六角模式和對角線模式分布光束 VirtualLab Fusion中包含沿著特定幾何形狀分布的模式，如六角模式和對角線模式（圖6）。 圖6. 六角模式和對角線模式 方法三：從打開的光源文件導(dǎo)入 在部分相干光源的選項中可以設(shè)置基礎(chǔ)模式，可以將打開的光源文件導(dǎo)入作為基礎(chǔ)模式，如圖7所示。 圖7.

圖9 高溫下高速拉伸載荷-位移曲線 圖10 高速相機(jī)拍攝拉伸過程（25℃-200mm/s） 圖11 高速相機(jī)拍攝拉伸過程（55℃-12000mm/s） 表2 膠粘接頭在不同拉伸速率和溫度下的抗拉強(qiáng)度 圖12 不同溫度和拉伸速率下的對接抗拉強(qiáng)度 界面失效模式分析 對接樣品在不同溫度以及拉伸速率測試后的失效模式如圖

– 0° 4.2.2點(diǎn)圖和模式輻照度 – 10° 4.2.3點(diǎn)圖和模式輻照度 – 20° 4.2.4點(diǎn)圖和模式輻照度 – 40°

通過計算可得對稱和反對稱耦合模式的光場圖如圖6（b）和圖6（c）所示，當(dāng)波導(dǎo)間隙為100nm時，波長在1550nm處的有效折射率差為0.109，于是計算可得耦合長度應(yīng)該為1427nm。但是實(shí)際耦合過程中，彎曲波導(dǎo)部分也會發(fā)生部分耦合，因此，耦合長度設(shè)置為0就能滿足耦合需求了，結(jié)合耦合長度就能計算出MRR的半徑約為3.1μm。

基于其最底層與硅波導(dǎo)連接的類型可分為兩種類型，第一種是每層錐形波導(dǎo)同向級聯(lián)，如圖6（a）所示；第二種是最底層為倒錐形結(jié)構(gòu)，以實(shí)現(xiàn)模式轉(zhuǎn)換，如圖6（b）所示。 圖6 兩種多錐形級聯(lián)。（a）正向錐形；（b）倒錐形 3.

基于其最底層與硅波導(dǎo)連接的類型可分為兩種類型，第一種是每層錐形波導(dǎo)同向級聯(lián)，如圖6（a）所示；第二種是最底層為倒錐形結(jié)構(gòu)，以實(shí)現(xiàn)模式轉(zhuǎn)換，如圖6（b）所示。 圖6 兩種多錐形級聯(lián)。（a）正向錐形；（b）倒錐形 3.

（a）3D示意圖；（b）截面示意圖 需要優(yōu)化的參數(shù)包括蝕刻寬度和光柵周期，以增強(qiáng)光纖和光柵之間的模式匹配。如圖3所示，光柵被分成兩個區(qū)域：變周期區(qū)域和均勻周期區(qū)域。在可變周期區(qū)域中，80nm的初始蝕刻寬度w0由制造可實(shí)現(xiàn)的最小線寬確定，并且蝕刻寬度隨著每個后續(xù)循環(huán)增加100nm。均勻周期區(qū)域中的蝕刻寬度保持恒定，與可變周期區(qū)域中的最終周期的寬度相匹配。

坡印廷矢量的峰值大約位于半徑0um處，這與上圖中模式數(shù)為24、傅里葉指數(shù)為1時腔內(nèi)場分布中最大強(qiáng)度的位置一致。 5.切換到布局并在光學(xué)/模態(tài)分析選項卡下使用下面顯示的設(shè)置并重新運(yùn)行模擬。 6.運(yùn)行plot_dipole_results.lsf來可視化頻率和光束輪廓。

圖3逐層優(yōu)化各層厚度結(jié)果圖 光學(xué)模式分析表明（圖4），優(yōu)化后器件的波導(dǎo)模式占比顯著降低至3.83%，吸收損耗從97%降至49.50%，而空氣模式占比提升至42.89%。這一結(jié)果證實(shí)了優(yōu)化策略的有效性，即通過結(jié)構(gòu)設(shè)計將更多的光子從束縛模式轉(zhuǎn)換為可出射的空氣模式。

通過光子/等離子體模式轉(zhuǎn)換器將LN波導(dǎo)的光學(xué)模式轉(zhuǎn)換為相移器的PSW模式（圖1g）。此外，PSW中緊湊的Au電極天然具有低RC常數(shù)特性，可支持太赫茲帶寬的電光調(diào)制。因此，經(jīng)PSW增強(qiáng)的TFLN MZM有望實(shí)現(xiàn)超高效率、超緊湊尺寸及超寬帶寬。 我們優(yōu)化了PSW TFLN MZM的設(shè)計，包括PSW的橫截面尺寸（圖2a）、光子/等離子體模式轉(zhuǎn)換器（圖2b）以及MMI（圖2c）。