隨著“Ansys 2026 全球仿真大會”仿真應用大賽正式啟動，我們也再次回顧歷屆優秀獲獎作品，對于正在準備參賽的用戶而言，這些作品或許能帶來一些啟發：什么樣的作品更容易脫穎而出？評委更關注哪些價值？又該如何將真實工程實踐，轉化為高質量的參賽作品？讓我們通過本文一窺優秀作品的共同特征。

圖 1 阻尼器幾何模型示意圖 4、模型設置：在頂面添加一個 30kg 的點質量。創建一個遠程點，剛性約束頂面的運動。使用 “多區域” 網格劃分方法對各部件劃分網格。 5、分析設置與邊界條件：固定阻尼器底面，對遠程點施加 20000N 的水平力。假設工作載荷頻率在 1000Hz 至 1250Hz 之間，將響應頻率設置為 500Hz 至 1500Hz，并添加 0.02 的阻尼系數。

將 1000 千克的點質量分配到大圓柱體的頂部表面上。 （圖2：關節示意圖） 4. 定義分析設置和邊界條件。開啟大變形并定義一些子步。在垂直方向上定義地球重力，并將小圓柱體向下移動 3 毫米。由于流體的體積模量導致體積變化可忽略不計，可以假設體積守恒，大圓柱體的垂直運動應為 3 毫米/402.6 ≈ 0.0075 毫米（圖3）。

指導建筑形態與開窗策略設計、中庭設計、通風口布局、機械輔助通風系統配置，確保室內空氣質量（IAQ）達標，尤其在人員密集場所（交通樞紐、醫院）。

、Nastran 各自求解后對比偏差 守恒性檢驗 質量/動量/能量守恒殘差監控 驗證數值解在全局上滿足基本物理守恒律 對稱性/伽利略不變性檢驗 對稱邊界條件下的解對稱性檢查 排除網格畸變或算法引入的非物理偏差

圖4 （a）入射耦合光柵結構示意圖；（b）入射耦合光柵衍射耦合效率 Zemax精準驗證隨機掩模光柵的 成像性能 在隨機掩模光柵的設計中，掩模的隨機分布是否會影響成像質量，是方案可行性的關鍵驗證點。該團隊采用Zemax搭建仿真模型，對隨機掩模光柵的成像性能進行了系統驗證，為方案的可行性提供了精準的仿真數據支撐。

STAR模塊作為Ansys與Zemax的核心接口，可準確追蹤FEA數據集，將包含剛體位移的面型數據分配至對應光學表面，實現結構變形與光學性能的直接關聯。通過Zemax模擬溫度載荷下的鏡頭離焦量，輸出調制傳遞函數（MTF）曲線（如圖3所示），直觀評價成像質量。

此外，OpticStudio軟件還包含真正的自由曲面選項，該選項不依賴于特定的數學函數進行優化和容差計算，使工程師能夠通過在設計中操縱網格控制點來創建真正的自由曲面。 Ansys仿真還考慮了自由曲面光學元件所處的更廣泛的環境參數，例如局部壓力和溫度，以便用戶全面了解元件的性能表現。

即使整體光透射損耗只有幾個百分點，若未加考慮，也可能導致圖像質量和亮度超出指定范圍。這種影響在HUD和AR/VR頭顯設備中尤為明顯，其會導致低對比度圖像，因此必須通過增加系統功耗來補償。但對于頭顯設備而言，這并不是理想選擇，因為這會產生額外熱量，不僅會讓佩戴者感到不適，還會更快地耗盡電池電量。 雙折射始終會造成一定程度的光學誤差，但制造商很少提供關于其如何影響材料光學性能的信息。

盡管MicroLED尚未達到商業成熟階段，但其相較于其他LED技術在亮度、柔性、圖像質量及使用壽命等方面的顯著性能提升，已使其得以應用于多種先進顯示技術領域。