通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦

摘要

 

在浸沒顯微鏡中,我們通常使用蓋玻片將浸沒液體和樣品分開。因此,PSF可能會因蓋玻片在焦平面處的界面而變形,這在設計過程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析蓋玻片界面對PSF的影響,以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點變形。

 

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖1

場景

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖2

 

在VirtualLab Fusion中構建系統

系統構建塊

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖3

 

組件求解器

 

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖4

 

 

 

系統構建塊

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖5

 

總結

 

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖6

 

幾何光學仿真

通過光線追跡

 

結果:光線追跡

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖7

 

快速物理光學仿真

通過場追跡

 

在蓋玻片的最后一個界面之前聚焦

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖8

 

聚焦在水中蓋玻片的最后一個界面后方

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖9

 

在蓋玻片的最后一個界面之前聚焦

 

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖10

 

聚焦在水中蓋玻片的最后一個界面后方

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖11

 

總結

 

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖12

 

文件信息

通過高NA浸沒顯微鏡進行聚焦的圖13

 

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