顯著變化，具體取決于系統管理器中定義的參考方法。 以一個點物體為例，它位于具有P狀態通過鍍層的平面前方一定距離處；來自該點的光被定義為具有初始偏振態Jx=0，Jy=1。使用X或Y軸參考，通過系統傳輸（或阻擋）的S和P偏振光的量在整個表面上顯著變化。

分析3：斜入射 本分析將研究涉及用非正入射光照射納米線柵偏振器，在45度入射角下仿真具有50%占空比結構（550nm波長，140nm光柵常數）的透射率，并生成場振幅和相位圖。

圖3 x偏振光通過具有+45°光軸的楔形方解石晶體后，探測器上相干矢量場的x和y分量。波片厚度沿著y方向變化，因此在沿著楔形周期性位置處擔當著1/2波片的角色。