Report Designer的主要特性 靈活的布局控制：工程師可以設計自定義報告布局，修改頁眉、頁腳、頁邊距和字體，以符合項目標準。Report Designer提供了基于表格的布局，其中可以調整行、列和跨度，以直觀地從功能上組織內容。 包含基本項目數據：工程師可以根據監管或客戶特定文檔要求，整合模型描述、識別的單元、載荷摘要和標準圖。

Zemax OpticStudio 的版本必須為 Ansys Zemax OpticStudio Premium 或 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise。不支持 Legacy Zemax OpticStudio。Lease 和 Paid-Up 兩類 Ansys Zemax 許可證均可用于使用該工具。

其中最耗時間的莫過于模型和網格兩大工程，當然不同產品其比例不同。對于大多數的裝配體來說，模型修改成有限元可以接受的程度，考慮性能計算時間比，那么模型和網格部分占比就很大。例如汽車整體碰撞模擬、飛機整體碰撞模擬，其模型和網格劃分占比接近90%，相當花費時間。

基于云的多處理器與 GPU 加速進一步縮短了周轉時間，使多物理場設計團隊能夠在復雜且受熱約束的三維封裝結構中實現快速迭代。 擴展后的多物理場仿真與分析能力，進一步增強了在光子、電氣和熱等多個領域的覆蓋。

從這里，圖表窗口提供了用于顯示統計數據和修改數據的選項，這和任何其他的標準FRED圖表是一樣的。

注意：腳本運行時間可能需要幾分鐘，具體取決于波長數量和入射角。 下圖展示了在垂直入射條件下，采用梯度厚度分布時p偏振光和s偏振光的反射率： 通過改變層厚度，對于正入射，p偏振的反射覆蓋了大約430nm–860nm的波長范圍。 步驟3.

如下圖所示，在此無縫工作流中，Virtuoso原理圖設計環境用于對電路的electrical和photonic部分進行完整的原理圖捕獲。Virtuoso可在后臺同時運行Spectre和INTERCONNECT引擎進行協同仿真，并在每個時間步交換數據，從而求解完整的electronic-photonic電路。有關該工作流的更多詳情，請訪問文末鏈接[3]。示例請查閱文末鏈接[4]。

核心原理：不變光柵結構，調控掩模填充因子 與傳統方案通過修改光柵結構實現衍射效率分布調控不同，隨機掩模光柵的核心創新點在于：保持單個光柵的結構不變，通過調整掩模的填充因子（光柵結構存在概率，PGS）實現等效衍射效率的精準調控。 隨機掩模光柵被劃分為眾多方形單元，每個單元中光柵結構的存在與否呈隨機分布，而整個光柵的物理結構保持一致。

3.提高并發吞吐量 通過并行運行作業（即并發），我們可以在相同時間內完成更多作業。這對于大規模掃描或優化非常有用。正如我們在步驟1中看到的，核心數增加4倍并不會帶來4倍的性能提升。如果使用四分之一的可用核心并行運行4個仿真，那么在很多情況下，其速度會比使用所有核心順序運行4個仿真更快。 在下圖中，我們使用了所有可用核心，但通過增加容量并相應減少每次模擬的核心數來實現性能提升。

8.調整Layer Builder窗口中的Background Geometry和GDS Pattern Reference Frame，以重新定位和修改導入的3D結構。