矢量光刻成像模型二維矢量光刻成像流程簡潔高效且精準(zhǔn)可控,每一步都經(jīng)過嚴(yán)苛的技術(shù)打磨:光源經(jīng)定制化照明系統(tǒng)進行勻光、偏振調(diào)控后,均勻照射在高精度掩模上,掩模上的二維圖形會對入射光進行選擇性衍射;衍射出的光進入高數(shù)值孔徑物鏡系統(tǒng)后,系統(tǒng)會在入瞳與出瞳處通過特殊光學(xué)結(jié)構(gòu)完成偏振態(tài)、相位及振幅的精準(zhǔn)調(diào)控,濾除無效雜光,保留有效成像光;最終,經(jīng)過調(diào)控的光在硅片像面精準(zhǔn)匯聚,實現(xiàn)高保真成像。