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因此，這種限制要求投影器設計包含均勻照明的空間光調製器 - 通常採用 LCD 面板的形式。理論上，這聽起來很容易，但這種面板上的源光束通常是高斯的（即不均勻）。因此，需要一種設備來“去高斯”，或在空間上將非均勻光束輪廓轉換為均勻光束輪廓。具有這種能力的一個這樣的設備是一對複眼空間光學積分器陣列。何謂透鏡陣列?透鏡陣列是將單個光學元件組裝成單個光學元件的二維陣列。

該圖表未涵蓋設計的詳細訊息，例如，微觀結構可以是傳統的閃耀光柵或現代的超穎透鏡。所需的設計和製造方法可能會有所不同，具體取決於微結構的類型。參考文獻[5]顯示了根據給定的相位輪廓生成閃耀光柵的範例。它還討論了單點金剛石車床的製造。可以在我們的知識庫文章中找到用於生成閃耀光柵的巨集:如何使用巨集計算繞射光學元件的垂度。

因此，材料供應商以及鏡片製造商通常都會提供精度超過小數點後兩位的折射率資料。然而除了單一波長的折射率以及阿貝數 (Abbe Number) 外，通常就不會有更多相關資料了。單一波長方面我們通常會選擇使用e線 (546.1nm)，因為該波長更接近相對光度函數曲線(relative luminosity curve)的最大值。但在某些特殊的情況下，d線 (587.6 nm)的使用也是有可能的。

這篇文章將提供一些使用上的範例。簡介偏振態分析(polarization analysis)可以作為一般光線追跡的進階功能。在模擬的過程中，會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下，OpticStudio可以對大多數的鍍膜或雙折射材料進行完整的分析。

智慧型手機是地球上最普遍的消費技術之一，包含大量高科技光學系統。大多數都有多個相機單元，這對設計師和製造商提出了挑戰，以滿足嚴格的性能、成本和尺寸要求。在這篇Blog中，我們將討論 Zemax 解決方案如何幫助應對和克服這些挑戰。智慧型手機鏡頭模組用於智慧型手機相機的鏡頭模組非常複雜，每個模組都包含多個鏡頭元件。

對於TM(橫向磁場)極化，我們可以簡單地將κ替換為κTM，如下所示，仍然使用前面的公式。在錐形繞射的情況下，入射光線不垂直於光柵，偏振特徵態定義如下:圖3.全像在Kogelnik的耦合波理論中，全像被認為足夠厚，每條入射光線要不是直接以0階通過，不然就是1階繞射，對於反射和透射的全像都是如此。

我們在一個光學系統中有幾組透鏡元件，它們沿著光軸沿著預定義的軌跡移動，從而提供了光學系統最終焦距（變焦係數）的變化。在 Alvarez變焦鏡頭的情況下，我們有一對所謂的Alvarez鏡頭，這些鏡頭元件相互之間的橫向位移提供了光學系統焦距的變化。傳統變焦鏡頭與 Alvarez變焦鏡頭的主要區別在於，傳統系統鏡頭沿光軸運動，而Alvarez系統鏡頭則沿垂直於光軸的方向運動。

顏色變化對應於返迴光強度的變化。 這表明發生了重大變化。代表性的OCT系統如下所示。 光束應均勻地分成兩臂，其中一個在樣品體積上會聚，以最小化給定掃描的照射面積。 光源應為一束準直的寬帶光束；大帶寬意味著低相干性和高精度定位產生相干性的深度。深度掃描也稱為軸向掃描或A掃描，它根據反射到樣品中的距離來測量反射光的強度。

雷射雷達向場景中發射雷射脈衝：光照射到周圍的物體上發生散射，部分光被散射回雷射雷達探測器。如下圖所示：來自紅色行人的散射光到達了雷射雷達探測器的一個單位圖元上。雷射雷達會將接收到返回信號花費的時長記錄下來，即飛行時間，並將飛行時間轉換為距離。圖元的位置可表明入射光的方向。這兩個值都表明散射光線來自站在離貨車10米遠的紅色行人。

光束整形＞單元陣列任務/系統描述 亮點對包含部分相干以及色散效應的光線偏轉元件采用創新的用戶友好設計方法 說明：光源 說明：單元陣列 說明：探測器 結果：3D系統光線追跡 結果：光柵單元陣列 結果：棱鏡單元陣列

該方程最廣為人知的解法是理想的單模高斯光束的解法。存在依賴於給定係統對稱性的其他正交解集。1 它們可用於對高階光束模式進行建模。在這篇Blog中，我們描述了 OpticStudio 中可用於表徵高階雷射光束的模型。定義後，此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學傳播設計的任何光學系統中傳播。

光束整形＞單元陣列任務/系統描述 亮點對包含部分相干以及色散效應的光線偏轉元件采用創新的用戶友好設計方法 說明：光源 說明：單元陣列 說明：探測器 結果：3D系統光線追跡 結果：光柵單元陣列

它將用于計算光束整形鏡的光學函數。 2. 計算鏡的光學函數 計算反射鏡的光學函數需要計算入射激光光束和反射鏡平面上的反射激光光束。? 在鏡平面上計算照明激光光束? 使用光路圖Sc559_Design Beam Shaping Mirror_1.lpd。 ? 光路圖包含一個高斯光源以生成相同的入射激光光束。

可以使用高斯孔徑來減少。 總結 實現并分析高性能離軸和無色散反射光束整形裝置。1.模擬通過使用光線追跡來驗證反射光束整形設置。2.研究為了計算場分布和評價光束參數，應用幾何場追跡+（GFT+）引擎。3.優化通過使用顯示出高斯整形孔徑函數和經典場追跡引擎來優化M2參數。4.分析通過應用蒙特卡羅公差來分析取向偏差的影響。

它將用于計算光束整形鏡的光學函數。 2. 計算鏡的光學函數 計算反射鏡的光學函數需要計算入射激光光束和反射鏡平面上的反射激光光束。?在鏡平面上計算照明激光光束?使用光路圖Sc559_Design Beam Shaping Mirror_1.lpd。

經過一番如魔術般建設性以及破壞性干涉後，最後的結果可以用巨觀的反射以及穿透係數來表示。入射光的電場並非用單一個點來描述，相對的，我們會假設該電場比多重光束干涉發生的區域更大許多。在Zemax OpticStudio中，我們使用field係數來表示這個結果，這些係數已經被薄膜膜層的程式驗證過許多次。

包含一個光柵元胞陣列的照明系統光線追跡模擬微透鏡陣列 微透鏡陣列，也叫做“蠅眼聚光器”可以被用在LED和準分子激光器均質化的各種光學裝置中，微透鏡陣列有以下光學特性：? 光分布整形取決于透鏡口徑和透鏡表面.? 常被用來產生圓形、矩形和六角形光分布.? 可以產生一般的二維圖案.? 單色光和白光的整形.六角形透鏡陣列可以用來產生六角形光分布.

仿真成果：張子怡等人[2]通過擬合曲線發現光束均勻性入射光束直徑為1.49mm，邊緣陡度最小直徑為1.44mm，光束均勻性入射發散角為8.6mrad，邊緣陡度最小發散角為8.1mrad。該研究提供了一種根據入射光束直徑和發散角來確定整形鏡使用位置的方法，從而使得非球面整形鏡的應用更為便捷有效。仿真生成的光路圖（圖1）直觀呈現光束傳輸路徑，其實驗裝置如圖2所示。

光束整形與分束 DOE產品有兩個主要系列：分束器和光束整形器。分束器是用于將單個激光束分成幾個具有不同能量水平和傳播角度光束的DOE。根據元件表面上的衍射圖案，分束器可以產生一維光束陣列（1×N）或二維光束矩陣（M×N）。光束分束器與單色光一起使用，并被設計用于特定的波長和輸出光束之間的分離角。

空間光調制器(SLM.0003 v1.0)應用示例簡述1.系統細節?光源—高斯激光束?組件—反射型空間光調制器組件及后續的2f系統—不同的傅里葉透鏡設計(球面，非球面) 具有不同的性能和像差?探測器—視覺感知的仿真—高帽，轉換效率，信噪比?建模/設計—場追跡：?基于不同性能傅里葉透鏡的SLM光束整形系統的性能評估。