顯微鏡設(shè)備
關(guān)注創(chuàng)建者：匿名 創(chuàng)建時(shí)間：2025-11-17
顯微鏡設(shè)備的視頻教程
小波分析和MATLAB程序詳解視頻與科研顯微鏡
【內(nèi)容簡介】《第二版小波分析與應(yīng)用和MATLAB程序詳解視頻》（因?yàn)橐曨l中含有QQ號碼，在淘寶網(wǎng)上被下架了）共9章58節(jié)視頻，總學(xué)時(shí)1272分鐘，合21.2小時(shí)。主要內(nèi)容包括：傅里葉變換提升到小波分析及小波函數(shù)等基本概念，一維和二維離散小波變換等命令的功能及語法，靜態(tài)離散小波變換等命令的功能及語法，小波包分解及最優(yōu)小波樹等概念與降噪應(yīng)用，小波分析在一維信號降噪方面的應(yīng)用問題，小波分析在圖像降噪與壓縮及紋理增強(qiáng)等方面的應(yīng)用問題
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顯微鏡設(shè)備的實(shí)例教程
CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，據(jù)了解，韓國主要電子廠商今年初首次訂購了AFM(原子顯微鏡)設(shè)備，用于可穿戴設(shè)備的LEDoS(LED on silicon)開發(fā)。
AFM是一種可分析到納米級的測量技術(shù)。AFM設(shè)備以往用來檢測大尺寸面板的樣品，預(yù)計(jì)今年起也能為加快韓國Micro Display的開發(fā)做出貢獻(xiàn)。
根據(jù)韓媒Zdnet Korea報(bào)道，據(jù)業(yè)界4月23日消息，韓國主要電子廠商為開發(fā)OELDiS，計(jì)劃今年下半年引進(jìn)AFM設(shè)備。
按應(yīng)用技術(shù)劃分的Micro Display面板結(jié)構(gòu)(來源：三星顯示)
OLEDoS是繼OLED之后的新一代顯示，被備受矚目的Micro Display(微型顯示)的種類之一。Micro Display是指在1英寸(2.54厘米)左右的小尺寸上，具有數(shù)千PPI(每英寸像素?cái)?shù))級別的高像素密度的超高分辨率顯示的統(tǒng)稱。
OLEDoS的獨(dú)特之處在于，它采用無機(jī)物發(fā)光二極管（LED）蒸鍍在硅基板上，而非傳統(tǒng)的玻璃基板。硅基板相較于玻璃基板，其電路中的電子移動(dòng)速度更快，因此有助于提升面板的響應(yīng)速度，實(shí)現(xiàn)更為清晰細(xì)膩的畫質(zhì)。
然而，隨著基板材料的改變以及像素密度的不斷提升，OLEDoS的開發(fā)難度也相應(yīng)增大。目前，除了良品率管理的問題外，可穿戴設(shè)備所要求的高亮度面板實(shí)現(xiàn)也面臨著諸多挑戰(zhàn)。
為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn)，韓國的主要電子廠商在今年初紛紛訂購了AFM設(shè)備，并計(jì)劃將其安裝在OLEDoS面板的研發(fā)產(chǎn)線上。這一舉措是對AR（增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)）、XR（擴(kuò)展現(xiàn)實(shí)）等可穿戴設(shè)備用面板開發(fā)的重要投資。預(yù)計(jì)該設(shè)備將在今年下半年中完成安裝。
AFM設(shè)備以其獨(dú)特的測量方式脫穎而出，其探針能夠以原子為單位接近樣品表面，并通過與表面之間的相互作用來精確測量樣品。與傳統(tǒng)的電子顯微鏡（SEM）相比，AFM能夠?qū)崿F(xiàn)數(shù)納米（nm）級別的極高精度測量。
展開 熒光顯微鏡主要應(yīng)用在生物領(lǐng)域及醫(yī)學(xué)研究中，能得到細(xì)胞或組織內(nèi)部微細(xì)結(jié)構(gòu)的熒光圖像，在亞細(xì)胞水平上觀察諸如Ca2+ 、PH值，膜電位等生理信號及細(xì)胞形態(tài)的變化，是形態(tài)學(xué)，分子生物學(xué)，神經(jīng)科學(xué)，藥理學(xué)，遺傳學(xué)等領(lǐng)域中新一代強(qiáng)有力的研究工具。
以共聚焦技術(shù)為原理的共聚焦顯微鏡，是用于對各種精密器件及材料表面進(jìn)行微納米級測量的檢測儀器。
材料科學(xué)的目標(biāo)是研究材料表面結(jié)構(gòu)對于其表面特性的影響。因此，高分辨率分析表面形貌對確定表面粗糙度、反光特性、摩擦學(xué)性能及表面質(zhì)量等相關(guān)參數(shù)具有重要意義。共焦技術(shù)能夠測量各種表面反射特性的材料并獲得有效的測量數(shù)據(jù)。
VT6000共聚焦顯微鏡基于共聚焦顯微技術(shù)，結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等，可以對器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像，實(shí)現(xiàn)器件表面形貌3D測量。在材料生產(chǎn)檢測領(lǐng)域中能對各種產(chǎn)品、部件和材料表面的面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、平面度、粗糙度、波紋度、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測量和分析。
應(yīng)用
1.MEMS
微米和亞微米級部件的尺寸測量，各種工藝（顯影，刻蝕，金屬化，CVD， PVD，CMP等）后表面形貌觀察，缺陷分析。
2.精密機(jī)械部件，電子器件
微米和亞微米級部件的尺寸測量，各種表面處理工藝，焊接工藝后的表面形 貌觀察，缺陷分析，顆粒分析。
3.半導(dǎo)體/ LCD
各種工藝（顯影，刻蝕，金屬化，CVD，PVD，CMP等）后表面形貌觀察， 缺陷分析 非接觸型的線寬，臺階深度等測量。
4.摩擦學(xué)，腐蝕等表面工程
磨痕的體積測量，粗糙度測量，表面形貌，腐蝕以及亞微米表面工程后的表面形貌。
激光共聚焦顯微鏡測量技術(shù)在汽車工業(yè)上的應(yīng)用
展開 奧林巴斯BX43顯微鏡系統(tǒng)是您進(jìn)行高質(zhì)量微觀世界探索的理想伙伴，它將先進(jìn)的光學(xué)技術(shù)與人性化設(shè)計(jì)完美結(jié)合，為用戶提供了一個(gè)既經(jīng)濟(jì)又解決方案。
高NA物鏡的深聚焦能夠產(chǎn)生更小的PSF（點(diǎn)擴(kuò)展函數(shù)），對于高分辨率顯微鏡系統(tǒng)至關(guān)重要。在許多其他顯微鏡系統(tǒng)中，如浸入式顯微鏡使用蓋玻片將浸沒液體和樣本分開。這可能會(huì)使焦平面上的PSF失真。 我們證明在蓋玻片后面不對稱的PSF被進(jìn)一步拉長。 此外，廣泛用于數(shù)十納米分辨率的STED（受激發(fā)射損耗）顯微鏡則需要消耗環(huán)形的PSF。遵循P.T?r?k和P.R.T Monro提出的方法，我們對高斯-拉格勒光束的深聚焦進(jìn)行建模。 演示了如何產(chǎn)生環(huán)形PSF。
用高NA浸入式顯微鏡進(jìn)行深聚焦
在VirtualLab Fusion中，可以直接分析蓋玻片的界面對PSF的影響。 以完全矢量的方式演示并分析了蓋玻片后面的焦點(diǎn)變形。
STED顯微鏡中Gaussian-Laguerre光束的聚焦
結(jié)果表明，高階Gaussian-Laguerre光束的聚焦會(huì)產(chǎn)生一個(gè)環(huán)形的PSF。 所述環(huán)形PSF的尺寸除其他變量外還取決于光束的特定級次。
展開 4、非破壞性測量：作為一種光學(xué)技術(shù)，共聚焦顯微鏡允許在不接觸或不破壞樣品的情況下進(jìn)行測量。
5、軟件分析工具：現(xiàn)代共聚焦顯微鏡通常配備有專門的軟件，可以進(jìn)行各種測量和分析，如距離、體積、形狀和紋理分析。
6、適用于多種材料：共聚焦顯微鏡可以用于測量各種不同類型的材料，包括金屬、塑料和半導(dǎo)體材料。
共聚焦、光學(xué)顯微鏡與測量顯微鏡的區(qū)別
“共聚焦顯微鏡”、“測量顯微鏡”和“光學(xué)顯微鏡”這三個(gè)名稱描述的是顯微鏡技術(shù)及其應(yīng)用的不同方面。
光學(xué)顯微鏡：這是一類利用光學(xué)原理成像的顯微鏡，通過透鏡系統(tǒng)放大樣品的圖像。光學(xué)顯微鏡是顯微鏡的基礎(chǔ)類別，包括了傳統(tǒng)的明場、暗場、相差顯微鏡等，它們主要依賴于可見光來進(jìn)行樣品的觀察和成像。
共聚焦顯微鏡：共聚焦顯微鏡是光學(xué)顯微鏡的一個(gè)子類別，它使用一種特殊的成像技術(shù)，通過空間選擇性地只收集樣品焦平面上的光，從而獲得比傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡更高的分辨率和更清晰的圖像。共聚焦顯微鏡能夠進(jìn)行二維和三維成像，是光學(xué)顯微鏡技術(shù)中較為先進(jìn)的一種。
測量顯微鏡：這是一種用途上的分類，指的是用于精確測量樣品尺寸、形狀、表面粗糙度等物理特性的顯微鏡。測量顯微鏡可以是光學(xué)顯微鏡，也可以是電子顯微鏡或其他類型的顯微鏡，關(guān)鍵在于它們配備了用于測量的工具和功能。共聚焦顯微鏡因其高精度的三維成像能力，常被用作一種高級的測量顯微鏡。
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顯微鏡設(shè)備的最新內(nèi)容
5.3 生物醫(yī)療：內(nèi)窺鏡與顯微成像的進(jìn)化方向
在醫(yī)療領(lǐng)域，內(nèi)窺鏡、手術(shù)顯微鏡、眼科診斷設(shè)備等都面臨著共同的痛點(diǎn)：工作距離不斷變化，操作者需要頻繁手動(dòng)對焦；設(shè)備需要盡可能微型化以減少侵入性；環(huán)境光線條件不可控。這些痛點(diǎn)，恰好是波前編碼技術(shù)的天然用武之地。
威睛光學(xué)的無焦點(diǎn)技術(shù)可以將內(nèi)窺鏡的清晰工作距離從傳統(tǒng)方案的幾毫米至幾厘米狹窄范圍，擴(kuò)展到數(shù)厘米甚至十幾厘米的全焦段。
[NEWSLETTER] 受激發(fā)射損耗（STED）顯微鏡2個(gè)月前
超分辨率顯微鏡——光學(xué)系統(tǒng)，可以達(dá)到超過眾所周知的阿貝衍射極限——已經(jīng)有了廣泛的用途，因?yàn)楂@得最大可能的分辨率是該領(lǐng)域的關(guān)鍵目標(biāo)之一。實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的一種方法是受激發(fā)射損耗（STED）的概念。在這里，熒光樣品由兩個(gè)激光照射，其中一個(gè)由相位板塑造成甜甜圈模式。通過化學(xué)過程，樣品重新發(fā)出的光將只來自甜甜圈模式的中心點(diǎn)，這可以配置為比經(jīng)典的焦點(diǎn)小得多，從而提高了圖像的分辨率。
光學(xué)建模和設(shè)計(jì)軟件VirtualLab
摘要
受激發(fā)射損耗(STED)顯微鏡描述了一種常用的技術(shù)，以實(shí)現(xiàn)在生物應(yīng)用的超分辨率。在這種方法中，兩束激光—一束正常，一束轉(zhuǎn)變成甜甜圈模式—被疊加到熒光樣品上。通過使用熒光過程的發(fā)射和損耗以及利用由此產(chǎn)生的飽和效應(yīng)，與通常的顯微鏡技術(shù)(例如，寬視場顯微鏡)相比，后反射光顯示出更高的分辨率。在本文檔中，介紹了這種設(shè)備的基本設(shè)置。為了模擬飽和效應(yīng)，在焦點(diǎn)區(qū)域采用等效孔徑。
任務(wù)說明
共聚焦掃描顯微鏡的工作原理3個(gè)月前
建模任務(wù)
共聚焦掃描顯微鏡是如何工作的，它如何檢測物體橫向位移導(dǎo)致的功率變化？
共聚焦掃描顯微鏡在 1950 年代由 M. L. Minsky 發(fā)明并獲得專利，后來又以采用激光作為光源的新穎性獲得了廣泛的應(yīng)用。 通過使用空間針孔來阻擋從焦平面外散射或反射的光，有助于提高縱向分辨率和對比度。 在本例中，我們在VirtualLab
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概述
這篇文章介紹了如何在 OpticStudio 中將序列模式和非序列模式結(jié)合，來設(shè)計(jì)一個(gè)共焦熒光顯微鏡。這個(gè)光學(xué)系統(tǒng)主要由兩部分組成：將激光輸送到顯微物鏡的激光聚焦（和準(zhǔn)直）系統(tǒng)，以及顯微物鏡、鏡筒透鏡和探測器組成的成像系統(tǒng)。本文提供了設(shè)計(jì)共聚焦顯微鏡的流程以及如何建立用于優(yōu)化的評價(jià)函數(shù)，還有如何利用轉(zhuǎn)換為 NSC 組工具將整個(gè)序列模式系統(tǒng)轉(zhuǎn)換為非序列模式
[VirtualLab] 共聚焦掃描顯微鏡的工作原理3個(gè)月前
摘要
共聚焦掃描顯微鏡在 1950 年代由 M. L. Minsky 發(fā)明并獲得專利，后來又以采用激光作為光源的新穎性獲得了廣泛的應(yīng)用。 通過使用空間針孔來阻擋從焦平面外散射或反射的光，有助于提高縱向分辨率和對比度。 在本例中，我們在VirtualLab Fusion 中構(gòu)建了一個(gè)共聚焦掃描顯微鏡，并使用具有交替脊和凹槽的金屬光柵作為測試對象來演示其工作原理。
建模任務(wù)
共聚焦掃描顯微鏡是如何工作的
核心應(yīng)用領(lǐng)域
高端光學(xué)與精密儀器： 用于消除光學(xué)系統(tǒng)（如鏡頭、望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、紅外傳感設(shè)備）內(nèi)部的雜散光，顯著提升成像對比度與信噪比。
消費(fèi)電子與顯示科技： 應(yīng)用于智能手機(jī)（攝像頭模組、傳感器）、VR/AR設(shè)備、高端電視邊框、智能手表等，提升視覺美感與顯示效果。
航空航天與國防軍工： 為衛(wèi)星內(nèi)部、無人機(jī)、偵察設(shè)備提供高效的光學(xué)偽裝與信號屏蔽，增強(qiáng)設(shè)備隱蔽性與可靠性。
用于革命性成像的高數(shù)值孔徑顯微鏡3個(gè)月前
高分辨顯微鏡離軸成像分析
VirtualLab Fusion是一款光學(xué)建模和設(shè)計(jì)軟件，為光學(xué)工程師提供了一套綜合的可互操作仿真算法，并將其整合到一個(gè)平臺上。這使工程師能夠徹底探索光學(xué)系統(tǒng)，如這些強(qiáng)大的高NA顯微鏡，包括所有相關(guān)的影響，并為他們提供全面探究的必要工具。
高數(shù)值孔徑
具有非常高數(shù)值孔徑的反射顯微鏡系統(tǒng)3個(gè)月前
在單分子顯微鏡成像應(yīng)用中，定位精度是一個(gè)關(guān)鍵問題。由于在某一方向上的定位精度與圖像在同一方向上的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)(point spread function, PSF)的寬度成正比，因此具有較高數(shù)值孔徑(NA)的顯微鏡可以減小點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)的寬度，從而提高定位精度。在這個(gè)案例中，我們演示了NA為0.99 (Inagawa等人，2015) 非常緊湊的反射顯微鏡系統(tǒng)的建模，并將使用VirtualLab
高數(shù)值孔徑(NA)顯微鏡以前所未有的清晰度和精度徹底改變了我們探測生物結(jié)構(gòu)的能力。通過利用光學(xué)原理，具有數(shù)值孔徑的顯微鏡超越了傳統(tǒng)限制，在捕捉復(fù)雜的細(xì)胞結(jié)構(gòu)，動(dòng)態(tài)分子相互作用和微妙的納米級現(xiàn)象方面表現(xiàn)出色。無論是揭開細(xì)胞動(dòng)力學(xué)的奧秘還是深入研究納米材料的復(fù)雜性，高NA顯微鏡使科學(xué)家能夠在微觀世界中推動(dòng)探索和發(fā)現(xiàn)的界限。
VirtualLab Fusion是一款光學(xué)建模和設(shè)計(jì)軟件
