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什麼是Field以及Ray係數常常使用者在這個主題上會有一些混亂，因為薄膜理論以及相關的設計軟體程式，通常以不同的觀點來處理這個問題，而這個觀點與光線追跡的程式有很大的不同。在薄膜光學中，我們通常處理光的場 (field)，一般來說即是所謂的平面波。然而，光線的處理方式在本質上有很大不同，光線是局部的、無限小的且帶有能量的一點，擁有位置以及傳播方向等資訊。光線所看到的世界與薄膜的世界是不同的。

二進制文件允許在較小文件中儲存大量的光線數據集，而ASCII文件允許用戶檢查文件的內容。將文件從二進制轉換為ASCII只需一段簡單的C代碼。此代碼對于理解OpticStudio中文件光源使用的二進制文件以及光束數據庫文件 (ZRD) 非常有用。

本次分享將集中在Speos OPD的核心設計和操作方法，并以小案例設計作為參考說明和設計流程演示，幫助客戶快速了解和落地OPD設計應用。

圖八為透過X-ray顯示產品真空泡的橫截面結果，該真空泡位置符合體積收縮率上限9%的模擬結果。因此，優化的成型條件的過程中，應確保其體積收縮率小于9%，才能獲得較高強度的產品。圖七 比較產品的應力痕：（a）優化后成型條件與最后一段的壓力釋放，（b）壓力設定修改后的產品具有較小的剪切應力，以及（c）新的實際產品具有光滑的外觀。

目標是在小帶寬內的任意位置和波長處，仿真許多點光源，它們已經傳播到剛好在 前面的兩個區域，這樣它們就覆蓋了小孔 和 。圖13顯示了衍射儀的FRED模型。在第一個透鏡前面創建了光線，但是它們已經擴展到 便于視覺表現。這一選項叫做Post-Creation Ray Propagation，在像這樣的情況下是有用的，它有助于可視化實際上不存在的光線。

對于相對小的朝向立體角，默認10是足夠的。然而，在探測器的表觀形狀高度畸變的情況下，有必要增大該值。 在會聚和發散空間中尋找散射方向關注的區域 以下闡述的8個步驟定義了用于在成像系統中找到散射方向關注的區域的系統方法。這些步驟可以使用FRED的腳本語言自動完成。 1）在目標表面的中心創建一個發射光源。

對于相對小的朝向立體角，默認10是足夠的。然而，在探測器的表觀形狀高度畸變的情況下，有必要增大該值。在會聚和發散空間中尋找散射方向關注的區域以下闡述的8個步驟定義了用于在成像系統中找到散射方向關注的區域的系統方法。這些步驟可以使用FRED的腳本語言自動完成。1）在目標表面的中心創建一個發射光源。

為了驗證矩形體前表面的屬性已經改變，我們可以打開非序列3D視圖 (NSC 3D Layout) 工具，在設置中勾選光線箭頭 (Fletch Rays)、光線分裂 (Split Rays)、光線散射 (Scatter Rays) 和使用偏振 (Use Polarization) 選項。

特別地，部分反射(或選擇性透射)表面可以被模擬成只將一小部分入射能量以特定的分布方式散射。本文的示例可以闡述了如何使用朗伯散射和理想膜層來產生所需的效果。從附件開始，我們將創建和使用一個理想的鍍膜，以利用適當的涂層/散射屬性，創建一個部分反射表面。

為了驗證矩形體前表面的屬性已經改變，我們可以打開非序列3D視圖 (NSC 3D Layout) 工具，在設置中勾選光線箭頭 (Fletch Rays)、光線分裂 (Split Rays)、光線散射 (Scatter Rays) 和使用偏振 (Use Polarization) 選項。

在多數情況下，只要追光后“能量損失（錯誤）”這個值相比于光源的總光強而言非常小，那么這些個別的錯誤光線就能安全地被忽略掉。上述數據是絕對大小，而非相對值（如：瓦特）。如果能量損失的值較大，那么需要進一步調查其原因。如果能量損失值很小，那么這些問題就可以忽略掉，且認為結果是正確的！總結當 Optic Studio 不知道下一步該如何追跡光線的時候，便會產生幾何錯誤。

使用“使用偏振Use Polarization”、“忽略錯誤Ignore Errors”、“分割光線Split Rays”、“散射光線Scatter Rays”和“保存光線Save Rays”進行初始的非序列光線跟蹤。保存光線與任何想要的文件名。注意，光線必須在過濾字符串可以應用到光線數據庫和探測器查看器前保存!

光線光扇圖(Ray Fan)OpticStudio中的光線光扇圖可以通過選擇分析( Analyze)> 像質分析(Image Quality)>像差分析(Aberrations)>光線像差圖(Rays Aberration)打開。光線像差圖是光線像差隨光瞳坐標變化的曲線。一般情況下，當一條光線通過光學系統到達成像表面時，它的交點落在離主光線較小但非零的距離上。

在多數情況下，只要追光后“能量損失（錯誤）”這個值相比于光源的總光強而言非常小，那么這些個別的錯誤光線就能安全地被忽略掉。 上述數據是絕對大小，而非相對值（如：瓦特）。如果能量損失的值較大，那么需要進一步調查其原因。如果能量損失值很小，那么這些問題就可以忽略掉，且認為結果是正確的！

設置陳列光線條數 (Layout Rays) 為五百根，分析光線條數 (Analysis Rays) 為一百萬根（所允許的最大值，這是由于文件光源中僅包含一百萬根光線）。 需要注意的是，文件光源中的光線的書序并不是隨機的，我們需要隨機選取光線以使它們在布局圖中正確顯示。

設置陳列光線條數 (Layout Rays) 為五百根，分析光線條數 (Analysis Rays) 為一百萬根（所允許的最大值，這是由于文件光源中僅包含一百萬根光線）。需要注意的是，文件光源中的光線的書序并不是隨機的，我們需要隨機選取光線以使它們在布局圖中正確顯示。

使用“使用偏振Use Polarization”、“忽略錯誤Ignore Errors”、“分割光線Split Rays”、“散射光線Scatter Rays”和“保存光線Save Rays”進行初始的非序列光線跟蹤。保存光線與任何想要的文件名。注意，光線必須在過濾字符串可以應用到光線數據庫和探測器查看器前保存!

若想在OpticStudio中產生Jones Matrix表面，在序列模式(Sequential ray tracing)下，Jones Matrix可在表面型態(Surface Type)選單中選取; 而在非序列模式(non-Sequential ray tracing)中，則是以物件型態(Object Type)的方式呈現。

詳細信息請參考幫助系統中的“Ray Aberration (rays and spots)”一節中的討論。同樣需要指出的是，使用多重結構操作數AFOC可以在不同結構間定義聚焦或無焦像空間。并且在ZPL宏中，您可以使用關鍵詞GETSYSTEMDATA和SETSYSTEMPROPERTY來切換無焦像空間選項的設置。小結 這篇文章討論了如何在OpticStudio中設計無焦系統。

使用“使用偏振Use Polarization”、“忽略錯誤Ignore Errors”、“分割光線Split Rays”、“散射光線Scatter Rays”和“保存光線Save Rays”進行初始的非序列光線跟蹤。保存光線與任何想要的文件名。注意，光線必須在過濾字符串可以應用到光線數據庫和探測器查看器前保存!