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深度掃描也稱為軸向掃描或A掃描，它根據(jù)反射到樣品中的距離來測量反射光的強(qiáng)度。 儘管它在OCT系統(tǒng)的類型之間有所不同，但深度掃描通常由參考鏡執(zhí)行，以使樣品返回的光對應(yīng)於樣品和參考之間的特定光程差（OPD）。 透過以x或y方向旋轉(zhuǎn)掃描鏡來執(zhí)行橫向，橫向或b掃描，從而在整個樣品區(qū)域上平移探測光束。我們從商用OCT系統(tǒng)中獲取目標(biāo)規(guī)格。 軸向分辨率完全來自光源特性，應(yīng)在5μm的數(shù)量級上。

傳統(tǒng)設(shè)計方式對於人眼而言，存在一個虛擬的“遠(yuǎn)點(diǎn)”，這個點(diǎn)代表了我們可以清楚看到物體的極限距離。在這個點(diǎn)之外的景物，將會成像於視網(wǎng)膜前方。當(dāng)眼球轉(zhuǎn)動時遠(yuǎn)點(diǎn)的距離不會改變，因此會以這個距離為半徑形成一個“遠(yuǎn)點(diǎn)球”。此外，遠(yuǎn)點(diǎn)會是視網(wǎng)膜的光學(xué)共軛，因此眼鏡鏡片的功能就是把偏離的影像修正到遠(yuǎn)點(diǎn)球上。人眼的瞳孔在此系統(tǒng)中充當(dāng)光圈的角色，且當(dāng)視線移動時，瞳孔將同步的以眼球為中心轉(zhuǎn)動。

Figure 3 菲涅耳波帶片系統(tǒng)佈局圖但是，如果現(xiàn)在使用POP分析建模相同的情況，則將觀察到光束開始聚焦在成像表面上，如圖4所示。在這裡，我們從束腰尺寸為2.6 mm的高斯光束開始並將光束聚焦下降到束腰約0.4毫米的斑點(diǎn)。此範(fàn)例說明只能使用POP模擬這種類型的結(jié)構(gòu)。Figure 4 菲涅耳波帶片在成像平面上的 POP結(jié)果。

自訂分析模式用於填充自訂分析的資料。這些資料是用OpticStudio提供的現(xiàn)有圖形來顯示，用於大多數(shù)分析。此模式不允許對當(dāng)前鏡頭系統(tǒng)或使用者介面進(jìn)行更改（即：在這種模式下只允許對系統(tǒng)的副本進(jìn)行更改）。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫。本文的自訂分析是用C#編寫的。

我們在一個光學(xué)系統(tǒng)中有幾組透鏡元件，它們沿著光軸沿著預(yù)定義的軌跡移動，從而提供了光學(xué)系統(tǒng)最終焦距（變焦係數(shù)）的變化。在 Alvarez變焦鏡頭的情況下，我們有一對所謂的Alvarez鏡頭，這些鏡頭元件相互之間的橫向位移提供了光學(xué)系統(tǒng)焦距的變化。傳統(tǒng)變焦鏡頭與 Alvarez變焦鏡頭的主要區(qū)別在於，傳統(tǒng)系統(tǒng)鏡頭沿光軸運(yùn)動，而Alvarez系統(tǒng)鏡頭則沿垂直於光軸的方向運(yùn)動。

摘要 成像系統(tǒng)的離軸PSF經(jīng)常受到由應(yīng)用的光學(xué)部件（例如顯微鏡系統(tǒng)）引入的像差的影響。因此，焦點(diǎn)并不像理想預(yù)期的那樣對偏移完全不變。 VirtualLab Fusion提供了一種快速方便的方法，可以使用高NA顯微鏡檢查光傳播和離軸成像的PSF。

何謂透鏡陣列?透鏡陣列是將單個光學(xué)元件組裝成單個光學(xué)元件的二維陣列。它用於將光在圖像平面上從非均勻分佈空間轉(zhuǎn)換為均勻輻照度分佈。使用透鏡陣列的數(shù)位投影系統(tǒng)通常與具有提供半準(zhǔn)直入射光的拋物面反射器的燈組件結(jié)合使用。目前，它們主要用於 LCD 數(shù)位元元投影光引擎，以向空間光調(diào)製器照明平面提供均勻照明。在上圖中可以看到透鏡陣列。

智慧型手機(jī)是地球上最普遍的消費(fèi)技術(shù)之一，包含大量高科技光學(xué)系統(tǒng)。大多數(shù)都有多個相機(jī)單元，這對設(shè)計師和製造商提出了挑戰(zhàn)，以滿足嚴(yán)格的性能、成本和尺寸要求。在這篇Blog中，我們將討論 Zemax 解決方案如何幫助應(yīng)對和克服這些挑戰(zhàn)。智慧型手機(jī)鏡頭模組用於智慧型手機(jī)相機(jī)的鏡頭模組非常複雜，每個模組都包含多個鏡頭元件。

通常，可以透過求解近軸波動方程來找到雷射的輸出。該方程最廣為人知的解法是理想的單模高斯光束的解法。存在依賴於給定係統(tǒng)對稱性的其他正交解集。1 它們可用於對高階光束模式進(jìn)行建模。在這篇Blog中，我們描述了 OpticStudio 中可用於表徵高階雷射光束的模型。定義後，此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學(xué)傳播設(shè)計的任何光學(xué)系統(tǒng)中傳播。

局部坐標(biāo)系以三維圖形的深度方向為Z軸，重點(diǎn)分析深度方向的偏振光能量分布與光刻膠顯影速率的關(guān)聯(lián)；全局坐標(biāo)系將三維圖形的堆疊結(jié)構(gòu)納入全視場分析，考慮“視場位置-深度方向”的耦合效應(yīng)，可實(shí)現(xiàn)3D圖形全視場、全深度的高保真成像。

現(xiàn)在讓我們來驗證看看離軸的視場，例如說我們想看最大的視場3。首先我們清空評價函數(shù)編輯器，然後先暫時把出瞳面的Radius設(shè)回?zé)o限大。輸入以下資料到評價函數(shù)中，目的是計算主光線在出瞳面上的位置、角度以及到像面所經(jīng)過的光程。

針對高NA雙遠(yuǎn)心物鏡（NA>1.5），構(gòu)建“遠(yuǎn)心度-偏振態(tài)-深度衍射”多物理量耦合模型，解決超高清三維圖形的成像畸變問題。探索X射線雙遠(yuǎn)心光刻場景的模型拓展，突破傳統(tǒng)光刻的材料加工極限。2. AI驅(qū)動的高效化與智能化演進(jìn)融合深度學(xué)習(xí)與物理驅(qū)動建模，基于雙遠(yuǎn)心物鏡的光場規(guī)律性，訓(xùn)練輕量化神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)替代部分三維電磁仿真過程，實(shí)現(xiàn)模型計算效率的10倍級提升。

序列模式的體積全像在OpticStudio的所有版本上都可以使用，但是繞射效率分析只有訂閱制才能使用。DLL是訂閱制旗艦版本的功能。體積全像在許多類型的光學(xué)系統(tǒng)中很受歡迎，例如：抬頭顯示器（HUD）、擴(kuò)增實(shí)境（AR）和虛擬實(shí)境（VR）的頭戴型顯示器（HMD）。全像能夠?qū)⒐饩€繞射到任何所需的角度，其波長和角度的選擇性使其能夠創(chuàng)造更輕、更緊密的光學(xué)系統(tǒng)。

熒光顯微鏡的彩色效應(yīng)分析 高NA傅里葉顯微鏡單分子成像 高NA顯微鏡系統(tǒng)分析偶極子源的PSF 顯微鏡系統(tǒng)中來自光圈的衍射5光學(xué)系統(tǒng)的公差分析 考慮加工公差下的傾斜光柵魯棒性優(yōu)化 鏡頭粗糙度對PSF的影響 衍射光學(xué)元件的加工圓角和高度公差分析

在過去的幾十年里，研究者們開發(fā)了多種快速、高質(zhì)量的體成像方法，其中光場顯微成像技術(shù)（light-field microscopy, LFM）由于其高并行性和低光毒性受到研究者的青睞。通過在光路中加入微透鏡陣列（microlens array, MLA），LFM可以在單次拍攝中對三維空間內(nèi)的高維光信息進(jìn)行編碼。通過配套的反解算法，可以以高保真度還原場景的三維信息。

在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器(LDE)和非序列元件編輯器(Non-Sequential components editor)，我們可以在Jones Matrix後方的欄位輸入各元素的實(shí)數(shù)及虛數(shù)部分，以定義不同的Jones Matrix。有一點(diǎn)必須要特別注意的，Jones Matrix並不會因為Ez的變化產(chǎn)生改變 (系統(tǒng)預(yù)設(shè)入射光垂直入射偏振片)。

雖然這種方法適用于相干成像系統(tǒng)，但對于非相干成像系統(tǒng)通常更為保守，并且可能導(dǎo)致性能過高的設(shè)計，這本身就成本更高。例如，在熒光顯微鏡中，分辨率是用熒光微珠測量的。從熒光微珠發(fā)出的光通常被認(rèn)為是不相干的。在這種情況下，顯微鏡的性能有望更符合瑞利準(zhǔn)則。

為了確保微結(jié)構(gòu)所需的圖像分辨率，檢測系統(tǒng)通常使用高NA物鏡，并且工作在UV波長范圍內(nèi)。作為例子，我們建立了包括高NA聚焦和光與微結(jié)構(gòu)相互作用的完整晶片檢測系統(tǒng)的模型，并演示了成像過程。任務(wù)描述微結(jié)構(gòu)晶圓通過在堆棧中定義適當(dāng)形狀的表面和介質(zhì)來模擬諸如在晶片上使用的周期性結(jié)構(gòu)的柵格結(jié)構(gòu)。然后，該堆棧可以導(dǎo)入到各種不同的組件中，具體取決于預(yù)期用途。

高數(shù)值孔徑（NA>1）光刻系統(tǒng)下，厚掩模的多層結(jié)構(gòu)引發(fā)光場多次反射與耦合衍射，疊加三維偏振像差的視場-深度耦合效應(yīng)，導(dǎo)致關(guān)鍵尺寸均勻性（CDU）與側(cè)壁傾斜度控制精度驟降。計算三維嚴(yán)格矢量成像模型是破解該瓶頸的核心理論工具，其對厚掩模衍射機(jī)制的精準(zhǔn)建模與三維偏振像差的定量表征，直接決定立體圖形光刻保真度。

為了確保微結(jié)構(gòu)所需的圖像分辨率，檢測系統(tǒng)通常使用高NA物鏡，并且工作在UV波長范圍內(nèi)。作為例子，我們建立了包括高NA聚焦和光與微結(jié)構(gòu)相互作用的完整晶片檢測系統(tǒng)的模型，并演示了成像過程。任務(wù)描述微結(jié)構(gòu)晶圓通過在堆棧中定義適當(dāng)形狀的表面和介質(zhì)來模擬諸如在晶片上使用的周期性結(jié)構(gòu)的柵格結(jié)構(gòu)。