在航空航天領(lǐng)域應(yīng)用較多的有2000系鋁合金的主體成分主要是鋁(Al)、銅(Cu)、鎂(Mg)3種元素，7000系的鋁合金主要成分是Al、鋅(Zn)、Mg、Cu元素，還有一些通過(guò)加入一些特殊元素獲得的高性能(高強(qiáng)、高韌、耐腐蝕性能)鋁合金材料。目前，獲得高性能鋁合金材料的主要方法是通過(guò)改變?nèi)坭T條件實(shí)現(xiàn)。

因此，很多科學(xué)家們進(jìn)行了礦石材料（例如硫化鉛、硫化銅、氧化銅等）的提純研究，提純工藝不斷精進(jìn)。 在這里，我就要提到人類歷史上最偉大的實(shí)驗(yàn)室——貝爾實(shí)驗(yàn)室。 上篇中，我介紹過(guò)，美國(guó)AT&T公司為了建設(shè)長(zhǎng)途電話網(wǎng)，收購(gòu)了德·福雷斯特的三極管專利。

反應(yīng)產(chǎn)物和未反應(yīng)的氯甲烷氣體混合物及帶出的硅、銅細(xì)粉經(jīng)旋風(fēng)分離器分離出大部分硅、銅細(xì)粉，經(jīng)受料斗直接回床或間斷排入細(xì)粉貯罐，交替回床。經(jīng)三級(jí)旋風(fēng)分離器后，合成氣中殘存的硅、銅細(xì)粉，在洗滌塔中除去。洗滌塔再沸器中的漿液通過(guò)閃蒸及冷凝，使排出系統(tǒng)的漿液中的高沸物得到回收。 　　

廢水中含有鋅、銅、鉛、鎘、砷、鎳等金屬離子，還有氟化物、硝酸鹽、有機(jī)物、膠體顆粒等污染物。原水如果直接進(jìn)入膜系統(tǒng)，會(huì)造成膜產(chǎn)水少，易堵塞，必須先進(jìn)行軟化處理后，再去除污水中的重金屬離子和COD，經(jīng)過(guò)膜深度處理系統(tǒng)后產(chǎn)水回用。

來(lái)源：石英股份 目前制約高純石英砂應(yīng)用的雜質(zhì)元素主要有13種：鋁（Al）、鈣（Ca）、鐵（Fe）、鈉（Na）、鉀（K）、鋰（Li）、鎂（Mg）、鉻（Cr）、鎳（Ni）、硼（B）、錳（Mn）、銅（Cu）、鈦（Ti）。

1、最純的金屬 鍺：區(qū)域融熔技術(shù)提純的鍺，純度達(dá)“13個(gè)9”（99.99999999999%）。

1.提純：沙子/石英經(jīng)過(guò)脫氧提純以后的得到含硅量25％的二氧化硅，再經(jīng)由電弧爐提煉，鹽酸氯化，并蒸餾后，得到純度高達(dá)99%以上的晶體硅。 2.晶棒制造：晶體硅經(jīng)過(guò)高溫熔化，采用旋轉(zhuǎn)拉伸的方法，經(jīng)過(guò)頸部成長(zhǎng)、晶冠成長(zhǎng)、晶體成長(zhǎng)、尾部成長(zhǎng)，得到一根完整的晶棒。

為此，公司組建了以高端光刻膠專業(yè)人才為核心的獨(dú)立研發(fā)團(tuán)隊(duì) ，建成了約1,500平方米的研發(fā)中心和百升級(jí)光刻膠中試生產(chǎn)線，開(kāi)發(fā)出多款樹(shù)脂、光敏劑、單體，創(chuàng)新并不斷優(yōu)化提純工藝，研究出193nm光刻膠的配方，產(chǎn)品研發(fā)進(jìn)展和成果得到業(yè)界專家的認(rèn)可。 ArF光刻膠產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目進(jìn)展順利，產(chǎn)品再次通過(guò)客戶認(rèn)證 。

在飛機(jī)制造、造船、原子能工業(yè)和機(jī)械工業(yè)部門(mén)，對(duì)特殊金屬，例如鋁、鎂、銅及其合金和不銹鋼在焊接時(shí)，往往用氬作為焊接保護(hù)氣，防止焊接件被空氣氧化或氮化。 在金屬冶煉方面，氧、氬吹煉是生產(chǎn)優(yōu)質(zhì)鋼的重要措施，每煉1t鋼的氬氣消耗量為1～3m3。此外，對(duì)鈦、鋯、鍺等特殊金屬的冶煉，以及電子工業(yè)中也需要用氬作保護(hù)氣。

以化學(xué)成分分類，包括應(yīng)用于制作導(dǎo)電層具有良好導(dǎo)電性能銅、鋁、ITO、ZAO；鉭、鈦等靶材用于制作阻擋層，保護(hù)導(dǎo)電層不受侵蝕和氧化。鎳鉑合金、鎢鈦合金、鈷靶材用于制作接觸層，與硅層生成薄膜提供與外部連接的接點(diǎn)。目前芯片制造工藝在180-130nm之間主要用鋁及鋁合金靶材作為導(dǎo)電層，90-65 nm主要應(yīng)用銅靶材。 45-28nm主要使用純銅鋁和銅錳合金靶材。