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對(duì)計(jì)量系統(tǒng)的分析不可避免地需要考慮物理光學(xué)效應(yīng)(相干、偏振、干涉、行射等)，以產(chǎn)生現(xiàn)實(shí)、充分的結(jié)果。VirtualLab Fusion為這種分析提供了必要的工具，利用快速物理光學(xué)理論來(lái)促進(jìn)快速仿真。 干涉系統(tǒng)被廣泛地應(yīng)用于光學(xué)測(cè)量和光學(xué)檢測(cè)等領(lǐng)域。對(duì)這類(lèi)系統(tǒng)工作原理的討論必須要結(jié)合物理光學(xué)的知識(shí)，如光的電磁場(chǎng)表示、光的波動(dòng)性、光場(chǎng)的疊加等。

為了保證光線確實(shí)是y偏振的，在探測(cè)器表面顯示了相干矢量波場(chǎng)（Coherent Vector Wave Field）。選擇右鍵菜單“Show X Component of Field”，然后再次點(diǎn)擊右鍵，選擇“Show Statistics”，可以觀察到x偏振分量上能量的積分。比較X分量和Y分量，可以證實(shí)幾乎所有的入射能量都在y偏振分量上。 波片的厚度決定了到達(dá)探測(cè)器x和y偏振光的比值。

光線通過(guò)單軸晶體時(shí)，分為o光(ordinary)和e光(extraordinary)，其中o光電場(chǎng)分量與主平面（光線與光軸組成的平面）垂直，e光電場(chǎng)分量與主平面平行，在晶體內(nèi)o光和e光的速度一般會(huì)不同（與光軸和光線方向有關(guān)），即等效折射率不同，所以?xún)煞N光分開(kāi)一個(gè)很小的角度，而且傳播同樣距離會(huì)有一個(gè)相位差。由于o光e光偏振角度不同，并不能直接相干，但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿(mǎn)足相干條件的。

光線通過(guò)單軸晶體時(shí)，分為o光(ordinary)和e光(extraordinary)，其中o光電場(chǎng)分量與主平面（光線與光軸組成的平面）垂直，e光電場(chǎng)分量與主平面平行，在晶體內(nèi)o光和e光的速度一般會(huì)不同（與光軸和光線方向有關(guān)），即等效折射率不同，所以?xún)煞N光分開(kāi)一個(gè)很小的角度，而且傳播同樣距離會(huì)有一個(gè)相位差。由于o光e光偏振角度不同，并不能直接相干，但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿(mǎn)足相干條件的。

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建模任務(wù)光線追跡和場(chǎng)追跡結(jié)果能量密度結(jié)果走進(jìn)VirtualLab FusionVirtualLab Fusion的工作流程通過(guò)手動(dòng)通道設(shè)置Sagnac干涉儀配置-基于激光的邁克爾遜干涉儀和干涉儀邊緣探測(cè)[使用用例]-非連續(xù)跟蹤的通道設(shè)置[使用用例]正確設(shè)置傅里葉變換-傅里葉變換設(shè)置-示例討論[使用用例]

光線通過(guò)單軸晶體時(shí)，分為o光(ordinary)和e光(extraordinary)，其中o光電場(chǎng)分量與主平面（光線與光軸組成的平面）垂直，e光電場(chǎng)分量與主平面平行，在晶體內(nèi)o光和e光的速度一般會(huì)不同（與光軸和光線方向有關(guān)），即等效折射率不同，所以?xún)煞N光分開(kāi)一個(gè)很小的角度，而且傳播同樣距離會(huì)有一個(gè)相位差。由于o光e光偏振角度不同，并不能直接相干，但是兩種光投影在偏振片上的分量是滿(mǎn)足相干條件的。

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1 引言本部分介紹來(lái)自于《斷裂相場(chǎng)法》書(shū)籍。“1998年Francfort和Marigo根據(jù)Griffith脆性斷裂理論，提出了一種斷裂力學(xué)變分原理，他們以結(jié)構(gòu)內(nèi)可能的位移場(chǎng)和裂紋面作為自變量，將變形能與斷裂面之和定義為結(jié)構(gòu)總能量，并且認(rèn)為真實(shí)的位移場(chǎng)與裂紋面使得該總能量最小。然而在數(shù)值模擬中將離散的裂紋面作為未知量來(lái)求解是非常困難的。

但是隨著厚度的進(jìn)一步增加，能量又會(huì)轉(zhuǎn)換回到入射光束。 模擬結(jié)果 圖1.兩束光形成的干涉圖樣 圖2.體全息結(jié)構(gòu)中能量在入射光束和形成體全息結(jié)構(gòu)的另一束光之間的轉(zhuǎn)變過(guò)程

</p><p>下面追跡光線并且查看能量分布，如下圖所示。</p><p>這里改變了繪圖樣式和顏色級(jí)別，可以通過(guò)右擊圖表，選擇change color level 來(lái)設(shè)置。

研究了理想結(jié)構(gòu)分束器和實(shí)際結(jié)構(gòu)分束器的不同性能，并演示了相對(duì)相移變化引起的互補(bǔ)干涉圖樣。 建模任務(wù) 理想分束器干涉圖樣 理想的分束器提供未修改的傳輸場(chǎng)和鏡像反射場(chǎng)。 在傳播過(guò)程中沒(méi)有觀察到相移。

在數(shù)值模擬中，當(dāng)我們將光表示為電磁場(chǎng)時(shí)，空間擴(kuò)展光源可以用幾個(gè)無(wú)關(guān)的完全相干場(chǎng)來(lái)模擬，這些場(chǎng)具有相同的能量密度，但彼此之間有部分位移[J. Opt. Soc. Am. A 27 (9), 2010]。

在數(shù)值模擬中，當(dāng)我們將光表示為電磁場(chǎng)時(shí)，空間擴(kuò)展光源可以用幾個(gè)無(wú)關(guān)的完全相干場(chǎng)來(lái)模擬，這些場(chǎng)具有相同的能量密度，但彼此之間有部分位移[J. Opt. Soc. Am. A 27 (9), 2010]。

總結(jié) 馬赫澤德干涉儀的干涉圖樣的計(jì)算 1. 仿真以光線追跡對(duì)干涉儀的仿真。2. 計(jì)算采用幾何場(chǎng)追跡+引擎以計(jì)算干涉圖樣。3. 研究不同對(duì)齊誤差在干涉圖上的影響，如傾斜和偏移 利用VirtualLab軟件可對(duì)馬赫澤德干涉儀生成的干涉圖案進(jìn)行研究分析。 應(yīng)用示例詳細(xì)內(nèi)容 系統(tǒng)參數(shù) 1.

兩束光波之間的能量傳遞轉(zhuǎn)換效率與體全息結(jié)構(gòu)的厚度密切相關(guān)。若厚度很薄，則入射光波轉(zhuǎn)化為另一束的效率很低，隨著厚度逐漸增加，轉(zhuǎn)換效率也隨之增加。到某一厚度時(shí)轉(zhuǎn)換效率最大，入射光束完全轉(zhuǎn)換為另一束。但是隨著厚度的進(jìn)一步增加，能量又會(huì)轉(zhuǎn)換回到入射光束。