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在測量高溫光亮材料（如鋼、鐵、銅、半導體）時，傳統長波紅外熱像儀常因材料發射率低且不穩定而導致讀數偏差。Optris Xi 1M采用0.85–1.1 μm的短波紅外光譜設計，完美解決了這一痛點： 匹配金屬發射率：短波范圍與大多數金屬材料的高發射率區域相匹配，顯著提高了測量的準確性和重復性。

工業高溫監測（如冶金）：需選用短波紅外設備，以確保高溫下的精度與安全。高端軍事、科研、遠距氣體檢測：則需要投入成本較高的制冷型中波紅外設備，以獲得極致的靈敏度和抗干擾能力。材料穿透需求：若需檢測玻璃后的物體（如玻璃罩內的設備、車窗后的人員），必須選短波紅外。普通玻璃對長波紅外完全阻隔，中波紅外穿透性也較差，只有短波紅外能有效穿透。

德國Optris公司推出的PI08M短波紅外熱像儀，正是為解決這一核心痛點而生，它通過提供實時、精確的溫度監測數據，為智能制造的閉環控制提供了關鍵支撐。

在本案例中，通過先分別構建長波通和短波通濾光片，用于阻斷紫外與紅外波段，再通過膜系疊加與光譜優化，形成可見光透過、紫外與紅外有效抑制的帶通特性濾光片。

傳統的長波紅外熱像儀在面對光亮金屬表面時，常因低發射率導致測量數據失真。德國Optris推出的PI 1M短波紅外熱像儀，憑借其1kHz的極速響應能力和針對金屬優化的短波技術，正在重新定義快速工業過程的監控標準。

此外，根據普朗克輻射定律，物體在短波長范圍內輻射的能量更強，這有效減少了發射率變化對測量重復性的影響。因此，在超高溫環境下對光亮材料進行測量時，PI 05M在精度和準確性上顯著優于傳統的長波長紅外熱像儀。

韋布為火星贏得一個新的綽號：紅外線星球。紅外線中的火星詹姆斯·韋布望遠鏡旨在深入觀察宇宙，使用紅外線穿透塵埃并看到隱藏在其他望遠鏡之外的物體。就在前不久，它使用其近紅外相機（NIRCam）觀察火星并收集了數據。 左邊的棕色火星視圖是參考地圖，右半部分是韋布看到的內容。

其中包括有 UVC、UVB、UVA、可見光和紅外光波。UVC、UVB、UVA就是我們熟知的紫外線。UVC是短波紫外線，UVA波段，波長320～400nm，又稱為長波黑斑效應紫外線。UVB是根據生物效應的不同，將紫外線波長劃分出來的另一個波段，是戶外紫外線，人們在室外活動時會直接射入皮膚，會對人體造成危害。

極端光譜區的光譜儀傳統的光譜儀在可見光譜范圍或近紅外光或紫外光下工作。然而，也有可在極端光譜區域運行的光譜儀。有些設備在短波長下工作，即在極紫外 (EUV) 甚至 X 射線區域，波長僅為幾納米。此類裝置利用原子尺度上的周期性，可能由線間距非常小的衍射光柵、在 X 射線區域甚至單晶光柵構成。

</p><p><strong>（2）短波紅外</strong>（SWIR, 1500-2500nm）</p><p>應用于礦物成分分析、塑料分揀、夜間農業檢測，如植被水分評估等。</p><p><strong>（3）中波紅外</strong>（MWIR, 3-5μm）</p><p>應用于工業熱成像、軍事目標識別，如偽裝探測等。

以長波通與短波通濾光膜組合為初始結構，通過優化膜層厚度，成功實現了在 240–280?nm 波段內具有高透過率、兩側波段具備高截止特性的紫外帶通濾光膜。

以長波通與短波通濾光膜組合為初始結構，通過優化膜層厚度，成功實現了在 240–280?nm 波段內具有高透過率、兩側波段具備高截止特性的紫外帶通濾光膜。

在短波長下，玻璃中的瑞利散射變得越來越重要；瑞利散射對衰減系數的貢獻與波長的四次冪成反比。請注意，核心玻璃是一種無定形材料，在顯微鏡下永遠不會完全均勻。即使采用最現代的纖維制造技術，也存在不可避免的“凍結”密度波動。還有一些非彈性散射——自發拉曼散射和布里淵散射。這些影響可通過散射（和頻移）光測量，但通常不會對傳播損耗產生重大影響。

第三步：依據GB/T 16422.2-1996，340nm輻照強度為0.50 W/ m2時，紅外區與可見區部分 （300nm～800nm）輻照強度為550 W/m2；可計算出輻照時間為3489 X 10^6/550=6.344 X 10^6s，即6.344 X 10^6s/3600=1762h。依此計算方法，僅光照加速倍率約為5。

2025年12月，imec宣布已在300mm CMOS試驗線上成功將膠體量子點光電二極管集成于超構表面之上，實現了可擴展的短波紅外光譜傳感器平臺，預計2027至2028年可進入量產。[20] Lumotive于2026年3月演示了全球首款可編程二維光子波束成形芯片，采用液晶超構表面技術，可實時動態形成和重塑光束。

它能夠顯著降低成本，為市場提供一種成本經濟的短波紅外（SWIR，Short Wave Infrared）成像方案，為消費電子及機器傳感應用提供經濟高效的解決方案。在這之前，QD技術商業化的嘗試總是依賴于一種多層工藝。該工藝涉及在各層中應用QD材料，以制成一些能夠將光能轉換成電子信號的、很薄的光活性膜。這之后，制造人員會對每層進行額外的化學處理，以確保其功能和性能。