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然而，為了準確地說明體積全像的特性，除了考慮繞射光線的傳播方向外，還必須考慮繞射效率、材料收縮或折射率變化等因素?？紤]繞射效率使用戶能夠進行圖像模擬和綜合優化等高級分析。表面反射光柵與體積全像光柵的比較在介紹這個模型之前，我們先簡單解釋一下表面反射光柵（SRG）和體積全像光柵（VHG）的區別。

2 單鍵優先判斷輸出方式處理, 如果 K1 已經承認了, 需要等 K1 放開後, 其他按 鍵才能再被承認，同時間只有一個按鍵狀態會被輸出。 3 具有防呆措施, 若是按鍵有效輸出連續超過 10 秒, 就會做復位。 4 環境調適功能，可隨環境的溫濕度變化調整參考值，確保按鍵判斷工作正常。 5 可分辨水與手指的差異，對水漫與水珠覆蓋按鍵觸摸盤，仍可正確判斷按鍵動 作。

這使得陣列中透鏡元件表面形狀的定義和優化具有了極大的靈活性。下圖顯示了透鏡陣列1物體，它是由7 x 5個矩形透鏡組成的透鏡陣列，每個矩形透鏡都可以看作一個球面透鏡的矩形區域。其它可以用於該應用程式的物體包括透鏡陣列2物件和六邊形透鏡陣列(Hexagonal Lenslet Array)物件。

1.4 參數化 DOE 矢高-> POP像上述方法一樣，可以透過在OpticStudio中對二進制矢高建模來模擬菲涅耳波帶片。但是，對於這種類型的DOE，光線追跡引擎將無法正常工作。垂直入射到DOE上的光線不會改變其方向，因為表面沒有傾斜。但是，垂直入射的光束可以用適當設計的菲涅耳波帶片聚焦。此效果應由OpticStudio中的POP處理。

以摩托車的喇叭按鍵孔為例，此塑件在組裝後續需承受多次的受力，故塑件成型過程中需避免結合線發生在受力區域。結合線是減弱成品強度的其中因素之一，所以由分析的結果可知原始設計的結合線位置剛好落在成品受力面，產品有強度不足的疑慮，移動澆口位置可以有效改善此問題。

我們可以經由 k ? E = 0以及傳播向量k具有{0, 0, 1}分量，這兩個前提得知Ez一定為0。同時，我們可以利用Ex和Ey表示入射光的偏振態。另一方面，如果光束以任意的{l, m, n}向量入射，OpticaStudio會自動調整Ez 或 {Ex, Ey}，來達到k ? E = 0 且E的振幅不會增加的目標。但這樣的調整可能會使E的振幅變小，最後導致穿透光能量的損耗。

透鏡參數在光學設計上常使用的最小化Seidel斜向像散的方法可透過在OpticStudio的評價函數中加入ASTI操作數達成目的，此時我們將目標值設為0、加大權重，並且使用單一波長。在縮小遠點球面上最小模糊圈的方面，我們可以透過OpticStudio的預設優化函數和光點半徑標準等功能達成目的。

Alvarez 鏡組 (圖片來源: www.spiedigitallibrary.org) 如下圖所示，每個 Alvarez 鏡組代表一個具有光功率變化的光學元件。每對中Alvarez鏡片的橫向位移會改變Alvarez鏡組的光焦度。圖4. Alvarez鏡組的一般工作原理。圖2.

同樣，OpticStudio 提供了分析特性的能力，例如最大局部表面斜率，並在優化過程中控制這些特性以確保最終的光學設計是可製造的。射出成型技術使可能的創新光學機構設計技術，具有大規模生產的模塊很多好處。鏡頭可以設計成具有復雜的邊緣特徵，使它們能夠堆疊，從而簡化組裝並消除對齊的需要。Zemax 工具使注塑光學元件的可能性最大化變得簡單。

儘管它在OCT系統的類型之間有所不同，但深度掃描通常由參考鏡執行，以使樣品返回的光對應於樣品和參考之間的特定光程差（OPD）。 透過以x或y方向旋轉掃描鏡來執行橫向，橫向或b掃描，從而在整個樣品區域上平移探測光束。我們從商用OCT系統中獲取目標規格。 軸向分辨率完全來自光源特性，應在5μm的數量級上。 來自樣品處光束半徑的橫向分辨率應為15μm。

我們發現器件的改進 值具有波長依賴性（圖2e–g）。在1547.1nm波長下獲得最小 值2.1V，消光比(ER)達27.5dB（圖2f）。其他波長下的測量ER值詳見補充材料第S8節。最佳 值為0.21V·cm，表明TFLN MZMs具有高調制效率。考慮到TFLN的光折變效應，在接近直流頻率下工作的調制器會引入額外的慢光效應，導致 值被高估或低估。

對于包含各類光學元件的整個復雜的光學系統，通過非序列追跡功能，將所需的求解器連接起來，并通過選擇合適的傅里葉變換方法，以在空間域或者空間頻率域進行光場傳輸計算，從而能夠在保證計算精度的情況下，更快的完成整個系統的仿真和分析，以實現多元化光學仿真。在整個仿真過程中，會考慮各種物理光學效應，如干涉、衍射、像差、偏振、相干以及矢量效應等。

實際上，新的光波導表面結構在光柵面和支撐基板之間沒有留任何的偏置層，另外，它是由強聚合物（Strong Polymer）而不是散亂分布的樹脂制成。使用 DigiLens當前的全息記錄工藝可以輕松制作這種光柵結構，這也讓公司能夠輕松滿足更為廣泛的客戶要求。該技術不僅可以保證產品成本效益和效率，還能助力實現高對比度清晰圖像的顯示。

入射光的電場並非用單一個點來描述，相對的，我們會假設該電場比多重光束干涉發生的區域更大許多。在Zemax OpticStudio中，我們使用field係數來表示這個結果，這些係數已經被薄膜膜層的程式驗證過許多次。薄膜理論的慣例是計算平面法向量方向上的相位變化，這表示其假設了一個虛擬的平面波從薄膜最外層一路傳播到基板。

所需的優化函數已經在當前文件中定義，打開評價函數編輯器如下圖所示：用操作數5和8分別用于最大化空間均勻性和總光通量，用操作數10和11來控制光強分布的質心，用操作數13用來控制光強分布的均方根半徑。希望輸出光線不是完全平行的，而是限制在一定的視角范圍內，因此，指定了30°作為目標視角。

另外如接觸到溶劑、化學品等也會造成在應力區域的加速劣化。 應力偏光檢測之理論基礎光的產生是藉由電荷振動所釋放之輻射波，光束同時具有粒子及波動之特性，所以光波可在真空中傳遞，是屬于電磁波之一種。然而由于光可以向四面八方照射，所以若以自然光來做一些如干射、繞射等分光光譜觀測時，將會因為各方向光波的互相干擾而無法辨識。

所需的優化函數已經在當前文件中定義，打開評價函數編輯器如下圖所示： 用操作數5和8分別用于最大化空間均勻性和總光通量，用操作數10和11來控制光強分布的質心，用操作數13用來控制光強分布的均方根半徑。希望輸出光線不是完全平行的，而是限制在一定的視角范圍內，因此，指定了30°作為目標視角。

此外，表面等離子體光子學納米材料還可以改善LED的光提取，提高其亮度和效率，從而實現低成本、柔性和輕量化的LED顯示屏。光學計算光計算旨在通過將電子器件與光處理器件互換來充分利用光信號的高帶寬。例如，2014年，研究人員制作了一種由二氧化釩等離子體材料制成的200 nm太赫茲光開關。二氧化釩顯示出在不透明金屬相和透明半導體相之間轉換的能力。

此外，表面等離子體光子學納米材料還可以改善LED的光提取，提高其亮度和效率，從而實現低成本、柔性和輕量化的LED顯示屏。光學計算光計算旨在通過將電子器件與光處理器件互換來充分利用光信號的高帶寬。例如，2014年，研究人員制作了一種由二氧化釩等離子體材料制成的200 nm太赫茲光開關。二氧化釩顯示出在不透明金屬相和透明半導體相之間轉換的能力。