鍍膜的案例
論高功率光學鍍膜的復雜情況
在如今的光學行業中，許多精密光學元件都使用鍍膜，以改善針對特定波長或偏振狀態的透射率或反射率。最常用的鍍膜類型包括增透膜 (AR)、高反射膜（反射鏡）、分光鏡膜和濾光片膜。
隨著技術與行業的發展，許多光學系統都開始依賴高功率 激光光源。雖然標準鍍膜技術可以提供具有成本效益、能輕松復制的精確結果，但是標準鍍膜的耐受力存在限制，尤其是在受到高強度照射時，更是如此。因此，通常需要使用專門的高功率光學鍍膜。高功率光學鍍膜可應用于多種光學元件，例如光學透鏡, 反射鏡, 窗口片, 光學濾光片, 偏振片, 分光鏡和衍射光柵。
高功率光學鍍膜的重要性
光學鍍膜一般會限制高功率激光系統發揮其能力。例如，高功率光學鍍膜最常見故障模式的原因，是鍍膜內或在鍍膜與基底或空氣的接口處存在吸收區域。這些吸收區域通常以嚴重缺陷的形式出現，能夠吸收激光 能量并產生熱量，進而導致局部熔化或產生熱應力因素。由這一機制所引發的故障通常是災難性的。圖 1a – 1d 展示了因流程控制不佳和存在鍍膜缺陷而導致 LIDT 相對較低時產生鍍膜故障的真實影像。
另一方面，非災難性鍍膜故障的示例是等離子體燒毀，這源自鍍膜上 1 - 5μm 的未氧化金屬結節。有趣的是，有些制造商會故意進行等離子體燒毀，以消除這些缺陷結節。
不論損傷屬于哪種類型，鍍膜故障都會為傳輸的波前帶來無法挽回的不良影響。這會對系統性能產生顯著影響，在更換受損的光學元件時也會付出昂貴代價。
展開 專訪維達力：PVD裝飾鍍膜市場規模持續成長，Aluminlux?賦能全產業鏈高質量發展
AMOLED薄膜沉積領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
3. 導電膜玻璃領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
4. 導電薄膜領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
5. 先進顯示領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
6. 特種顯示領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
7. 其他顯示觸控領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
第四章 全球裝飾鍍層領域PVD鍍膜技術及市場發展趨勢
一、PVD鍍膜技術在裝飾鍍層領域應用介紹
1. PVD鍍膜技術在家電數碼領域應用介紹
2. PVD鍍膜技術在金屬配飾領域應用介紹
3. PVD鍍膜技術在日用五金領域應用介紹
二、PVD鍍膜技術在裝飾鍍層領域商業模式分析
1. PVD鍍膜技術在家電數碼領域商業模式分析
2. PVD鍍膜技術在金屬配飾領域商業模式分析
3. PVD鍍膜技術在日用五金領域商業模式分析
三、PVD鍍膜在裝飾鍍層領域市場規模趨勢分析
1. 家電數碼領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
2. 金屬配飾領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
3. 日用五金領域PVD鍍膜市場規模趨勢分析
第五章 全球其他領域PVD鍍膜技術及市場發展趨勢
一、PVD鍍膜技術在其他領域應用介紹
1. PVD鍍膜技術在新能源領域應用介紹
2. PVD鍍膜技術在半導體領域應用介紹
3. PVD鍍膜技術在建筑及交通領域應用介紹
4. PVD鍍膜技術在存儲領域應用介紹
5.
展開 PVD鍍膜應用市場不斷擴增，至2025年國內市場規模CAGR 13%
摘要：CINNO Research預測，隨著PVD鍍膜技術應用日趨廣泛，下游應用領域市場也保持上升趨勢，中國大陸PVD鍍膜市場規模將不斷擴張，到2025年國內市場規模將保持GAGR 13%的增速。
近年來功能材料薄膜和復合薄膜不斷出現多元化方向的需求，鍍膜技術及薄膜產品在工業上的應用日益廣泛，在電子材料領域中占有極其重要的地位。
這其中，鍍膜方法一般可以分為氣相生成法、氧化法、離子注入法、擴散法、電鍍法、涂布法、液相生長法等，氣相生成法又可以分為物理氣相沉積法、化學氣相沉積法和原子層沉積法。
物理氣相沉積法也稱PVD鍍膜技術，包括真空蒸發、濺射鍍膜和離子鍍等，是基本的薄膜制備技術，都要求沉積薄膜的空間要有一定的真空度。磁控濺射鍍膜是PVD鍍膜技術的一種，是近十幾年來發展迅速的一種表面薄膜技術，是最先進的表面處理方法之一。
CINNO Research預測，隨著PVD鍍膜技術應用日趨廣泛，下游應用領域市場也保持上升趨勢，中國大陸PVD鍍膜市場規模將不斷擴張，到2025年國內市場規模將保持GAGR 13%的增速。
圖示：2016-2025年中國大陸PVD鍍膜市場規模趨勢預測 來源：CINNO Research
PVD鍍膜技術優勢諸多
PVD鍍膜技術的實質就是在真空中進行氣相沉積，由于其在制備薄膜方面的特別優勢，已引起越來越多的重視。PVD鍍膜技術較傳統的電鍍等工藝方法，在成本、環保、產品質量、裝飾效果、能源消耗等方面均具有較大的優勢，在顯示、觸控、新能源、半導體、汽車等領域得到廣泛應用。
其中，磁控濺射鍍膜具有諸多優勢，例如薄膜與基體結合力好，薄膜致密度較高；濺射范圍廣，可以沉積鉭、鋁、銅、鈦等金屬靶材，也可沉積ITO、AZO等非金屬靶材；能夠實現大面積靶材的濺射沉積，且沉積均勻性好。
展開 Ansys Zemax | 如何給非序列結構添加鍍膜和散射
OpticStudio可以直接從“The Essential Macleod”或“Film Star”軟件以及其他薄膜設計軟件中直接導入鍍膜定義。OpticStudio會自動在光線從空氣到材料以及從材料到空氣兩種情況之間逆轉膜層的順序，使用者不需要額外定義“鏡像”的膜層。
如果無法取得原始的鍍膜，我們也可以通過輸入不同波長、不同入射角效率的表格信息來定義鍍膜。或是使用IDEAL理想膜層來簡化定義所有角度與波長的反射與透射。在有詳細膜層信息后，我們就可以根據入射光的偏振態、波長以及角度來推算雙向衰減率、相位、相位延遲、反射、透射或是吸收等信息。
設定好鍍膜后，我們還需要設定散射模型。在OpticStudio中，可用的散射模型包括Lambertian、Gaussian、ABG、ABG File、BSDF、IS Catalog Scatter以及User-Defined。
舉例來說，透鏡的前表面應該具有良好拋光，而且為了抗反射前表面應該有一層四分之一波長的MgF2鍍膜。在OpticStudio預設中就有這樣的一個鍍膜“AR”。如要在Face 1 (透鏡前表面)上面設置AR，可以按下圖設置：
Face 0代表側表面，通常會是無拋光，并且沒有鍍膜，因此我們可以有如下設置：
CAD對象
以3D CAD軟件(如SolidWorks、Creo Parametric、Inventor、CATIA等)設計的實體對象都可以利用一系列的CAD 零件或裝配體對象導入。
OpticStudio可以直接與SolidWorks、Creo Parametric、Inventor動態鏈接導入對象。由于動態鏈接后會直接存儲原始的數學模型因此追跡速度會更快。
展開 
鍍膜正弦光柵中光衍射的精確模擬
結論：
嚴格的鍍膜光柵模擬需要將膜層定義為序列的表面。光柵工具箱允許分析使用VirtualLabTM自帶的膜層庫中的膜層鍍膜效果。VirtualLabTM可以考慮膜層在法矢方向上厚度的減小，這是加工過程中經常出現的問題。
Ansys Zemax | 如何給非序列結構添加鍍膜和散射
OpticStudio可以直接從“The Essential Macleod”或“Film Star”軟件以及其他薄膜設計軟件中直接導入鍍膜定義。OpticStudio會自動在光線從空氣到材料以及從材料到空氣兩種情況之間逆轉膜層的順序，使用者不需要額外定義“鏡像”的膜層。
如果無法取得原始的鍍膜，我們也可以通過輸入不同波長、不同入射角效率的表格信息來定義鍍膜。或是使用IDEAL理想膜層來簡化定義所有角度與波長的反射與透射。在有詳細膜層信息后，我們就可以根據入射光的偏振態、波長以及角度來推算雙向衰減率、相位、相位延遲、反射、透射或是吸收等信息。
設定好鍍膜后，我們還需要設定散射模型。在OpticStudio中，可用的散射模型包括Lambertian、Gaussian、ABG、ABG File、BSDF、IS Catalog Scatter以及User-Defined。
舉例來說，透鏡的前表面應該具有良好拋光，而且為了抗反射前表面應該有一層四分之一波長的MgF2鍍膜。在OpticStudio預設中就有這樣的一個鍍膜“AR”。如要在Face 1 (透鏡前表面)上面設置AR，可以按下圖設置：
Face 0代表側表面，通常會是無拋光，并且沒有鍍膜，因此我們可以有如下設置：
CAD對象
以3D CAD軟件(如SolidWorks、Creo Parametric、Inventor、CATIA等)設計的實體對象都可以利用一系列的CAD 零件或裝配體對象導入。
OpticStudio可以直接與SolidWorks、Creo Parametric、Inventor動態鏈接導入對象。由于動態鏈接后會直接存儲原始的數學模型因此追跡速度會更快。而且還可以把CAD對象的參數定義為變量套用優化程序。
展開 氧化銦錫鍍膜料-介紹
氧化銦錫鍍膜料-介紹
氧化銦錫 (ITO，或者摻錫氧化銦)是一種銦（III族）氧化物 (In2O3) and 錫（IV族）氧化物 (SnO2)的混合物，通常質量比為90% In2O3，10% SnO2。它在薄膜狀時，為透明無色。
氧化銦錫主要的特性是其電學傳導和光學透明的組合。然而，薄膜沉積中需要作出妥協，因為高濃度電荷載流子將會增加材料的電導率，但會降低它的透明度。
ITO用于各種光學鍍膜，最值得注意的有建筑學中紅外線-反射鍍膜(熱鏡)、汽車、還有鈉蒸汽燈玻璃等。別的應用包括氣體傳感器、抗反射膜、和用于VCSEL激光器的布拉格反射器。
ITO也被用于制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙等應用、有機發光二極管、以及太陽能電池、和抗靜電鍍膜還有EMI屏蔽的透明傳導鍍膜。
展開 光纖傳感器在磁控濺射鍍膜溫度的監測
那么對于磁控濺射鍍膜溫度的變化我們該如何監測呢？
現有磁控濺射鍍膜用溫度檢測裝置中，溫度檢測器通常設置在鍍膜腔室內的某一個固定位置，通過測量該固定位置處的溫度即可得到基片的溫度。然而，由于鍍膜過程中基片周圍溫度的分布是不均勻的，導致測出來的基片溫度非常不準確。為此工采網推薦使用光纖傳感器監測磁控濺射鍍膜溫度變化，光纖傳感器是一種利用光纖的光學特性來測量和監測溫度的裝置。它通過測量光的折射率變化來推測溫度的變化，具有高精度、遠距離傳輸和抗干擾能力強等特點。加拿大FISO光纖溫度傳感器- FOT-L-SD和FOT-L-BA是一類非常適合在j端環境下測量溫度的光纖溫度傳感器，這種極端環境包括低溫、核環境、微波和高強度的RF等。FOT-L-SD的封裝材料是PTFE，它的測溫范圍為-40°C ~ 300°C (-40°F ~572*F)。FOT-L-BA的設計直徑更小，這使得它的響應時間相對更快。它的測溫上限為250°C。
FISO的光纖溫度傳感器能夠提供精確、穩定和可重復的溫度測量。這些測量均基于反射光的變化---與發射光對比時--由傳感器內部高度穩定的玻璃的熱膨脹弓|起。因而FOT-L 集所有您期望從理想傳感器器身獲取的優良特性于一體。因此，即使在極端溫度和不利的環境下，這類傳感器依然能夠提供高精度和可靠的溫度測量。
展開 別小看5代機上這層隱身鍍膜，蘇57折騰了這么多年也才剛剛搞定
長久以來，蘇-57隱身戰斗機的原型機——T-50在隱身性能上飽受質疑，其中一大原因就是該機的座艙蓋和風擋玻璃遲遲無法應用隱身涂層，直到2017年Т-50后期型原型機出現后，人們才在該機上看到了淡紫色的隱身鍍膜座艙蓋。
鍍膜座艙蓋已成為保證第五代戰斗機隱身性能的一個不可或缺的部件，這是因為戰斗機座艙是一個形狀復雜的空腔結構，如果讓入射雷達波不加阻擋地進入座艙內部，將會引發強烈反射。一般來說座艙反射能占戰斗機迎頭雷達截面積（RCS）的25%以上，所以消除座艙反射將能大幅提高戰斗機的隱身性能。
現代隱身戰斗機乃至部分四代半戰斗機/電子戰飛機都在座艙蓋和風擋玻璃外側鍍上了一層氧化銦錫（ITO）金屬氧化物鍍膜，這層鍍膜在陽光反射下會呈現標志性的淡黃綠色-淡紫色。這種ITO鍍膜有兩個作用，一是依靠自身的電磁（EMI）屏蔽作用阻止雷達波進入座艙內，二是通過鍍膜的導電性能使戰斗機座艙玻璃與周圍機體間形成均勻連續的導電率，避免雷達波在兩種不同導電率材料交界處形成激勵電流或者磁流，產生額外電磁散射信號。
所以ITO鍍膜的隱身原理并不是吸波，而是通過屏蔽和導電保持戰斗機在隱身外形上的完整性。2011年1月11日殲-20 2001號原型機首飛時，該機淡黃綠色的整體成形座艙蓋就在機身黑色吸波涂層的映襯下顯得格外醒目，說明我國在隱身飛機座艙蓋鍍膜的研究上遠遠領先于俄羅斯。
俄羅斯國家技術集團在新聞稿中表示，新涂層自2017年8月才開始應用在T-50原型機上，除蘇-57之外，該涂層還將被用于蘇-30SM、蘇-34、蘇-35、米格-29K和圖-160等機型的座艙蓋和風擋玻璃制造。
展開 VirtualLab Unity應用：VirtualLab Unity與VirtualLab Fusion跨平臺的鍍膜方案共享
仿真結果顯示反射光呈藍色，與顏色膜的設計一致，驗證了 VirtualLab Unity 與 VirtualLab Fusion 之間可實現鍍膜方案的跨平臺共享。
工作流程
打開已有的顏色膜設計項目，并通過“開始”選項卡將其導出為 VirtualLab Fusion文件。
在VirtualLab Fusion中打開剛導出的鍍膜文件。
將導入的鍍膜文件存到VirtualLab Fusion的鍍膜資源庫中，方便之后使用。
在 VirtualLab Fusion 中搭建一個簡單的光學系統：首先放置一個白光光源，其前方設置一塊玻璃平板，在平板的前表面鍍上導入的顏色膜；最后放置一個探測器，用于觀察反射光的顏色。
運行仿真后可見，探測器接收到的反射光呈藍色，與在 VirtualLab Unity 中設計的顏色膜效果一致，驗證了導入膜層的正確性。
展開 納米氧化鋅在鍍膜玻璃上的應用前景
鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學性能，滿足某種特定要求。
現在市場上的鍍膜玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜，這種膜能透過一定的可見光，近紅外光和反射遠紅外光，它只能屏蔽少量的紫外線。而紫外線是皮膚保健的大敵，還會使肉類食品自動氧化變色，破壞食品中的維生素和芳香化合物，降低食物的營養價值，并且容易使家具老化變脆。而且普通的鍍膜玻璃很容易粘上 有機污物，擦洗困難，尤其對高樓大廈，擦洗一次人力物力消耗巨大。
鍍納米氧化鋅VK-J30膜層的玻璃可以克服上述的不足。納米氧化鋅膜層的玻璃是由玻璃和渡在玻璃表面的納米氧化鋅膜層組成。
納米氧化鋅VK-J30 平均粒徑在30納米左右，可透過太陽的可見光、而吸收絕大部分的紫外光，因此鍍氧化鋅膜層的玻璃具有很強的屏蔽紫外線功能，而且納米氧化鋅活性高，可分解有機物，具有清潔、殺菌和消毒的作用。
居民消費結構升級、鼓勵企業自主創新、新農村建設和城鎮化進程等都將保證國內市場對玻璃產品的中長期需求增長趨勢不變。隨著建筑、汽車、裝飾裝修、家具、信息產業技術等行業的發展和人們對生活空間環境要求的提高，安全玻璃、節能中空玻璃等功能性加工產品得到廣泛應用。玻璃的供求格局和消費結構正在發生變化。因此新型的功能玻璃產品的應用前景十分廣泛。
展開 
Ansys Zemax | 如何建立二向分色分光鏡
如之前所述，為了簡化設計我們會將二向分光鍍膜定義為不隨偏振態改變的類型。如此一來，S和P偏振會有相同的反射能量(同理，透射能量也是如此)。由于0.400 um的波長范圍位于此分光鏡的pass band，因此此處有100%的透射率和0%的反射率。反之，0.525 um位于分光鏡的stop band，因此此處有0%的穿透率和100%的反射率。最終的自訂鍍膜結果如下所示:
我們可以使用文件編輯應用程序(如: 記事本或EditPlus2)進行以上的修改。開啟新的檔案，并輸入以上信息。
接著我們還會需要建立理想的AR鍍膜。在前面的篇幅曾提到，本案例中的AR鍍膜具有1%的反射率和99%的透射率。另外由于此鍍膜不會受入射光的吸收率、波長和角度等因素影響，我們可以在文字檔中以 "I.穿透率(transmission)" 的方式描述理想鍍膜，如下:
COAT I.99
將以上這行文字加入文件中。
當完成以上的鍍膜參數設定后，以適當的名稱(例如: DICHROIC.DAT，注意檔名須以”.DAT”結尾) 將檔案與其他鍍膜檔儲存在同個資料夾中(預設路徑為{Zemax}/ Coatings)。
鍍膜結果評估
完成鍍膜的設定后，接下來就可以將這些信息套用到范例中的分光鏡模型了。
首先，在System Explorer中點選Files。接著在第一欄的Coating File選擇剛剛建立的自訂鍍膜DAT檔案，如下圖:
接下來，在非序列元件編輯器(Non-Sequential Component Editor)中打開object 2的Object Properties，并進入Coat/Scatter選單。
展開 【Essential Macleod】雙面鍍膜的模擬
這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
為什么介質或基板不支持干涉？這是一個系統問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應很小，但對它們所代表的相位變化有很大影響，因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當各種光線組合在一起時，干涉條紋會被沖掉，只留下總的輻照度。在單個設計文檔時，我們總是假設使用完全準直的單色光，其中入射角和波長變化的相應影響通常很小，可以忽略不計，從而在設計中存在完全相干效應。
圖1.基板足夠厚時，無需考慮干涉效應。如果考慮基板的干涉，要將基板看成一層薄膜，而整個系統看作一個膜系
另一個問題是，如果角度或波長的變化仍然較大，即使設計中的層也顯示出減少的干涉效應，那么會發生什么，什么叫做部分相干？此工具存在于Stack文檔中。計算參數包括光中缺少準直性（以圓錐半角表示）和缺少單色性（以光譜帶寬表示）的影響。這些在Design文檔中不可用（除非在Stack中設置，稍后將介紹）。
Stack中的第一列是標題為Medium Type，這里有兩種選擇：Parallel以及Wedge。透射或反射的光將由某種接收器收集，這種接收器在計算中假定為均勻靈敏度。此接收器可能無法收集在不同表面之間來回反射后最終出現的所有光束。兩種極端情況是收集所有光束，以便沒有丟失，這種情況稱為Parallel。 另一個極端是它只收集從離它最近的表面反射一次的光束，這種情況被稱為Wedged。假設所有其他反射光束走出系統，在傳輸中，那么Wedge不收集反射光束。如果我們有成像系統，Wedge計算代表形成的像，而Parallel計算代表所有可能的光。因此，它們之間的差異是雜散光。
展開 Essential Macleod應用：雙面鍍膜的模擬
這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
為什么介質或基板不支持干涉？這是一個系統問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應很小，但對它們所代表的相位變化有很大影響，因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當各種光線組合在一起時，干涉條紋會被沖掉，只留下總的輻照度。在單個設計文檔時，我們總是假設使用完全準直的單色光，其中入射角和波長變化的相應影響通常很小，可以忽略不計，從而在設計中存在完全相干效應。
圖1.基板足夠厚時，無需考慮干涉效應。如果考慮基板的干涉，要將基板看成一層薄膜，而整個系統看作一個膜系
另一個問題是，如果角度或波長的變化仍然較大，即使設計中的層也顯示出減少的干涉效應，那么會發生什么，什么叫做部分相干？此工具存在于Stack文檔中。計算參數包括光中缺少準直性（以圓錐半角表示）和缺少單色性（以光譜帶寬表示）的影響。這些在Design文檔中不可用（除非在Stack中設置，稍后將介紹）。
Stack中的第一列是標題為Medium Type，這里有兩種選擇：Parallel以及Wedge。透射或反射的光將由某種接收器收集，這種接收器在計算中假定為均勻靈敏度。此接收器可能無法收集在不同表面之間來回反射后最終出現的所有光束。兩種極端情況是收集所有光束，以便沒有丟失，這種情況稱為Parallel。 另一個極端是它只收集從離它最近的表面反射一次的光束，這種情況被稱為Wedged。假設所有其他反射光束走出系統，在傳輸中，那么Wedge不收集反射光束。如果我們有成像系統，Wedge計算代表形成的像，而Parallel計算代表所有可能的光。因此，它們之間的差異是雜散光。
展開 Essential Macleod應用：雙面鍍膜的模擬
這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者鍍膜的情況。
為什么介質或基板不支持干涉？這是一個系統問題。基板的厚度通常以毫米而不是納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應很小，但對它們所代表的相位變化有很大影響，因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當各種光線組合在一起時，干涉條紋會被沖掉，只留下總的輻照度。在單個設計文檔時，我們總是假設使用完全準直的單色光，其中入射角和波長變化的相應影響通常很小，可以忽略不計，從而在設計中存在完全相干效應。
圖1.基板足夠厚時，無需考慮干涉效應。如果考慮基板的干涉，要將基板看成一層薄膜，而整個系統看作一個膜系
另一個問題是，如果角度或波長的變化仍然較大，即使設計中的層也顯示出減少的干涉效應，那么會發生什么，什么叫做部分相干？此工具存在于Stack文檔中。計算參數包括光中缺少準直性（以圓錐半角表示）和缺少單色性（以光譜帶寬表示）的影響。這些在Design文檔中不可用（除非在Stack中設置，稍后將介紹）。
Stack中的第一列是標題為Medium Type，這里有兩種選擇：Parallel以及Wedge。透射或反射的光將由某種接收器收集，這種接收器在計算中假定為均勻靈敏度。此接收器可能無法收集在不同表面之間來回反射后最終出現的所有光束。兩種極端情況是收集所有光束，以便沒有丟失，這種情況稱為Parallel。另一個極端是它只收集從離它最近的表面反射一次的光束，這種情況被稱為Wedged。假設所有其他反射光束走出系統，在傳輸中，那么Wedge不收集反射光束。如果我們有成像系統，Wedge計算代表形成的像，而Parallel計算代表所有可能的光。因此，它們之間的差異是雜散光。
展開 