
發布
注冊
/
登錄膜系設計
關注創建者:任森 創建時間:2015-08-18

膜系設計的實例教程
在本案例中,針對Nd:YAG激光器的諧振腔,我們基于λ/4膜堆結構,通過理論分析確定了的初始膜系設計;同時利用電場分布分析對膜層結構進行優化,使得在滿足高反射率要求的同時,薄膜整體的激光損傷閾值得到了顯著提高。
摘要
1064nm是Nd : YAG激光器常用的光譜線。為適應激光波長漂移及不同激光模式的需求,必須在中心波長附近保持約20nm的寬帶高反射性能。本案例中,我們通過理論計算確定了基于1/4波長膜堆結構的周期數 ??,確保在1064nm ±20nm范圍內的反射率均大于99.5%。此外,借助電場工具,對膜層結構進一步調整,從而提升薄膜整體的激光損傷閾值。
應用場景
展開 基于計算機輔助的光學薄膜優化設計方法
金揚利,馬勉軍,陳壽,王濟洲,蘭州物理研究所
摘要:概述了光學薄膜優化設計的發展和原理,介紹了當前光學薄膜優化設計中集中常用方法,預測了優化設計方法的趨勢。
關鍵詞:光學薄膜,優化設計,計算機輔助
論文簡介
1.引言:光學薄膜作為一門學科,已經走上百年的路程。如今,光學薄膜在光學、激光、航天等領域都得到了廣泛的應用。隨著新的精密光學儀器的不斷涌現,對鍍膜光學元件的光譜性能要求也越來越高,常規解析法設計的光學薄膜膜系結構已不能完全滿足使用要求。
計算機技術的飛速發展為數值方法應用于光學薄膜設計提供了便利,如今,基于計算機輔助的光學 薄膜優化設計已經成為一種廣泛應用的膜系設計方法。
2.光學薄膜優化設計的發展
3.光學薄膜優化設計的原理和評價函數
3.1光學薄膜優化設計的原理
3.2評價函數
4 幾種常用的光學薄膜優化設計方法
4.1 單純形法
4.2 模擬退火法
4.3 針形法
4.4 遺傳算法
4.5優化方法的改進
5 總結和發展趨勢
基于計算機輔助的光學薄膜優化設計方法.pdf
展開 摘要
在本應用案例中,通過選用成熟的初始結構并對其厚度進行進一步優化,設計出一種基于硫系玻璃的長波紅外減反射膜。
應用場景
設計一個可見光減反射膜,通過優化初始結構的厚度,目標是在可見光范圍內0°入射條件下實現平均反射率低于0.5%。
設計結果
設計結果如圖所示,在長波紅外范圍內0°入射時平均反射率低于1%,滿足設計要求。
設計流程
在膜系設計中,所選材料需在工作波段內具有良好的透光性。對于 8–12?μm 的紅外波段,常用的膜層材料包括 Ge、ZnS、ZnSe 和 YbF?。綜合性能與可實現性,我們最終選用了 Ge、ZnS 和 YbF? 三種材料作為膜系組成。初始膜系結構為:Air | M L M H M H M H M |硫系玻璃。
硫系玻璃因其優異的消色差和消熱差性能,常被廣泛應用于紅外光學系統中。由于該材料尚未包含在軟件的資源庫中,用戶需自行導入相關材料數據以供使用。
關于材料導入的更多信息: Tutorial : 材料導入
使用公式工具構建了上述膜系作為基礎結構,右圖展示了其在波長8000-12000 nm范圍內0°入射時的光譜。可以看出此時的反射率不達標
關于材料導入的更多信息: Tutorial 02: Formula Tool
采用 trf 算法對各層厚度進行優化,目標是在 8000-12000 nm 波長范圍內、0° 入射時最小化反射率。
關于優化的更多信息: Tutorial 01: Optimization Workflow
通過優化,最終獲得了滿足設計要求的膜層結構。
展開 通過適當調整靠近空氣三層的膜厚,可將強電場峰值轉移至低折射率膜層,從而來提高整體薄膜的抗激光損傷閾值。
再次查看調整后膜系的光譜,在 1064nm ± 20nm 帶寬范圍內,平均反射率達 99.52%,仍然滿足設計指標。證明了當前設計不僅滿足高反射率要求,還提高了薄膜的整體激光損傷閾值。
GDF方案中玻璃與炫光膜貼合的工藝則有良品率高、成本低、設計靈活的優點,成為目前主流的玻璃裝飾方式。
炫光膜加工工藝及結構
UV轉印:利用UV轉印膠水與金屬不粘的特性,通過模具在基材上做出紋理效果。
PVD:在真空條件下,在基材的紋理側沉積亮度和顏色。
絲印:把油墨印刷到基材紋理側的表面并固化,使得圖案更加牢固,經久耐用。
模切:將基膜裁切成3D玻璃相應的形狀和大小,得到相應的炫光膜。
圖片來源:華為官網,新材料在線?整理
炫光膜將3D光學納米紋理,PVD,蓋底顏色都在PET基膜上做好,然后采用專用的治具通過加熱吸真空的方式與3D玻璃貼合。既可以滿足金屬顏色的質感,還可以實現各種3D納米紋理與PVD的搭配,真正實現智能手機3D蓋板的內涵。
炫光膜應用難點
目前,炫光膜應用的難點主要有:紋理設計復雜、配套設備成本偏高、與3D玻璃貼合困難,具體如下表所示。
展望后續市場景況,隨著市場標準化的膜系設計開始普及,貼合加工工藝也將快速標準化,可以使得炫光膜行業在模具和設備上的費用都會有較大幅度的下降,之前在該領域有深度布局的廠商也將明顯受益。
炫光膜產業鏈全景圖及市場規模
隨著3D玻璃成本的不斷下降,其在智能手機的滲透率隨之提高。
展開 
膜系設計的相關專題、標簽、搜索
膜系設計的最新內容
在本案例中,針對Nd:YAG激光器的諧振腔,我們基于λ/4膜堆結構,通過理論分析確定了的初始膜系設計;同時利用電場分布分析對膜層結構進行優化,使得在滿足高反射率要求的同時,薄膜整體的激光損傷閾值得到了顯著提高。
摘要
1064nm是Nd : YAG激光器常用的光譜線。
摘要
在本案例中,針對Nd:YAG激光器的諧振腔,我們基于λ/4膜堆結構,通過理論分析確定了的初始膜系設計;同時利用電場分布分析對膜層結構進行優化,使得在滿足高反射率要求的同時,薄膜整體的激光損傷閾值得到了顯著提高。
應用場景
1064nm是Nd : YAG激光器常用的光譜線。為適應激光波長漂移及不同激光模式的需求,必須在中心波長附近保持約20nm的寬帶高反射性能。
摘要
在本案例中,選用常規的對稱周期膜系作為初始設計,并通過優化膜層厚度,成功設計出一種通帶為 400–650 nm、截止帶為 676–820 nm 的短波通濾光膜。
應用場景
通過優化初始結構的厚度,目標是在0°入射時,400-650 nm通過,平均透射率>99% 。676-820nm截止,平均光密度>2.0。
在本應用案例中,選用常規的對稱周期膜系作為初始設計,并通過優化膜層厚度,成功設計出一種截止波長為 400–490 nm、通帶為 515–1100 nm 的長波通濾光片。
在本案例中,選用常規的對稱周期膜系作為初始設計,并通過優化膜層厚度,成功設計出一種通帶為 400–650 nm、截止帶為 676–820 nm 的短波通濾光膜。
設計流程
在膜系設計中,所選材料需在工作波段內具有良好的透光性。對于 8–12?μm 的紅外波段,常用的膜層材料包括 Ge、ZnS、ZnSe 和 YbF?。綜合性能與可實現性,我們最終選用了 Ge、ZnS 和 YbF? 三種材料作為膜系組成。初始膜系結構為:Air | M L M H M H M H M |硫系玻璃。
4500元/人
☆光研軟件購買客戶或者同一單位有三人以上同時報名客戶可享受8折優惠
☆同一單位兩人一起報名可享受85折優惠
☆提前一個月報名可享受9折優惠
☆OPSS新加坡光學與光子學學會會員報名可享受9折優惠
以上費用含教材、發票、證書和午餐,發票統一開“培訓服務費”
課程特色及內容
本課程深入淺出地講解光學薄膜基本原理,介紹多種膜系的設計與優化方法
展望后續市場景況,隨著市場標準化的膜系設計開始普及,貼合加工工藝也將快速標準化,可以使得炫光膜行業在模具和設備上的費用都會有較大幅度的下降,之前在該領域有深度布局的廠商也將明顯受益。
隨著新的精密光學儀器的不斷涌現,對鍍膜光學元件的光譜性能要求也越來越高,常規解析法設計的光學薄膜膜系結構已不能完全滿足使用要求。
計算機技術的飛速發展為數值方法應用于光學薄膜設計提供了便利,如今,基于計算機輔助的光學 薄膜優化設計已經成為一種廣泛應用的膜系設計方法。