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ZEMAX軟件技術應用專題:在 OpticStudio 中模擬高階雷射光束
隨著 e 接近 ∞,當由 Ince-Gaussian DLL 計算的特徵值解發散時,就會到達一個
點
。這種發散行為是計算算法的限制。當達到發散
點
時,Ince-Gaussian DLL 產生的結果
變
得不準確。不幸的是,對於唯一的 e 值,這一
點
不會出現(還依賴於 p、m 和光束極性)。但是,確定何時產生不同的解決方案很簡單。
2057
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何在OpticStudio中設計DOE透鏡或超穎透鏡
垂直入射到DOE上的光線不會改
變
其方向,因為表面沒有傾斜。但是,垂直入射的光束可以用適當設計的菲涅耳波帶片聚焦。此效果
應
由OpticStudio中的POP處理。如圖3所示,在該系統中,準直光束入射在玻璃板上。在玻璃板的背面,已使用菲涅耳波帶片表面類型創建了同心二元結構。在布局圖視窗中,您可以看到光線沒有改
變
其傳播方向,並且光束保持準直,從物件到成像表面傳播。
2187
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
此鏡片的屈光率為-3.00D,並能在距透鏡40公
分
處匯聚光線,形成適宜的閱讀距離。鏡片的基本曲線則是+28D。任何嘗試控制畸
變
的設計都將產生十分陡峭的基本曲線。因此很明顯的,對於一個已知屈光率的鏡片,在不參考任何配戴者或使用環境等相關條件的情況下,我們無法製造出擁有最佳成像品質的光學設計。
2212
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:用於數位元投影光學中均勻照明的陣列透鏡 (蒼蠅眼)
它是將單個光學元件組裝或形成為單個光學元件的二維陣列,用於在照明平面上將光從非均勻
分
佈空間轉換為均勻輻照度
分
佈。這篇文章討論了複眼空間光學
積
分
器在數位投影機中的使用,以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進行建模。在數位投影器設計中,我們希望確保數位光源在輻照度
分
佈方面與投影圖像相匹配。因此,這種限制要求投影器設計包含均勻照明的空間光調製器 - 通常採用 LCD 面板的形式。
2001
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
ZEMAX軟件技術應用專題:如何使用ZOS-API創建飛行時間用戶分析
ZOS-API(
應
用程式介面(Application Programming Interface)) 支援 OpticStudio 的連接和定制。連接
應
用程式和 OpticStudio 有 4 種程式模式,但它們可以
分
為兩大類: 完全控制(獨立(Standalone)模式和自訂擴展(User Extensions)模式),這種情況下,使用者通常完全控制鏡頭設計和使用者介面。
2080
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
Zemax光學設計技術教程:如何使用Jones Matrix表面
有一
點
必須要特別注意的,Jones Matrix並不會因為Ez的
變
化產生改
變
(系統預設入射光垂直入射偏振片)。一般而言,偏振片和玻板(waveplate)確實是用在準直入射光線或發散角(divergence angle)極小的情況下。假如是入射光束是準直的,且與Jones Matrix互相垂直。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
帖子
負體積(節點速度無限大)解決辦法
</p><p> </p><p>QQ::</p><p>負體
積
是由於element本身產生大
變
形造成自我體
積
的內面跑到外面接著被判讀為負體
積
,</p><p>控制使element不出現不合理
變
形的方法就如同dragonwen與ayke所說的幾
點
,注意使Hourglassing情形減少,有以下幾個方法可以試看看</p><p>1.避免單
點
loading=&gt;不要將force施在單一node
5439
9
不問出處
??? 1年前
視頻
地表最強半導體封裝前處理 - Ansys Mechanical/Stacker Mesh Workflow
第三單元:局部錫球 (Local Bump) 建模實戰封裝核心組件:BGA/Micro-bump 的網格劃
分
難
點
分析。局部加密技術:如何在維持全局 Stacker 邏輯下,針對錫球進行精細化網格處理。確保錫球與基板 (Substrate)、晶圓 (Die) 介面間的節
點
匹配與
應
力
傳遞精度。
1421
2
鄭鈞 Adam
??? 4月前
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