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創(chuàng)建者:王靖雯 創(chuàng)建時(shí)間:2023-03-07
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圖8:日光雜散光光跡分析界面 5.4 多工況結(jié)果融合與可視化調(diào)試 將三組仿真結(jié)果合并后導(dǎo)入人眼視覺實(shí)驗(yàn)室,通過虛擬光照控制器可實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)PGU光源、太陽(yáng)光、環(huán)境光亮度比例,直觀觀測(cè)不同光照?qǐng)鼍跋翧R HUD成像效果,實(shí)現(xiàn)參數(shù)快速迭代優(yōu)化。
使用工具 Ansys Fluent 最終成果 優(yōu)化設(shè)計(jì)的電子膨脹閥閥針造型,可以使電子膨脹閥工作過程中最大噪聲水平顯著降低 該研究利用 Ansys Fluent 完成了不同開度下電子膨脹閥內(nèi)制冷劑空化特性的數(shù)值模擬,結(jié)合實(shí)驗(yàn)對(duì)比分析,明確了開度對(duì)流量、氣相比例、湍動(dòng)能及噪聲的影響規(guī)律;設(shè)計(jì)出帶閥芯凹槽的優(yōu)化模型,其最大噪聲水平較原模型降低 10.3%,獲得了空化與噪聲關(guān)聯(lián)的可靠數(shù)據(jù)
其中最耗時(shí)間的莫過于模型和網(wǎng)格兩大工程,當(dāng)然不同產(chǎn)品其比例不同。對(duì)于大多數(shù)的裝配體來說,模型修改成有限元可以接受的程度,考慮性能計(jì)算時(shí)間比,那么模型和網(wǎng)格部分占比就很大。例如汽車整體碰撞模擬、飛機(jī)整體碰撞模擬,其模型和網(wǎng)格劃分占比接近90%,相當(dāng)花費(fèi)時(shí)間。
所以就查詢了deepseek和豆包,然后就知道了ansys官方已經(jīng)針對(duì)該問題設(shè)計(jì)了一個(gè)ACT插件專門用于模擬膠粘凝固過程的仿真: ACCS Ansys Composite Cure Simulation (收費(fèi)插件,人窮志短買不起,哎!)
Ansys 2025 全球仿真大會(huì)”仿真應(yīng)用大賽優(yōu)秀作品展示 本屆仿真應(yīng)用大賽最終評(píng)選出 30 篇 TOP 優(yōu)秀作品,分別榮獲一、二、三等獎(jiǎng)及行業(yè)最佳實(shí)踐獎(jiǎng)。近 200 位來自汽車、半導(dǎo)體、高科技、能源等行業(yè)的仿真精英參賽,他們以前沿思維與創(chuàng)新實(shí)踐,充分展現(xiàn)了仿真技術(shù)的無限潛能。
Moldex3D 解決方案 Moldex3D芯片封裝模塊目前支持的分析項(xiàng)目相當(dāng)完善,以準(zhǔn)確的材料量測(cè)為基礎(chǔ),除了基本的流動(dòng)充填與硬化過程模擬;并延伸到其他先進(jìn)制造評(píng)估,例如 : 金線偏移、芯片偏移、填充料比例、底部填充封裝、后熟化過程、應(yīng)力分布與結(jié)構(gòu)變形等。
圖9 光學(xué)效率圖 Ansys Lumerical軟件試用,培訓(xùn),歡迎聯(lián)系摩爾芯創(chuàng)。 參考文獻(xiàn) 1. F. Hirigoyen, A. Crocherie, J. M. Vaillant, and Y.
通過引入具有更多模式信道的PLC模式(解)復(fù)用器,可以按比例增加模式信道數(shù)量。因此,所提出的具有模式(解)復(fù)用/耦合的光子芯片為MDM系統(tǒng)所期望的芯片-FMF連接提供了有希望的選擇。預(yù)計(jì)它還將擴(kuò)展到基于其他材料(如鈮酸鋰、氮化硅和硫?qū)倩铮┑墓庾有酒?Ansys Lumerical軟件試用申請(qǐng),歡迎聯(lián)系摩爾芯創(chuàng)。
(a) 從 Silvaco Victory 導(dǎo)入 Ansys CHARGE 的 3D 幾何形狀透視圖,(b) MODE 中導(dǎo)入幾何體的z-normal視圖,其中橙色矩形表示仿真區(qū)域,紫色區(qū)域顯示從電氣模擬導(dǎo)入的電荷密度數(shù)據(jù)。 在本研究中,我們重建了[4]中的設(shè)計(jì)作為基準(zhǔn),并將評(píng)估不同摻雜比例對(duì)調(diào)制器性能的影響。
2.2FDTD仿真方法與結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) 研究采用3D時(shí)域有限差分(FDTD)電磁仿真技術(shù)(Ansys Lumerical FDTD模擬套件)作為主要研究工具,該方法能夠精確求解麥克斯韋方程組,捕捉亞波長(zhǎng)尺度的電磁場(chǎng)分布,特別適合處理多層薄膜結(jié)構(gòu)中的光干涉和外耦合效率。