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程序適用于二維多土層粘彈性邊界和地震波等效節點力的加載；可以實現P波和SV波的斜入射。程序用MATLAB編寫注意:本程序用MATLAB編寫；本程序僅限于模型網格是規則的，請參考圖片；由于本物品并非實體，因此賣出概不退換，因此購買前請詢問清楚。

十字經過光學系統后的相干像(斜入射的s偏振入射平面波) 十字經過光學系統后的相干像(斜入射的p偏振入射平面波)

圖1顯示了一個簡單的長波通濾波器在斜入射時的計算性能，其曲線標記為p-偏振、s-偏振和平均極化。這些名稱是什么意思？ 我們約定中的不連續性會造成很大的困難，因此我們確保斜入射約定與正常入射約定兼容。我們需要一個s和p偏振的約定，因此選擇電場的正方向，如圖3所示。

我們約定中的不連續性會造成很大的困難，因此我們確保斜入射約定與正常入射約定兼容。我們需要一個s和p偏振的約定，因此選擇電場的正方向，如圖3所示。很明顯，這一慣例在正常情況下崩潰，如圖2所示。圖2. 電矢量正方向的垂直入射慣例。這適用于所有可能的線偏振方向。圖3. p和s偏振的電矢量正方向的慣例。反射率R和透射率T是計算的重要參數，我們必須小心它們在斜入射時的定義。

另外需注意到，FF邊界主要適用于地震波等外行波激勵問題，在孔洞動力問題分析中，其效果等同于安靜邊界（Quiet Boundary）。由于巖土體動力問題的復雜性及分析效率等原因，平面應變分析方法目前依然被廣泛應用。如在土石壩抗震分析中，對應于最大壩高部位的壩體地質斷面通常被用來作為工程方案可行性的驗算依據。

十字經過光學系統后的相干像(斜入射的s偏振入射平面波)十字經過光學系統后的相干像(斜入射的p偏振入射平面波)

另外需注意到，FF邊界主要適用于地震波等外行波激勵問題，在孔洞動力問題分析中，其效果等同于安靜邊界（Quiet Boundary）。由于巖土體動力問題的復雜性及分析效率等原因，平面應變分析方法目前依然被廣泛應用。如在土石壩抗震分析中，對應于最大壩高部位的壩體地質斷面通常被用來作為工程方案可行性的驗算依據。

對于Essential Macleod中的所有計算，基本分量是線偏振平面波（或單色光）。 當我們討論偏振時，我們經常提到線偏振或平面偏振、圓偏振和橢圓偏振。在計算中，所有這些偏振被表示為兩個正交線偏振的組合，其可以單獨計算并且在透射或反射中的取向不變。它們有時被稱為偏振的本征模式，這在斜入射時尤為重要。光學薄膜的作用是改變每種組分的振幅和相位。膜層的性能量化了這些變化。

在垂直入射時，對線性偏振方向影響，因此我們將入射波中的電場的正方向設置為沿著正y軸。相同的慣例適用于反射波和透射波。對于相位參考點，我們選擇入射波和反射波的坐標原點，但是z軸從發射波的后表面或出射表面出現的點，我們選擇時間變量，使入射波的相位在參考點處為零。然后，反射和透射波的相位也就是反射和透射的相位變化。圖2顯示了這種約定。

由于不同類型地震波產生的時間和速度不同，它們到達同一場地的時間也就有先后，從而形成一組地震波序列，它解釋了地震時地面開始搖晃后我們所經歷的不同感覺。 首先 從震源到達某地的第一波是“推和拉”的P波。它們一般以陡傾角出射地面，因此造成鉛垂方向的地面運動，垂直搖動一般比水平搖晃容易經受住，因此一般它們不是最具破壞性的波。

2 場地反應分析地震場地反應分析(Site Response Analysis)研究的是地震波從輸入基巖通過場地土向地表的傳播過程，估計場地因地震而產生的地面響應。

分析3：斜入射 本分析將研究涉及用非正入射光照射納米線柵偏振器，在45度入射角下仿真具有50%占空比結構（550nm波長，140nm光柵常數）的透射率，并生成場振幅和相位圖。

分析3：斜入射 本分析將研究涉及用非正入射光照射納米線柵偏振器，在45度入射角下仿真具有50%占空比結構（550nm波長，140nm光柵常數）的透射率，并生成場振幅和相位圖。

新特性簡介(P1)---速度提升】和符合基礎邊界(Compliant base boundary)條件，此選項是地震分析的首選，在模型底部施加動態輸入，符合基礎邊界條件用來吸收向下的波，從而使波只向上傳播。

而4，5 號監測點的豎向應力值在橫向地震波作用下的衰減速度要小于在縱向地震波作用下的衰減速度，5 號監測點水平應力的變化規律也是如此。上述現象說明縱向地震波作用下的碎石土內部應力的釋放要快于橫向地震波作用下，在地震波作用初期該現象易引發邊坡失穩。

x方向偏振的太赫茲波以25°仰角斜入射到該超表面上，由于最下層的金膜能很好的反射太赫茲波，所以沒有啥透射波，波一部分被金棒吸收損耗了，大部分還是被反射回來了，反射回來的波中既有x分量的波，也有y方向的波，同時在特定波段內y方向的波還是占大部分的，所以該器件實現了反射波的偏振轉換功能。

光柵被斜入射S和P偏振平面波照亮。JCMsuite計算近場分布。下圖顯示了當波長為193nm時，平面波從襯底側垂直入射到結構內的近場強度S偏振光照明的近場強度P偏振光照明的近場強度后處理傅里葉變換計算散射場在上半空間的傅里葉變換。在實驗中，遠場通常由成像的光學裝置來收集。后處理光學成像允許描述一個通用光學成像系統。

光柵被斜入射S和P偏振平面波照亮。JCMsuite計算近場分布。下圖顯示了當波長為193nm時，平面波從襯底側垂直入射到結構內的近場強度S偏振光照明的近場強度P偏振光照明的近場強度后處理傅里葉變換計算散射場在上半空間的傅里葉變換。 在實驗中，遠場通常由成像的光學裝置來收集。后處理光學成像允許描述一個通用光學成像系統。

在x和y方向我們選擇周期性邊界條件（注意：x方向設一個周期性邊界，y方向設一個周期性邊界），如下圖所示， z方向是我們的入射方向，在完美匹配層邊界處設置入射端口和出射端口。這里我們選擇TM模式激發，考慮沿x軸斜入射的情況，磁場方向始終與波矢方向垂直，沿y方向。