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陣列透鏡是照明系統中有用的光學元件。它是將單個光學元件組裝或形成為單個光學元件的二維陣列，用於在照明平面上將光從非均勻分佈空間轉換為均勻輻照度分佈。這篇文章討論了複眼空間光學積分器在數位投影機中的使用，以及如何在 OpticStudio 中對此類元素進行建模。在數位投影器設計中，我們希望確保數位光源在輻照度分佈方面與投影圖像相匹配。

我們可以在下圖的分類數據報告(Prescription data)看到矩陣中的元素已被輸入鏡頭數據編輯器(Lens Data Editor)。在這個案例中，Jones Matrix被用來當作x方向上的1/4玻板。觀察Jones Matrix表面產生的結果最簡單的方式是利用偏振光瞳圖(Polarization Pupil Map)。

或者，參考文獻[3]顯示了如何使用Lumerical FDTD軟體為給定的相位曲線設計超穎透鏡。這種方法的缺點是設計人員可能無法檢查整個系統的性能。例如，沒有辦法考慮所有繞射階數來檢查點擴展函數（PSF）。類似地，儘管可以追蹤“非有效”的順序光線，但沒有計算出繞射效率，因此沒有辦法知道雜散光路中的功率比。

透鏡參數在光學設計上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價函數中加入ASTI操作數達成目的，此時我們將目標值設為0、加大權重，並且使用單一波長。在縮小遠點球面上最小模糊圈的方面，我們可以透過OpticStudio的預設優化函數和光點半徑標準等功能達成目的。

這些資料是用OpticStudio提供的現有圖形來顯示，用於大多數分析。此模式不允許對當前鏡頭系統或使用者介面進行更改（即：在這種模式下只允許對系統的副本進行更改）。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫。本文的自訂分析是用C#編寫的。

沒有過度失真的可變焦距鏡頭被廣泛認為是非常理想和廣泛適用的，但儘管現有技術工作人員失敗了，Alvarez還是設法提出了可變焦距鏡頭和系統。他的專利 (US3507565A 21.04.1970) 早已過期，但 DynaOptics 繼續使用我們的自由曲面透鏡技術。什麼是Alvarez 變焦鏡頭人們可能知道傳統變焦鏡頭的工作原理。

使用 OpticsBuilder，機構工程師可以創建複雜的透鏡邊緣、安裝特徵和模組外殼，同時利用 Zemax 光線追跡直接查看這些元件如何影響光學性能。在這種情況下，鏡頭邊緣可能會為雜散光提供路徑以污染圖像。 OpticsBuilder 不僅可以在透鏡之間創建擋板，而且還允許設計團隊了解抑制雜散光源的有效性。

此類模式可以在 OpticStudio 中使用 POP 設置對話框中的內置“高斯腰”光束定義進行建模：此模式的主要輸入是 X 和 Y 中束腰以及 X 和 Y 中光束的階數。以上設置演示瞭如何對 X 和 Y 中具有相同腰尺寸的 (0,0) 模式進行建模，對應於單模高斯光束。

光源規格OCT將干涉測量技術與寬帶近紅外光結合使用。 較寬的帶寬可提供最佳分辨率，而波長選擇可確定樣品材料中的穿透深度。 在此示例中，我們將使用840 nm中心波長，60 nm FWHM光源，該光源透過以下方式在空氣中提供5μm的軸向分辨率：這些光譜特性來自Superlum市售的超發光二極管，它具有生物成像的共同波長和足夠高的分辨率的帶寬。

介紹了優化的基本概念，演示了如何將參數設置為變量，展示了如何使用評價函數向導來評估設計的質量，并解釋了如何執行優化本身。最后，本文對最終的系統性能進行了評估。在第一部分中，討論了如何使用系統選項和鏡頭數據編輯器設置系統。在第二部分中，討論了一些可用于評估系統性能的分析。設置變量和搭建默認評價函數單透鏡的性能當然是受限的，但是OpticStudio仍然可以找到比目前更好的解。

在第一部分中，討論了在 SYNOPSYS 中如何建立單透鏡的三種方法。在第二部分中，討論了一些可用于評估系統性能的分析。設置變量和搭建默認評價函數單透鏡的性能當然是受限的，但是 SYNOPSYS 仍然可以找到比目前更好的解。在此過程中，確定當前設計具有多少自由度是很重要的。為了允許 SYNOPSYS 在優化過程中將參數視為自由度，必須將參數設置成變量。

（2） 劃分倍頻程頻段的頻帶范圍 根據中心頻率fc確定每個頻段的下限fl和上限fu，并在頻譜X(f)中定位該范圍對應的頻率點。（3） 計算頻段倍頻程值 計算各頻段對應的濾波信號的RMS值，然后將其轉換成各種目標格式（如聲壓級、聲功率級、能量級等）。3. 應用案例 在倍頻程圖中可根據柱形變化趨勢，快速識別和分析出聲音信號中的特征頻率成分。

使用者必須具備適當的授權碼，才能利用此強大的模組。螺桿塑化是其中一個受歡迎的方法之一，熔化是螺桿的剪切動作之一，可提供即將進入射出成型條件的熔件。實際的熔化溫度非常困難取得，通常會用噴嘴溫度或最後區域溫度取代。然而，不真實的熔化溫度會誤導進一步的製程，而無法透過射出成型產生高性能產品。然而，ScrewPlus 在射出成型初期階段擷取真實熔化溫度上扮演著重要的角色。

在非序列模式下也透過使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對於設計用於虛擬實境 (VR) 和增強實境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數。序列模式的體積全像在OpticStudio的所有版本上都可以使用，但是繞射效率分析只有訂閱制才能使用。DLL是訂閱制旗艦版本的功能。

首先介紹OpticStudio用戶界面的序列模式 (Sequential mode) ，然后重點介紹如何使用系統選項 (System Explorer) 和鏡頭數據編輯器 (Lens Data Editor) 正確設置單透鏡。它還解釋了如何使用求解 (Solves) 來強制設計約束。在第2部分中，我們將討論一些可用于評估系統性能的分析。

請注意 COMSOL 如何優先在孔洞周圍插入更小的單元。這應該不奇怪，因為我們已經知道孔洞周圍的應力更高。實際上，我們建議綜合自適應網格細化、工程判斷，以及個人經驗來找到一個可接受的網格。

以往當用戶采用iMFLUX制程進行產品生產時，需透過試誤的方式尋找適當之射出壓力，若要用PFA控制時，如何在生產前選擇合適傳感器位置，對用戶而言一直是頭疼的挑戰。現在使用者可透過Moldex3D中iMFLUX的仿真功能，評估其優勢，并考慮是否導入此制程。當導入此制程后，Moldex3D的模擬能力可幫助使用者找到最佳成型壓力、模內壓力傳感器的位置與分析不同PFA控制的效果。

在完成彈塑性時程分析之后，會得到大量的數據，如何在大量的數據中提取出有用的信息，并對結構進行性能評估成為了一個非常重要的課題。通常來講我們會從整體結構和重點構件兩個層面分別進行評估，其中結構層面的評估一般是通過頂點位移時程、最大層間位移角以及基底剪力時程等大指標確定；而構件層面則是通過轉角、力以及應變等構件指標確定。本文主要介紹如何在ETABS中進行構件性能校核。

若與關閉回沖設定的案例(下圖橘線)相較，則可發現回沖制程(18秒開始)決定了最后的掏空結果。

附件下載聯系工作人員獲取附件本文介紹了在具有固定孔徑的系統建模中如何使用漸暈系數。漸暈系數可用于確定穿過無遮攔系統的光束的尺寸和形狀。結合漸暈系數也可實現此類系統的高效優化機制。簡介漸暈現象描述的是圖像的亮度在其邊緣相對于其中心降低的效應。入射光束的漸暈現象一般由表面孔徑導致。