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關(guān)注創(chuàng)建者:王靖雯 創(chuàng)建時(shí)間:2023-03-08


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ansys質(zhì)量點(diǎn)的最新內(nèi)容
隨著“Ansys 2026 全球仿真大會(huì)”仿真應(yīng)用大賽正式啟動(dòng),我們也再次回顧歷屆優(yōu)秀獲獎(jiǎng)作品,對(duì)于正在準(zhǔn)備參賽的用戶而言,這些作品或許能帶來(lái)一些啟發(fā):什么樣的作品更容易脫穎而出?評(píng)委更關(guān)注哪些價(jià)值?又該如何將真實(shí)工程實(shí)踐,轉(zhuǎn)化為高質(zhì)量的參賽作品?讓我們通過(guò)本文一窺優(yōu)秀作品的共同特征。
圖 1 阻尼器幾何模型示意圖
4、模型設(shè)置:在頂面添加一個(gè) 30kg 的點(diǎn)質(zhì)量。創(chuàng)建一個(gè)遠(yuǎn)程點(diǎn),剛性約束頂面的運(yùn)動(dòng)。使用 “多區(qū)域” 網(wǎng)格劃分方法對(duì)各部件劃分網(wǎng)格。
5、分析設(shè)置與邊界條件:固定阻尼器底面,對(duì)遠(yuǎn)程點(diǎn)施加 20000N 的水平力。假設(shè)工作載荷頻率在 1000Hz 至 1250Hz 之間,將響應(yīng)頻率設(shè)置為 500Hz 至 1500Hz,并添加 0.02 的阻尼系數(shù)。
將 1000 千克的點(diǎn)質(zhì)量分配到大圓柱體的頂部表面上。
(圖2:關(guān)節(jié)示意圖)
4. 定義分析設(shè)置和邊界條件。開(kāi)啟大變形并定義一些子步。在垂直方向上定義地球重力,并將小圓柱體向下移動(dòng) 3 毫米。由于流體的體積模量導(dǎo)致體積變化可忽略不計(jì),可以假設(shè)體積守恒,大圓柱體的垂直運(yùn)動(dòng)應(yīng)為 3 毫米/402.6 ≈ 0.0075 毫米(圖3)。
指導(dǎo)建筑形態(tài)與開(kāi)窗策略設(shè)計(jì)、中庭設(shè)計(jì)、通風(fēng)口布局、機(jī)械輔助通風(fēng)系統(tǒng)配置,確保室內(nèi)空氣質(zhì)量(IAQ)達(dá)標(biāo),尤其在人員密集場(chǎng)所(交通樞紐、醫(yī)院)。
、Nastran 各自求解后對(duì)比偏差
守恒性檢驗(yàn)
質(zhì)量/動(dòng)量/能量守恒殘差監(jiān)控
驗(yàn)證數(shù)值解在全局上滿足基本物理守恒律
對(duì)稱(chēng)性/伽利略不變性檢驗(yàn)
對(duì)稱(chēng)邊界條件下的解對(duì)稱(chēng)性檢查
排除網(wǎng)格畸變或算法引入的非物理偏差
圖4 (a)入射耦合光柵結(jié)構(gòu)示意圖;(b)入射耦合光柵衍射耦合效率
Zemax精準(zhǔn)驗(yàn)證隨機(jī)掩模光柵的
成像性能
在隨機(jī)掩模光柵的設(shè)計(jì)中,掩模的隨機(jī)分布是否會(huì)影響成像質(zhì)量,是方案可行性的關(guān)鍵驗(yàn)證點(diǎn)。該團(tuán)隊(duì)采用Zemax搭建仿真模型,對(duì)隨機(jī)掩模光柵的成像性能進(jìn)行了系統(tǒng)驗(yàn)證,為方案的可行性提供了精準(zhǔn)的仿真數(shù)據(jù)支撐。
STAR模塊作為Ansys與Zemax的核心接口,可準(zhǔn)確追蹤FEA數(shù)據(jù)集,將包含剛體位移的面型數(shù)據(jù)分配至對(duì)應(yīng)光學(xué)表面,實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)變形與光學(xué)性能的直接關(guān)聯(lián)。通過(guò)Zemax模擬溫度載荷下的鏡頭離焦量,輸出調(diào)制傳遞函數(shù)(MTF)曲線(如圖3所示),直觀評(píng)價(jià)成像質(zhì)量。
此外,OpticStudio軟件還包含真正的自由曲面選項(xiàng),該選項(xiàng)不依賴(lài)于特定的數(shù)學(xué)函數(shù)進(jìn)行優(yōu)化和容差計(jì)算,使工程師能夠通過(guò)在設(shè)計(jì)中操縱網(wǎng)格控制點(diǎn)來(lái)創(chuàng)建真正的自由曲面。
Ansys仿真還考慮了自由曲面光學(xué)元件所處的更廣泛的環(huán)境參數(shù),例如局部壓力和溫度,以便用戶全面了解元件的性能表現(xiàn)。
Ansys | 雙折射是什么?1個(gè)月前
即使整體光透射損耗只有幾個(gè)百分點(diǎn),若未加考慮,也可能導(dǎo)致圖像質(zhì)量和亮度超出指定范圍。這種影響在HUD和AR/VR頭顯設(shè)備中尤為明顯,其會(huì)導(dǎo)致低對(duì)比度圖像,因此必須通過(guò)增加系統(tǒng)功耗來(lái)補(bǔ)償。但對(duì)于頭顯設(shè)備而言,這并不是理想選擇,因?yàn)檫@會(huì)產(chǎn)生額外熱量,不僅會(huì)讓佩戴者感到不適,還會(huì)更快地耗盡電池電量。
雙折射始終會(huì)造成一定程度的光學(xué)誤差,但制造商很少提供關(guān)于其如何影響材料光學(xué)性能的信息。
Ansys | 什么是MicroLED?1個(gè)月前
盡管MicroLED尚未達(dá)到商業(yè)成熟階段,但其相較于其他LED技術(shù)在亮度、柔性、圖像質(zhì)量及使用壽命等方面的顯著性能提升,已使其得以應(yīng)用于多種先進(jìn)顯示技術(shù)領(lǐng)域。