提取xyY、uvY、Lab等色彩坐標參數，通過極值比值評估全屏色彩一致性，支撐光學系統參數折中優化。

我們可以編寫腳本，使其讀取這些屬性值，并更新組內的基本結構。該腳本非常靈活，甚至可以在組內添加或刪除結構。這使得 structure group 本身就像一個新對象一樣，你可以通過 Properties 來設置它的形狀和材料。

根據預期達成的光線模式（若與預設模式不同的話），我們可以在MATLAB中使用原生數組索引（native array indexing）的方式增加DLL中的光線，這與原本的方法是十分相似的。

因此，其中一個輸入是掩模組，可以將其作為標準 GDS2 格式讀取，也可以由用戶使用工藝流程輸入文件中的 XY 坐標動態創建，然后隨著工藝仿真的進行，將其轉換為可查看的 GDS2 掩模組。 然后以與典型制造工廠中相同的方式構造結構，只需按照工藝運行單使用蝕刻/沉積/注入/擴散步驟以及工藝運行單中每個環節相關的掩模層進行即可。

注意：由于VCSEL設計工具采用圓柱對稱性，雖然結果查看器中顯示的是笛卡爾坐標軸名稱，但結果實際上是圓柱坐標系的。有關笛卡爾坐標和圓柱坐標系之間映射的更多詳細信息，請訪問文末“VCSEL坐標映射-Ansys Optics”。

為此，在“原點（Origin）”組中設置“定義方式（Define By）=全局坐標 （Global Coordinates）”，在“關于主軸的方向（Orientation About Principal Axis）”中設置“軸（Axis）=Z”和“定義方式（Define By）=全局 Y 軸（Global Y Axis）”； g.然后，為螺栓實體添加螺栓預緊力對象，載荷為100N。

長度、寬度、高度（圓柱體為直徑、高度）分為坐標軸X，Y，Z方向的尺寸，建立的模型坐標原點在試件的左下角。 插件可設置三組粒徑范圍，可設置每組多面體顆粒的面數及顆粒個數。每組顆粒及顆粒外側的界面過渡區在CAD內均分圖層繪制，方便批量管理。

順序 (Order)：順序參數代表元件進行傾斜、偏心的順序，它的工作原理與坐標斷點面的順序參數相同，詳情請查看《Ansys Zemax | 如何傾斜和偏心序列光學元件》 光線反向 (Reverse Rays)：這一參數表示光線離開輸出口后的傳播方向，如果該參數為0，則OpticStudio將非序列組視作折射鏡，輸出口傳播方向與輸入口一致。參數為1，則光線與入射方向相反。

有關詳細信息，請參閱文章“Ansys Zemax | 如何使用極探測器和 IESNA / EULUMDAT 光源數據” 在OpticStudio中可以將光線數據庫中的光線保存為 . SDF文件格式（光譜數據格式），該格式包含光線擊中特定物體上一點的所有光線數據。

實驗以空氣 - 水體系為介質，分析了氣液流量對壓力損失、分離效率及自吸性能的影響，建立了歐拉數、分離效率與氣液雷諾數的無量綱經驗關聯式: ；數值模擬采用群體平衡模型耦合兩相流模型及 k-ε 湍流模型，揭示了旋流場內氣泡破碎、聚并的動態演化規律，發現液體雷諾數增大可使小尺寸氣泡占比提升 40%，湍流耗散率增強 35%，且模擬結果與實驗數據吻合良好，壓力損失與分離效率的最大誤差分別為 15% 和 10%