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摘要 在浸沒顯微鏡中，我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此，PSF可能會因蓋玻片在焦平面處的界面而變形，這在設計過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析蓋玻片界面對PSF的影響，以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點變形。

摘要 在浸沒顯微鏡中，我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此，PSF可能會因蓋玻片在焦平面處的界面而變形，這在設計過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析蓋玻片界面對PSF的影響，以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點變形。

摘要 在浸沒顯微鏡中，我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此，PSF可能會因蓋玻片在焦平面處的界面而變形，這在設計過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析蓋玻片界面對PSF的影響，以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點變形。

摘要 在浸沒顯微鏡中，我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此，PSF可能會因蓋玻片在焦平面處的界面而變形，這在設計過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析蓋玻片界面對PSF的影響，以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點變形。

摘要 在浸沒顯微鏡中，我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此，PSF可能會因蓋玻片在焦平面處的界面而變形，這在設計過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析蓋玻片界面對PSF的影響，以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點變形。

高NA物鏡的深聚焦能夠產生更小的PSF（點擴展函數），對于高分辨率顯微鏡系統至關重要。在許多其他顯微鏡系統中，如浸入式顯微鏡使用蓋玻片將浸沒液體和樣本分開。這可能會使焦平面上的PSF失真。 我們證明在蓋玻片后面不對稱的PSF被進一步拉長。 此外，廣泛用于數十納米分辨率的STED（受激發射損耗）顯微鏡則需要消耗環形的PSF。

高NA物鏡的深聚焦能夠產生更小的PSF（點擴展函數），對于高分辨率顯微鏡系統至關重要。在許多其他顯微鏡系統中，如浸入式顯微鏡使用蓋玻片將浸沒液體和樣本分開。這可能會使焦平面上的PSF失真。 我們證明在蓋玻片后面不對稱的PSF被進一步拉長。 此外，廣泛用于數十納米分辨率的STED（受激發射損耗）顯微鏡則需要消耗環形的PSF。

文件信息 延伸閱讀- 分析高NA物鏡聚焦- 通過瑞利標準對顯微鏡物鏡進行分辨率研究

延伸閱讀- 分析高NA物鏡聚焦- 通過瑞利標準對顯微鏡物鏡進行分辨率研究

使用高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析偶極子源的PSF。 該實驗證明了當偶極子源的方向改變時，PSF具有不同的形狀。 用于3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF 在VirtualLab Fusion中，通過在高NA顯微鏡系統的光瞳平面中插入相位掩模，以簡單快捷的方式分析雙螺旋PSF。

共聚焦顯微鏡作為一種高精度的成像技術，為這些領域提供了強大的工具。 共聚焦顯微鏡成像原理 共聚焦顯微鏡的成像原理基于激光掃描和光學切片技術。通過使用光源，顯微鏡能夠對樣品進行逐點掃描，并通過共軛孔徑系統排除非焦平面的光，從而實現高分辨率的二維圖像。此外，通過逐層掃描，共聚焦顯微鏡還能夠構建樣品的三維形貌。

用于3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF 在VirtualLab Fusion中，通過在高NA顯微鏡系統的光瞳平面中插入相位掩模，以簡單快捷的方式分析雙螺旋PSF。 結果表明，即使只有一點散焦（?130 nm）的物點，雙螺旋PSF也會有旋轉。

使用高NA顯微鏡系統分析偶極子源的PSF 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析偶極子源的PSF。 該實驗證明了當偶極子源的方向改變時，PSF具有不同的形狀。 用于3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF 在VirtualLab Fusion中，通過在高NA顯微鏡系統的光瞳平面中插入相位掩模，以簡單快捷的方式分析雙螺旋PSF。

同時通過實時觀察樣品的三維成像過程，能更好的研究材料的動態變化和響應。 總的來說激光共聚焦顯微鏡具有高分辨率、非接觸式成像、三維成像和實時觀察等優點，從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等參數都可以測量。

傅立葉顯微鏡對單分子成像 建模用于單分子成像的完整高NA傅立葉顯微鏡系統，特別展示了例如：菲涅爾損耗、由于孔徑引起的衍射，并將仿真結果與參考值進行比較。 分析高NA物鏡的聚焦 高NA物鏡廣泛用于光學光刻，顯微技術等。

- 通過瑞利標準對顯微鏡物鏡進行分辨率研究

共聚焦顯微鏡：共聚焦顯微鏡是光學顯微鏡的一個子類別，它使用一種特殊的成像技術，通過空間選擇性地只收集樣品焦平面上的光，從而獲得比傳統光學顯微鏡更高的分辨率和更清晰的圖像。共聚焦顯微鏡能夠進行二維和三維成像，是光學顯微鏡技術中較為先進的一種。 測量顯微鏡：這是一種用途上的分類，指的是用于精確測量樣品尺寸、形狀、表面粗糙度等物理特性的顯微鏡。

高數值孔徑(NA)顯微鏡以前所未有的清晰度和精度徹底改變了我們探測生物結構的能力。通過利用光學原理，具有數值孔徑的顯微鏡超越了傳統限制，在捕捉復雜的細胞結構，動態分子相互作用和微妙的納米級現象方面表現出色。無論是揭開細胞動力學的奧秘還是深入研究納米材料的復雜性，高NA顯微鏡使科學家能夠在微觀世界中推動探索和發現的界限。

在這個案例中，我們演示了NA為0.99 (Inagawa等人，2015) 非常緊湊的反射顯微鏡系統的建模，并將使用VirtualLab Fusion的快速物理光學技術獲得的結果與參考文獻進行比較。

奧林巴斯推出的BX61WI和BX51WI系列載物臺固定式顯微鏡，專為高精度的材料分析和動態信號檢測設計。這兩款設備以其卓越的穩定性、針對液體環境優化的光學元件以及創新的設計理念，在材料研究領域展現了極高的應用價值。