彈性元件設計的案例
《軌道車輛橡膠彈性元件設計計算方法>中的fesafe的讀后感
軌道車輛橡膠彈性元件設計計算方法 model.zip
剛買了《軌道車輛橡膠彈性元件設計計算方法》這本書的，
這本書的第六章里面有關于fesafe分析膠芯壽命的講解。
讀了這本書，關于fesafe的講解，還不如網上的教程講的詳細
哎188頁，花了我差不多五十元錢
附件為這本書的光盤中的模型為第4章“橡膠彈性元件設計技術例解”中的案例結構模型，具體模型文件與書中的案例對應關系如下：
4.1 橡膠堆旁承設計: bearing.x_t
4.2 橡膠球鉸設計：bush.dxf
4.3 軸箱橡膠彈簧設計：axel-spring.dxf
4.4 抗側滾扭桿設計：torsing-bar.x_t
4.5 空氣彈簧設計：airspring-model.dxf
提供了橡膠堆旁承設計中的橡膠堆、壓板工裝等結構的三維文件
展開 hypermesh網格方面的一些論文
42_網格類型及網格連接方式對計算結果的影響分析_薛勁櫓.pdf
17_HyperMesh在成型分析模面設計中的應用_閆麗.pdf
151_三角形網格特征在彈性元件設計分析中的應用-周文勇.pdf
衍射光學元件設計
衍射元件在不斷發展的圖案生成領域扮演著重要的角色，其設計需要特定的技術，而這些技術與其他類型的元件所采用的技術大不相同。
在VirtualLab中可以找到用于衍射元件設計和優化的特定技術(如迭代傅里葉變換算法或IFTA)，可通過一個會話編輯器來完成，引導用戶在不太了解該方法的條件下完成設計過程。過程中包含了對設計約束的自動檢查。
用于生成2D光標的衍射光束分束器設計
VirtualLab中的迭代傅里葉變換算法（IFTA）可以高效和靈活地設計定制化光束分束器。
生成LightTrans圖標的衍射擴散器設計
設計了兩個具有連續或離散相位分布的衍射擴散器，以生成LightTrans商標。并對其性能進行了研究。
展開 液壓元件的設計過程
摘自-張海平《白話液壓》
1.確定市場方向
液壓元件，一般來說，是通用的，其功能到處可用。所以，企業生產液壓元件，很多時候并沒有明確固定的顧客和應用場合。但應該首先確定的是面向哪個市場。
前市場，指的是提供給主機廠，用在新的主機上。針對前市場的產品設計相對比較靈活一些，特別是主機還處于試制階段，允許液壓元件有較大的改動。
一般來說，每批訂貨的數量較多，希望有很高的性能一致性，較高的工作持久性。
后市場，指的是供給最終顧客作為替換件。一般，每批數量不大，對性能一致性及工作持久性的要求低于前市場，對價格往往有較苛刻的要求。但由于門檻較低，因此也常被企業在起步時選作切入點。
2.調研現有產品狀況與顧客需求
了解市場（競爭對手）的價格、目前制造成本、需求量、可能的訂貨量和發展趨勢，從而確定是否值得研制。雖說這些主要是市場部、銷售部的任務，但設計師也應該非常清楚，因為這對以后的工作有很大的影響。
不僅要了解顧客當前的期望，還應知道顧客昨天的期望，想象出顧客明天的期望。智能手機，就是由于設計師想到了顧客還沒有明確表達出的期望，正中顧客下懷，所以能在短時間內迅速排擠掉傳統手機。
3.確定目標產品應該達到的性能
設計師應該全面、準確、明確、書面、清晰、詳細地表述目標產品應該達到的性能。表述過程，也是深化理解產品性能的過程。
對大多數液壓元件的性能要求，國內有相應的行業標準。但應該認識到，行業標準只應該作為最低要求。
4.測繪樣品
機械行業設計師大量的工作是改進現有產品，極少從零開始設計。
測繪現有產品的結構和尺寸，從而仿造，又被稱為逆向工程，是國內大多數液壓元件制造廠目前都在做的。
現代液壓技術經過上百年的持續研發，已經相當成熟，高端產品中高科技含量很高。
展開 
元件化程序設計方法
所謂元件化程序設計方法是指：用操作系統的文件管理系統代替有限元數據管理系統，即把一個有限元程序分解為許多小程序（稱為元件程序）。元件程序是一個完整的程序，可單獨進行編譯、連接和運行，元件程序之間的通訊完全通過磁盤文件實現。由元件程序組成的程序系統通過批命令完成，即把所要執行的文件程序按照一定的順序以操作系統所能接受的命令方式或寫在一個批命令文件上，然后運行這個批命令文件，由操作系統逐條執行。
TIR Lens 之光學元件設計原則
綜觀以上，TIR Lens 之設計須考量澆口尺寸、分模線等限制，由注塑成型實驗得知，元件之成型優劣取決于熔膠進入澆口之速度與方向。高質量TIR 元件須留意殘留應力影響的效應，利用 Moldex3D分析工具，可協助產品設計與成型參數最適化之驗證。而在噴痕與包封之研究中，實際上還須留意三維充填效應，以減少二次包封及降低翹曲。
圖 1：Moldex3D 分析結果之溫度分布剖面
圖 2：產品因噴泉效應導致噴流痕及氣泡
塑膠光學注塑成型技術與應用發展
精密光學元件制程中最重要的就是要應用到精密元件的注塑成型制作技術，目前對光學元件注塑成型技術的研發，著重精密微注塑成型設備與微光學模具的開發制造。其中尤以微光學模具的開發制造最為關鍵與缺乏。綜合來說，光學精密元件在精密制程方面待開發的關鍵議題，在于微注塑成型機的光學模仁之設計與開發；不僅比傳統注塑成型模具復雜，精度要求也較高，目前較缺乏深入而有系統的研究。唯有在實驗和理論兩方面共同努力，以求更深入的探討，進而建立應用的通則，支援未來光電產業界對相關元件制作技術的掌握，俾可加速臺灣光電產業之技術提升。
注塑成型光學鏡片近來已大量應用于各種電子產品，然而厚度變化大與低殘留應力之要求，提高了鏡片制造的困難度。光學元件在 3C 產品中應用廣泛，無論是成像或非成像，光學元件在手機的相機、平面顯示器的背光模組及 LED 照明等產業需求非常明確，因此光學元件之注塑成型模具設計與分析有其必要性，而且是相關產業發展之關鍵技術。在此產業里不乏老字號的光學廠商。由于近年數位影像產品的市場崛起，光學元件產業與市場方有嶄新的風貌，尤其是數位相機與影像手機的市場快速發展，讓光學元件與鏡頭產業欣欣向榮，呈現有史以來的榮景。
展開 直播 | Ansys磁性元件及開關電源設計解決方案
4月14日 | 【Ansys*恩碩科技】Ansys磁性元件及開關電源設計解決方案
簡介：開關電源(SMPS)是重要的電力電子設備，廣泛應用于各類消費電子、工業自動化、電力設備、航空航天、軌道交通等領域。開關電源的研發通常需要關注它的電路功能實現、損耗、發熱及EMC等問題。解決這些問題最先進的方法是利用CAE技術，使仿真與試驗、經驗相結合，形成互補，從而提升研發設計能力，有效指導新產品的研發設計，節省產品開發成本，縮短開發周期，從而大幅度提高企業的市場競爭力。
合作伙伴：武漢恩碩科技有限公司
地點：線上
費用：免費
>>點擊報名：https://v.ansys.com.cn/Live/8d5be559?source=jishulink
4月19日 | 【Ansys*恒士達】LS-DYNA混凝土本構72號模型簡介
簡介：LS-DYNA中有多種用于三維實體單元的混凝土本構模型，其中，72號材料本構模型運用得比較廣泛，本次研討會主要介紹72號材料本構模型的原理、使用方法以及優缺點和適用范圍。可以幫助LS-DYNA用戶能夠正確設定數值參數并在工程應用中合理使用72號材料。
合作伙伴：上海恒士達科技有限公司
時間：長期有效
地點：線上
費用：免費
4月21日 | 【Ansys*恩碩科技】Ansys 板級SI/PI設計解決方案
簡介：
高速PCB電路性能設計有哪些問題和難點？
展開 Lumerical光子集成電路光電元件設計
在 PIC 中，電光調制器和光電探測器是實現這些轉換的基本光電元件。
隨著對帶寬、功效和靈敏度的需求不斷增長，需要尖端的仿真技術將器件模型與制造工藝及其完整的多物理場行為聯系起來。將 Silvaco Victory Process 與 Ansys Lumerical 軟件相結合，實現支持 TCAD 的光子器件仿真，為設計師和工程師提供了必要的工具，可以完整準確地預測、分析和優化光電器件的行為。
工作流概述
光子集成電路 (PIC) 的光電元件設計始于對物理結構和摻雜分布的精確建模，這些結構和摻雜分布定義了器件的光學和電學行為。目標是創建一個能夠反映制造后的器件的物理模型。設計流程從制造工藝的輸入開始：材料和掩模圖案與蝕刻、注入、退火和生長條件相結合。雖然結構的幾何 CAD 模型可以作為早期設計探索的起點，但使用 Silvaco Victory Process 進行工藝仿真對于建立制造步驟和最終物理結構之間的聯系是必不可少的。圖 1 說明了使用 Victory Process 輸入進行光子器件仿真的工作流程。
圖 1. Ansys Lumerical 光子器件仿真工作流程，其中采用 Silvaco Victory Process 的 TCAD 輸入
幾何效應（例如受蝕刻影響的側壁角度和共形沉積的層界面）對于精確仿真光傳播非常重要 [1]。在光電器件中，注入分布的定義受制造工藝限制，對于包括調制效率、暗電流和相關探測器靈敏度以及帶寬在內的品質因素實現最佳性能取舍至關重要。在這里，Silvaco Victory Process 再次成為將這些特定行為與制造輸入聯系起來的必要條件。
展開 amesim液壓元件設計庫教程
雖然在液壓庫中含有大量的經典的液壓元件模型，但是還存在兩個問題
元件的多樣性：不管液壓庫中的元件模型再多，也永遠不夠!模型作用的多樣性：不同假設的靜態，動態特性用戶建模技巧的多樣性
amesim液壓元件設計庫教程.pdf
自動刪減元件|SYNOPSYS光學設計軟件第90課
在光學設計中，人們有時會設計出一個很棒的鏡頭，但后來想知道是否可以用一個更簡單的結構來獲得同樣的性能，這樣就可以避免元件的數量過多。盡管多片的結構可以輕松達到成像的要求，但是往往會造成浪費，使成本大大提升。這個問題可以通過AED來回答，為光學系統刪減元件在保證成像質量的同時降低成本，同時AED 還可以結合AEI使用，以找到更多其他的可能性的結構來完成我們最終的設計。今天我們練習在一個四片式系統中使用AED指令刪減元件，以達到我們設想的結果。
如下是一個四片式鏡頭以及它的三階像差分析，MTF 和 RMS 光斑半徑。
四片式鏡頭的技術指標：
1.焦距f=100mm
2.D/f=1/4.5，F/#=4.5
3.波段：可見光
4.視場角2w=40°
鏡頭文件：
請聯系工作人員獲取
輸入非常簡單，只需要在優化宏文件上準備這樣一行代碼:
AED LLIB[QUIET/0][JSSS[JSPS]] [PCV [C]]
該程序首先使用輸入的優點函數優化當前鏡頭。然后，它依次查看從JSSS到JSPS的表面范圍內的每個元素，并對每個元素執行以下操作：
1.添加半徑和厚度的變量，如果它們還沒有在PANT文件中。
2.增加像差，使兩側曲率差為0。
3.向該元素的厚度添加一個0的目標。
4.優化系統。
如果一切看起來都令人滿意，則很容易刪除該元素：程序將顯示一個框，詢問您是否希望刪除該元素，如果單擊Yes按鈕，則該元素將消失。當該過程完成時，最佳案例將保存在庫位置LLIB中，并顯示在PAD中。PCV為曲率變化量像差的權重。輸入C會在顯示最佳情況和同意刪除該元件后再進行一次優化循環。
展開 Ansys Lumerical | 光子集成電路光電元件設計
在 PIC 中，電光調制器和光電探測器是實現這些轉換的基本光電元件。
隨著對帶寬、功效和靈敏度的需求不斷增長，需要尖端的仿真技術將器件模型與制造工藝及其完整的多物理場行為聯系起來。將 Silvaco Victory Process 與 Ansys Lumerical 軟件相結合，實現支持 TCAD 的光子器件仿真，為設計師和工程師提供了必要的工具，可以完整準確地預測、分析和優化光電器件的行為。
工作流概述
光子集成電路 (PIC) 的光電元件設計始于對物理結構和摻雜分布的精確建模，這些結構和摻雜分布定義了器件的光學和電學行為。目標是創建一個能夠反映制造后的器件的物理模型。設計流程從制造工藝的輸入開始：材料和掩模圖案與蝕刻、注入、退火和生長條件相結合。雖然結構的幾何 CAD 模型可以作為早期設計探索的起點，但使用 Silvaco Victory Process 進行工藝仿真對于建立制造步驟和最終物理結構之間的聯系是必不可少的。圖 1 說明了使用 Victory Process 輸入進行光子器件仿真的工作流程。
圖 1. Ansys Lumerical 光子器件仿真工作流程，其中采用 Silvaco Victory Process 的 TCAD 輸入
幾何效應（例如受蝕刻影響的側壁角度和共形沉積的層界面）對于精確仿真光傳播非常重要 [1]。在光電器件中，注入分布的定義受制造工藝限制，對于包括調制效率、暗電流和相關探測器靈敏度以及帶寬在內的品質因素實現最佳性能取舍至關重要。在這里，Silvaco Victory Process 再次成為將這些特定行為與制造輸入聯系起來的必要條件。
一旦仿真了物理結構（包括材料界面和摻雜分布），就可以輕松地將其從 Silvaco Victory Process 導出并導入 Ansys Lumerical 仿真工具。
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Ansys Zemax | 設計衍射光學元件（DOE）和超透鏡（metalens）
在這篇文章中，我們簡要介紹了使用 OpticStudio 設計衍射光學元件（DOE）和超透鏡（metalens）的過程。我們討論了相位面和局部光柵的概念。附件中還提供了一些有用的DLLs，以支持特殊的 DOE 或 metalens 設計方法。（聯系我們獲取文章附件）
本文討論了衍射光學元件（DOE）和超透鏡（metalens）的設計過程。主要目的是為剛接觸這個課題的設計者提供一個起點，看看 OpticStudio 有哪些方法可使用。
對包括 DOE/metalens 在內的系統進行模擬和設計總是很棘手，沒有通用的方法來處理所有情況。設計師需要根據具體情況決定其設計策略。許多情況下設計過程中需要兩種不同的光學理論/算法來分別處理光束在自由空間和微觀結構中的傳播[1-3]，而也有一些設計單純只使用光線追跡來實現。[4]
在這篇文章中，我們首先簡要介紹了一些可能的設計思路。有關自由空間和 DOE/metalens 中的相位面和傳播方法概念的更多細節將在后面討論。在最后一節，介紹了為特殊相位面設計定制的一些有用的 DLLs。
1. 設計思路
在這一節中，我們簡要地討論了一些經典的設計思路。
1.1 相位 -> 微結構 -> 實驗驗證
在這一過程中，用戶首先將 DOE/metalens 等效為其對應的相位面來在 OpticStudio 中用光線追跡的方法進行設計。然后根據得到的相位分布來設計微結構。圖1顯示了該過程的流程圖。該圖不包括設計的細節，例如，微結構可以是傳統閃耀光柵或現代超透鏡。根據微結構的類型，所需的設計和制造方法可能非常不同。
參考文獻[5]顯示了一個從給定的相位分布生成閃耀光柵的例子。它還討論了采用單點金剛石車削機的制造方式。
展開 光柵光學元件設計 Optiwave OptiGrating v4.2簡介
OptiGrating 主要針對以光柵原理設計的光學元件進行設計，目前有許多的通訊及感應裝置都是根據光柵原理所制造。如：波導光柵技術已被應用在 WDM 光通訊網路、雷射穩定器、溫度及應力感應器。以光柵原理設計之元件可籍由光線傳遞、反射及穿透光譜、群相位延遲、群射散等項目進行分析。 OptiGrating 提供了不同的選項來分析及設計標準的光纖光柵及波導光柵，例如：設計一個布拉格光纖光柵濾波器，其中包含了調整光柵形狀、長度、折射率變化方式、折射率變化值、周期變化值、光纖直徑及折射率值，當設定好這些參數后，就可以讓 OptiGrating 進行模擬其原理是根據耦合模型進行運算，而耦合模型則是使用轉換距陣來計算。
描述:
OptiGrating采用耦合模理論模型的光,使光柵的分析與綜合。
一個復雜的光柵逼近序列的均勻部分,并分析了連接段與著名的傳遞矩陣法。這給設計師所需的信息和優化光柵設計測試。
應用
* WDM添加/刪除,狹窄和寬帶光纖和波導濾波器
*纖維布拉格反射器
* EDFA增益壓扁的元素
*色散補償器的光纖通信
*邊帶抑制使用光柵切趾法
*光纖和波導傳感器
*長周期光柵和耦合到包層模式
展開 揚聲器設計中聲學元件的數值優化策略
01
—
聲學元件的數值優化
之前的文章有提到最新一屆的AES大會將于2018年10月17日至20日在紐約舉辦。
介紹最新AES New York 2018，145th International Pro Audio Convention
其中有一篇論文“Numerical Optimization Strategies for Acoustic Elements in Loudspeaker Design”（揚聲器設計中聲學元件的數值優化策略）。
作者Andri Bezzola是來自三星美國音頻實驗室的工程師。介紹了利用數值優化方法對揚聲器系統中的聲學元件，比如波導，相位塞等進行優化的方法。常用的設計優化算法包括參數優化，形狀優化和拓撲優化。
02
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參數優化
一般來說，參數優化的控制變量建議做一個轉換，將變量取值范圍定義為0~1，或者-1~1。這樣對優化的收斂會有幫助。
文中舉了一個號角優化的例子。采用JBL 2409H壓縮高音單元。
號角的入口，出口，高度都固定。將號角橫截面曲線參數化。
目標函數是使得60°偏軸響應平滑。
展開 設計和優化衍射1：5×5光束分束器元件
選擇束腰和發散角定義類型
確定輸入光束波長及束腰直徑
3) 光學設置
選擇2f系統
確定2f系統參數（焦距和孔徑直徑）
4) 期望輸出光場確認
確認期望輸出光場參數：光束陣列5x5，間距1mmx1mm
確認輸出場直徑（默認情況下為期望輸出場的4倍）
5) 衍射元件參數設置
設置衍射元件參數：孔徑直徑設置
確定衍射元件參數：相位級次確認
設置最小像素尺寸
6) 點擊Finish得到設計優化界面，并點擊Start Design開始進行優化
6. 設計相位傳輸函數（點擊Show得到設計相位傳輸函數）
7.模擬結果
點擊Go！得到設計結果
8.總結
? VirtualLab Fusion幫助用戶設計和優化衍射分束器元件，例如生成矩形點陣列。
? 通過逐步引導，可以幫助毫無設計經驗的工程師完成衍射元件的設計。
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