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視頻 Abaqus_Tosca優化詳解(從入門到精通)
課程內容:---------------------------------------------------------------第一章-Tosca優化介紹第二章-基於控制算法之拓樸優化實例演練(一)-齒輪拓樸優化(基於控制算法)第三章-幾何限制與擷取優化果實例演練(二)-齒輪拓樸優化考慮幾何限制實例演練(三)-懸臂樑拓樸優化考慮幾何限制第四章-基於廣義算法之拓樸優化
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鄭鈞 Adam ??? 6年前
Abaqus_Tosca結構優化詳解(從入門到精通)
帖子 Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
( 如圖5~圖8 ) Tokyo Seiki 繼續投資 Moldex3D 自從搭配模流分析軟體 Moldex3D 輔助模具設計後,試模的次數皆可以控制在三次以內,以有效為客戶解決問題。Mr. VC Chong 說:「平均來說,我每週必須投入 2-3 天時間進行分析,以確保經驗不足的設計方案可以順利生產;因此我讓電腦晚上執行分析,白天再來驗證果。
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Moldex3D 中國 ??? 3年前
Moldex3D模流分析之Tokyo Seiki公司使用模流大幅減少試模次數
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
相反,光柵的表面是由周期性的微組成的。為了對SRG進行建模,需要採用類似傅里葉模態法(也叫RCWA)的算法。本文將介紹VHG的工具。關於SRG的工具,請參見知識庫文章Simulating diffraction efficiency of surface-relief grating using the RCWA method。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
帖子 光學仿真干貨丨Lumerical納米線柵偏振器仿真應用
01 說明 / Ansys Lumerical 由亞波長金屬光柵(納米線柵偏振器)組成的高對比度偏振控制器件正在取代體光學元件。納米線柵偏振器提供了較好的消光比對比度、最小的吸收以解決高亮度照明,以及緊湊的形狀以便于大規模制造和集成在小型光學器件中。然而,納米線柵偏振器的設計具有一定挑戰性,特別是考慮到制造缺陷。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
光學仿真干貨丨Lumerical納米線柵偏振器仿真應用
帖子 Ansys Lumerical | 納米線柵偏振器仿真應用
說明 由亞波長金屬光柵(納米線柵偏振器)組成的高對比度偏振控制器件正在取代體光學元件。納米線柵偏振器提供了較好的消光比對比度、最小的吸收以解決高亮度照明,以及緊湊的形狀以便于大規模制造和集成在小型光學器件中。然而,納米線柵偏振器的設計具有一定挑戰性,特別是考慮到制造缺陷。
2005
宇熠科技 ??? 3年前
Ansys Lumerical | 納米線柵偏振器仿真應用
帖子 【FRED】雙折射晶體偏振干涉效應
由于o光e光偏振角度不同,并不能直接相干,但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的,所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線,不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同,這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化,所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。
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追光ing ??? 2年前
【FRED】雙折射晶體偏振干涉效應
帖子 雙折射晶體偏振干涉效應
由于o光e光偏振角度不同,并不能直接相干,但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的,所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線,不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同,這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化,所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。
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張藝凡 ??? 2年前
雙折射晶體偏振干涉效應
帖子 Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
在OpticStudio中建立相關模型,我們可以得到下方圖中的果,一個能供具有老花眼和-5.50D近視的使用者配戴的優化透鏡。此鏡片的屈光率為-3.00D,並能在距透鏡40公分處匯聚光線,形成適宜的閱讀距離。鏡片的基本曲線則是+28D。任何嘗試控制畸變的設計都將產生十分陡峭的基本曲線。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程:眼科鏡片設計
帖子 RP 系列 激光分析設計軟件 | 無源光纖( 第九部分)
人們可以通過考慮模式耦合來理解這一點:顯著的模式耦合需要一個周期等于兩個偏振態的拍周期的擾動。對于強雙折射,該拍(偏振拍長)周期相當短(例如,幾毫米),并且通常的擾動在空間上太“慢”而不會引起任何顯著的耦合,或者至少根據偏振拍不具有很強的空間傅立葉分量。極化不敏感設計消除極化問題的另一種方法是設計設備,使極化無關緊要。例如,這種方法通常用于光纖通信。
1810
墨光科技 ??? 3年前
RP 系列 激光分析設計軟件 | 無源光纖( 第九部分)
帖子 FRED:雙折射晶體偏振干涉效應
由于o光e光偏振角度不同,并不能直接相干,但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的,所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。 對于同一個傾角的光線,不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同,這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化,所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。
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追光ing ??? 2年前
FRED:雙折射晶體偏振干涉效應
帖子 Ansys Zemax | 探究 OpticStudio 偏振分析功能
然而,在偏振光瞳圖并不是這樣的,它會在笛卡爾坐標圖中顯示出特定表面處的電場向量 (Ex, Ey) 的端點在一個時間周期內的軌跡。這是由于相位不同造成了偏振橢圓方向不同。對于大多數計算,OpticStudio分析偏振橢圓時是沿時間軸的正向還是反向并不重要,這是因為我們假設系統為穩態系統。在默認設置下,分析計算都是沿時間軸正向的(光線即將入射到特定表面的時候)。
2420
宇熠科技 ??? 6月前
Ansys Zemax | 探究 OpticStudio 偏振分析功能
帖子 ZEMAX軟件技術應用專題:智慧型手機鏡頭模組
雖然性能要求至關重要,但確保設計可以製造並在建時性能良好也同樣重要。這裡有許多考慮因素。可製造的特定鏡片形狀將受到限制。同樣,OpticStudio 提供了分析特性的能力,例如最大局部表面斜率,並在優化過程中控制這些特性以確保最終的光學設計是可製造的。射出成型技術使可能的創新光學機設計技術,具有大規模生產的模塊很多好處。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
ZEMAX軟件技術應用專題:智慧型手機鏡頭模組
帖子 雙折射晶體偏振干涉效應
由于o光e光偏振角度不同,并不能直接相干,但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的,所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線,不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同,這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化,所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。
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追光ing ??? 3年前
雙折射晶體偏振干涉效應
帖子 Ansys Zemax | 探究 OpticStudio 偏振分析功能
這是由模式標志控制的,它允許用戶在如何根據給定系統的普通光束和非常光束之間的角度偏差對雙折射效應進行建模方面具有更大的靈活性。 雙折射輸入/輸出表面在模擬雙折射方面的唯一局限是它們不考慮光線分裂的影響。為了考慮光線分裂,系統應該轉換為非序列模式。 偏振表面相關應用 本節介紹如何在 OpticStudio 中定義雙折射延遲器和光隔離器的簡要示例。
2588
宇熠科技 ??? 2年前
Ansys Zemax | 探究 OpticStudio 偏振分析功能
帖子 ZEMAX | 探究 OpticStudio 偏振分析功能
該計算類型是通過雙折射輸入/輸出中的模式 (Mode Flag) 參數來控制。使用雙折射輸入/輸出表面模擬雙折射現象的唯一限制是它不考慮光線分裂。如果您需要考慮光線分裂,請將系統轉換到非序列模式中。偏振相關表面的應用在本節中我們會用實例介紹如何在OpticStudio中定義雙折射延遲器和光隔離器。光學延遲器光學延遲器(也稱作波片)可以改變輸入光的偏振態。
2038
宇熠科技 ??? 3年前
ZEMAX | 探究 OpticStudio 偏振分析功能
帖子 雙折射晶體偏振干涉效應
由于o光e光偏振角度不同,并不能直接相干,但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的,所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線,不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同,這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化,所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。
2218
追光ing ??? 1年前
雙折射晶體偏振干涉效應
帖子 FRED 雙折射晶體偏振干涉效應
由于o光e光偏振角度不同,并不能直接相干,但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿足相干條件的。兩種光的相位差是隨著傾斜角度變化的,所以隨著傾角的變化會出現明暗交替的環。對于同一個傾角的光線,不同方位角的光線投影在單軸晶體上的的o光和e光分量大小不同,這些o光和e光投影在偏振片上分量也隨著方位角而變化,所以可以設想同一環上的光強也會隨著方位角而周期性變化。
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追光ing ??? 1年前
FRED 雙折射晶體偏振干涉效應
帖子 探究 Zemax OpticStudio偏振分析功能
這是由模式標志控制的,它允許用戶在如何根據給定系統的普通光束和非常光束之間的角度偏差對雙折射效應進行建模方面具有更大的靈活性。有關模式標志用途的更多信息,請參見“在“雙折射輸入”表面上選擇模式標志有什么作用?。
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Ansys中國 ??? 3年前
探究 Zemax OpticStudio偏振分析功能
帖子 FRED應用:雙折射晶體偏振干涉效應
分析面到這里設置已經完畢,整個系統看起來像下圖的樣子,也可以到 Edit/Edit View Multiple Surfaces 下查看各個表面的材料,鍍膜,光線控制等性質。圖12. 整體系統圖13. 各個表面性質現在定性討論一下干涉的效果。因為光源與偏振片的偏振方向垂直,所以只有偏振方向改變的光線能夠通過。
2405
追光ing ??? 1年前
FRED應用:雙折射晶體偏振干涉效應
帖子 FRED應用:雙折射晶體偏振干涉效應
分析面到這里設置已經完畢,整個系統看起來像下圖的樣子,也可以到 Edit/Edit View Multiple Surfaces 下查看各個表面的材料,鍍膜,光線控制等性質。圖12. 整體系統圖13. 各個表面性質現在定性討論一下干涉的效果。因為光源與偏振片的偏振方向垂直,所以只有偏振方向改變的光線能夠通過。
1780
追光ing ??? 11月前
FRED應用:雙折射晶體偏振干涉效應
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