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對于正常的光線傳播來說，在鏡面后的厚度的符號會相應的改變。在經過偶數個鏡面后（包括0個鏡面），光線正常傳播的厚度的符號是正的，虛擬傳播的厚度的符號是負的。在經過奇數個鏡面后，光線正常傳播的厚度的符號是負的，虛擬傳播的厚度的符號是正的。符號的規定與同一表面中的鏡面數量或坐標間斷面無關。使用坐標間斷面旋轉180°不會改變這一基本符號規定。因此，我們需要將結構2中的表面5和6的厚度改變為-20mm。

變化的電壓會改變柵極的耗盡區，從而改變介電屬性，進而改變電容。MOS電容器在本地電源去耦應用中尤其有用，在這種應用中，直流電壓保持恒定。

變化的電壓會改變柵極的耗盡區，從而改變介電屬性，進而改變電容。MOS電容器在本地電源去耦應用中尤其有用，在這種應用中，直流電壓保持恒定。

PPP序列中mm所占比例較大。全同立構PP的α型單位晶胞中單體數目為12，丙烯連排數目超過12的鏈段方可結晶。由上表可知，該級分nP為8.1，絕大多數丙烯鏈段不能結晶。mmmm序列占25～60℃級分的4．8％以下，所以，PPP序列多以短嵌段方式存在于乙丙共聚物中很少部分為低立構規整度PP、少量間規PP和無規PP，結晶度很低。

彎輥技術的基本工作原理是通過裝設在軸承座之間的液壓缸向工作輥或支承輥輥頸施加液壓彎輥力，使軋輥產生附加彎曲，來瞬時地改變軋輥的有效凸度，從而改變承載輥縫形狀，以補償由于軋制壓力和軋輥溫度等工藝因素的變化而產生的輥縫形狀的變化，保證生產出高精度的產品。只要根據具體的工藝條件來適當地選擇液壓彎輥力，就可以達到改善板形的目的。

光譜儀的衍射極限分辨率不受聚焦透鏡的影響，因為艾里斑的大小與探測器的寬度成比例。

大家是否知曉其背后的技術原理和演進趨勢，正深刻地改變著世界？Ansys全新推出【Simulation Topics】系列專題，邀您一起探索仿真世界。本專題將以“一期一會”的形式，攜手各領域專家，圍繞Ansys全產品線的技術優勢，帶您深入解析流體、結構、電子設計及電磁仿真、光學、光子學、半導體、自動駕駛、汽車、聲學、航空航天、材料等多個關鍵領域，讓復雜的專業知識觸手可及。

芯片布局評估 ? 顯示動態熔膠流動行為 ? 評估澆口與流道設計 ? 優化流動平衡 ? 避免產生氣泡缺陷 結構驗證 ? 應用流固耦合（fluid-structure interaction）算法預測金線、導線架、芯片偏移、芯片變形等行為 ? 可與ANSYS及Abaqus整合，共同分析結構強度 制程條件影響預測 ? 模擬實際生產的多樣化制程條件 ? 計算制程改變所造成的溫度

圖1：直接調制器件原理圖 外部調制器件也稱為間接調制一方面可以通過改變材料對光的吸收，改變光信號的強度，進而達到調制光信號的目的，另一方面可以利用外加各種形式的能量使材料折射率發生變化，引起光信號強度發生變化。因此外部調制器件也可分為電吸收型和折射率改變型，根據能量形式的不同，折射率改變型又可分為：電光調制、熱光調制、聲光調制以及磁光調制。