此類模式可以在 OpticStudio 中使用 POP 設(shè)置對話框中的內(nèi)置“高斯腰”光束定義進(jìn)行建模:此模式的主要輸入是 X 和 Y 中束腰以及 X 和 Y 中光束的階數(shù)。以上設(shè)置演示瞭如何對 X 和 Y 中具有相同腰尺寸的 (0,0) 模式進(jìn)行建模,對應(yīng)於單模高斯光束。
繞射光學(xué)元件(DOE)和超表面/超穎透鏡在光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)中越來越受歡迎,其應(yīng)用範(fàn)圍從手機(jī)鏡頭到AR / VR耳機(jī),從3D傳感到照明。但是,對於包含 DOE 或超穎透鏡的系統(tǒng)進(jìn)行模擬和設(shè)計(jì)總是很棘手的。沒有通用的方法可以處理所有情況。設(shè)計(jì)人員需要根據(jù)具體情況決定其系統(tǒng)的策略。
Base Face 選擇策略:如何定義起始面以決定全局網(wǎng)格走向。初探六面體網(wǎng)格生成:實(shí)現(xiàn)「一鍵堆疊」的高效率流程。第三單元:局部錫球 (Local Bump) 建模實(shí)戰(zhàn)封裝核心組件:BGA/Micro-bump 的網(wǎng)格劃分難點(diǎn)分析。局部加密技術(shù):如何在維持全局 Stacker 邏輯下,針對錫球進(jìn)行精細(xì)化網(wǎng)格處理。
設(shè)計(jì)變更的主導(dǎo)權(quán),已大幅度的由傳統(tǒng)式的只做代工向上提升,每一批模具代工至少有一半以上的模具,是由 Tokyo Seiki 主導(dǎo)修改產(chǎn)品設(shè)計(jì),例如最近接手的印表機(jī)組件的流道不平衡問題,以及某知名國際相機(jī)廠牌的產(chǎn)品翹曲改良。對癥下藥,增加產(chǎn)品強(qiáng)度:流動平衡與結(jié)合線問題改良流動平衡目的是避免成品後所發(fā)生變形的主要改善方案,尤其針對精密性產(chǎn)品,在分析過程中常以流動平衡指數(shù)來作為比較數(shù)據(jù)。