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帖子 線上研討會 | 用 SYNOPSYS 和 ASAP 聯合設計仿真設計分析光刻鏡頭(免費)
考慮大家對于不同軟件之間進行交互操作以及具體案例操作流程不熟悉的情況,武漢墨光將在 05月12號 開展 用 SYNOPSYS 和 ASAP 聯合設計仿真設計分析光刻鏡頭 線上研討會 。給大家分享關于運用不同光學設計軟件對光刻鏡頭的設計到分析的案例演示。從而帶大家更加直觀的了解 SYNOPSYS 和 ASAP 如何進行交互操作。
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墨光科技 ??? 3年前
線上研討會 | 用 SYNOPSYS 和 ASAP 聯合設計仿真設計分析光刻鏡頭(免費)
帖子 大視場光刻照度均勻性不足?OAS軟件精準優化解難題
<p class="ql-align-center"><strong>?光刻鏡頭案例分析</strong></p><p><br></p><p class="ql-align-justify"><br></p><p><strong style="color: rgb(13, 80, 199);">簡介</strong></p><p class="ql-align-justify">光刻鏡頭作為先進制程芯片制造的核心光學組件
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武漢二元 ??? 3月前
大視場光刻照度均勻性不足?OAS軟件精準優化解難題
帖子 投影物鏡設計難點多?OAS跨尺度仿真精準實現
投影物鏡案例分析 簡介 投影物鏡作為光刻、投影顯示等領域的核心光學成像系統,由前級聚光、中繼像差校正及后級投影多組透鏡單元構成,通過多級光線會聚與像差校正消除球差、色差等畸變,實現大視場、高分辨率的清晰成像,其成像精度與畸變控制能力直接決定終端設備的性能表現,需嚴格滿足高精度光學系統的設計標準。
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武漢二元 ??? 2月前
投影物鏡設計難點多?OAS跨尺度仿真精準實現
帖子 SYNOPSYS 精選設計案例,來武漢墨光直播間帶你演示!
: SYNOPSYS 變焦鏡頭設計??3月29日 19:00-19:30案例主題 : SYNOPSYS 光刻投影鏡頭的設計??直播詳情: ?直播時間 : 2024年3月25日-29日 19:00-19:30直播講師 :武漢墨光資深光學工程師直播報名 :關注【武漢墨光】視頻號,預約直播
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墨光科技 ??? 2年前
SYNOPSYS 精選設計案例,來武漢墨光直播間帶你演示!
帖子 光學設計中干涉現象難預測?OAS 軟件多結構干涉來解決
案例設置與操作參數設置本案例為模擬多結構干涉現象,構建了特定的光學系統。系統中設置了五個光束光源,每個光源的束腰半徑均為 0.1mm,波長統一為 0.38μm。該波長處于紫外波段,在光刻、光譜分析等應用場景中具有重要意義。光束發出后,經過一枚理想透鏡,隨后光線聚焦于探測平面上。理想透鏡的引入為光線的聚焦提供了穩定且可預測的光學條件,確保了后續干涉圖樣探測的準確性。
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武漢二元 ??? 8月前
光學設計中干涉現象難預測?OAS 軟件多結構干涉來解決
帖子 JCMsuite案例展示:衰減相移掩膜的仿真分析
JCMsuite案例展示衰減相移掩膜的仿真分析在本示例中,模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示: 掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方,位于相移區域。掩模的布局是由一個描述襯底吸收層和上層的多層膜組成的。兩個平行四邊形用于定義包括移相器的開口。
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追光ing ??? 1年前
JCMsuite案例展示:衰減相移掩膜的仿真分析
帖子 限時福利丨SYNOPSYS? 案例視頻免費領取!
· SYNOPSYS? 案例視頻免費領 ·掃碼添加工作人員免費試用 SYNOPSYS 最新版本SYNOPSYS? 光學設計軟件是目前世界上功能強大的光學設計軟件之一。60多年的發展更新和 Windows 界面使得新手很容易上手使用;能輕松面對更高的專業需求。
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墨光科技 ??? 3年前
限時福利丨SYNOPSYS? 案例視頻免費領取!
帖子 VirtualLab Unity應用:遠心物鏡
應用場景 遠心物鏡廣泛應用于機器視覺檢測、高精度測量、工業顯微成像與半導體光刻中,用于實現物方或像方遠心光路、消除視差誤差以及保證高倍率下的測量精度。其具有成像畸變小、工作距離靈活、放大倍率穩定的優點,適合應用于對測量精度要求嚴苛的光學系統。
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信光嗎 ??? 4月前
VirtualLab Unity應用:遠心物鏡
帖子 VirtualLab Unity應用:遠心物鏡
案例說明 遠心物鏡廣泛應用于機器視覺檢測、高精度測量、工業顯微成像與半導體光刻中,用于實現物方或像方遠心光路、消除視差誤差以及保證高倍率下的測量精度。其具有成像畸變小、工作距離靈活、放大倍率穩定的優點,適合應用于對測量精度要求嚴苛的光學系統。
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追光ing ??? 4月前
VirtualLab Unity應用:遠心物鏡
帖子 VirtualLab Unity應用:定焦投影物鏡
應用場景 定焦投影物鏡廣泛應用于光刻、投影顯示和工業檢測等領域,憑借其固定焦距設計,實現了成像穩定性與高分辨率的結合,具有畸變小、像質均勻等優點。在本案例中,將通過設計一個典型的定焦投影物鏡,演示在 VLU 中的光學設計流程,包括初始系統建立、像質分析、評價函數定義,優化以及結果展示。
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信光嗎 ??? 4月前
VirtualLab Unity應用:定焦投影物鏡
帖子 混合鍵合,未來的主角!
在信息的海洋中,晶圓鍵合的存在感相比光刻技術顯得異常稀薄,但是當我們拿出一臺手機,他的圖像傳感器,重力加速傳感器,麥克風,4G和5G射頻前端,以及部分NAND,都或多或少應用到了晶圓鍵合的技術。
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第三代半導體聯合創新孵化中心 ??? 3年前
混合鍵合,未來的主角!
帖子 車載 MLA 投影燈光效偏低?OAS 提供解決方案
<span style="color: rgb(14, 88, 188);">本案例依托 OAS 光學軟件,完成 MLA 投影燈全鏈路建模、光線追跡、性能分析與參數優化,為器件工程化提供精準仿真依據。
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武漢二元 ??? 17天前
車載 MLA 投影燈光效偏低?OAS 提供解決方案
帖子 芯片、IGBT的工作原理、電流流向與實物圖對應
案例為一款英飛凌的IGBT模塊,型號為FS400R07A3E3,下面分別為CAD和電路拓撲圖。
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努力成為仿真大王 ??? 12月前
芯片、IGBT的工作原理、電流流向與實物圖對應
帖子 24年度影響力獲獎分享:追光ing賬號的成長與感恩
我將光學設計案例分享到技術鄰平臺,收到了很多高校同學的案例答疑回復,獲得了一些專業讀者的關注,作為光學設計領域的從業者,這種深度互動,是其他平臺難以企及的。我尤其珍視這種去偽存真的環境。 2025年光學設計和光學制造領域正迎來前所未有的黃金時代。光刻技術的發展、AR/VR設備超薄需求、光學成像等等,無不昭示著這個傳統學科煥發的新生機。
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追光ing ??? 1年前
24年度影響力獲獎分享:追光ing賬號的成長與感恩
帖子 研討會預告 | 如何使用 Ansys Zemax 進行光柵建模免費線上研討會
光柵也稱衍射光柵,是由很多等節距的透光縫隙和不透光的刻線均勻相間排列構成的光電器件,被廣泛應用于各種光譜儀器、大功率激光和光刻等領域。 2023年5月18日,武漢宇熠將通過騰訊會議開展免費的線上研討會——如何使用 Ansys Zemax 進行光柵建模。
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宇熠科技 ??? 3年前
研討會預告 | 如何使用 Ansys Zemax 進行光柵建模免費線上研討會
帖子 VirtualLab Fusion鏡頭設計及衍射分析案例—柱透鏡仿真
本次我將以像散轉換器為實操案例,為大家講解如何通過 VirtualLab Fusion 導入鏡頭文件,完成包含衍射分析的光學系統仿真。圖1. 模式像散轉換器概念圖如圖1所示,像散轉換器,即Astigmatic Mode Converter,是由一對柱透鏡組成的器件,最早由Allen等人提出,用于將厄米高斯光束轉化為渦旋光束。
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信光嗎 ??? 2月前
VirtualLab Fusion鏡頭設計及衍射分析案例—柱透鏡仿真
帖子 VirtualLab Fusion錐形相位掩模的Talbot圖像
摘要 在傳統的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個圖像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態方法 (FMM,也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進行建模。
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追光ing ??? 1年前
VirtualLab Fusion錐形相位掩模的Talbot圖像
帖子 VirtualLab:錐形相位掩模的Talbot圖像
摘要 在傳統的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個圖像。但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態方法 (FMM,也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進行建模。
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追光ing ??? 1年前
VirtualLab:錐形相位掩模的Talbot圖像
帖子 FRED應用:RPC Photonics 擴散片BSDF導入模擬
案例我們重點講述如何由RPC Photonics的BSDF數據轉為FRED可識別的散射數據。 Thorlabs和RPC Photonics聯手共同推出的新型漫射體及光束整形技術,可以解決其他技術的不足,大大改善了諸如光刻系統、有效固態照明,顯示,背光,顯示亮度增強和投影屏等大多數應用的性能。
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追光ing ??? 26天前
FRED應用:RPC Photonics 擴散片BSDF導入模擬
帖子 AI賦能超表面設計 | 突破光學設計局限
對于傳統光刻工藝而言,光學鄰近效應校正(OPC)本身就是改善設計偏差的重要環節。人工智能能夠提供更準確的掩膜圖案,從而實現對復雜超表面單元結構的精準投影曝光,降低特征尺寸(CD)的變化率,提高超表面器件的效率。AI 提升超表面圖像輸出質量人工智能與深度學習技術在圖像后處理領域應用廣泛,例如在智能手機中,通過合并多張圖像來提高圖像質量。
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武漢二元 ??? 10月前
AI賦能超表面設計 | 突破光學設計局限
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