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建模描述設計擴散器以在遠場生成高數值孔徑光圖案? 光源參數：— 高斯光源波長：532nm— 根據最終的衍射光學元件選擇合適的直徑? 系統參數：— 衍射元件到屏幕距離：z=0.5m? 輸出場要求：— 期望光圖案：1.0m×0.5m網格— 光圖案期望分辨率：±0.5mm（目標平面上相鄰衍射級次間的最小距離：?xTP=1mm（離軸））

建模描述 設計擴散器以在遠場生成高數值孔徑光圖案 ? 光源參數： — 高斯光源波長：532nm — 根據最終的衍射光學元件選擇合適的直徑 ? 系統參數： — 衍射元件到屏幕距離：z=0.5m ? 輸出場要求： — 期望光圖案：1.0m×0.5m網格 — 光圖案期望分辨率：±0.5mm （目標平面上相鄰衍射級次間的最小距離：?xTP=

案例385（2.0）關鍵字：大角度設計，補償，枕形，桶形，畸變，強度衰減，信號場準備，衍射光學元件，損耗，期望光目標圖案，迭代傅里葉變換算法 1.建模描述設計擴散器以在遠場生成高數值孔徑光圖案?光源參數：—高斯光源波長：532nm—根據最終的衍射光學元件選擇合適的直徑?系統參數：—衍射元件到屏幕距離：z=0.5m?輸出場要求

總結 ? VirtualLab Fusion 可用于設計高數值孔徑衍射分束器和擴散器? 模塊Mod014可用于補償產生的點圖變形和強度調制。? 值得注意的是，余下的強度調制是由于利用IFTA設計的最終衍射元件存在的一致性誤差導致的。? 此外，高數值孔徑分束器衍射元件的特征尺寸是波長量級。

此應用案例演示了通過使用一個位圖文件來設計一個衍射光學元件（DOE）以用于光擴散器來生成一個光圖案。

添加光源和探測器，依次連接，將探測器放置在焦面上，設置到物鏡的距離為748.75μm圖2. 導入高數值孔徑物鏡（左）以及光路編輯器（右）因為在高數值孔徑物鏡聚焦下的焦場具有縱向分量，所以需要對各個場分量進行探查。添加兩個camera detector和一個electromagnetic field detector。

歐洲研究機構imec正在詳細介紹首個0.55高數值孔徑（NA）極紫外（EUV）光刻工具的開發。 這些內容是在2022 SPIE 高級光刻和圖案化會議上進行的，來自 imec 和荷蘭設備制造商 ASML 運營的聯合高 NA 實驗室。 雖然傳統 NA 已使 3nm 生產超越 2nm 制造工藝技術，但需要轉向高 NA 設備。

下圖以圖形方式描繪了這一點，我們可以看到物鏡支持的不同可能入射角。 系統在均勻照明下的響應等于物鏡支持的所有入射角平面波的不相干加權積分。 重量因子W是物鏡和像素位置的屬性。在低數值孔徑系統中，中心像素的W的良好近似值是 其中 k||是面內波矢量，NA是物鏡的數值孔徑。

摘要 衍射擴散器可以被設計來創建任何圖案。在這里，我們展示了 VirtualLab Fusion的一些可能性，以設計、優化、建模和仿真這種衍射光學元件（DOE）并把公司的標志投射到一幢大樓上。有不同的方法來生成光的圖案。

摘要 衍射擴散器可以被設計來創建任何圖案。在這里，我們展示了 VirtualLab Fusion的一些可能性，以設計、優化、建模和仿真這種衍射光學元件（DOE）并把公司的標志投射到一幢大樓上。有不同的方法來生成光的圖案。利用相干激光和衍射擴散器元件，可以實現良好的效率和有趣的光紋理，這將在下面進行演示。

此案例演示了設計和優化衍射光學元件的（DOE）作為光擴散器，來生成矩形高帽圖樣。

圖1 雙遠心結構示意圖2）關鍵技術指標計算基于光刻工藝需求與光學設計原理，通過計算確定核心技術指標： 分辨率：依據瑞利公式與截止線對數要求，設計分辨率≤1μm，最終實現0.625μm；放大倍率：結合DMD器件尺寸（14μm）與分辨率需求，確定放大倍率為-0.0714；數值孔徑：物方數值孔徑0.02，像方數值孔徑0.3，滿足特征線寬加工要求；焦距：前組焦距308.12mm，后組焦距

我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應，并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。 高數值孔徑物鏡的聚焦分析 高數值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學光刻、顯微系統等。在對焦斑的模擬中考慮光的矢量性質是非常重要的。

此案例演示了設計和優化衍射光學元件的（DOE）作為光擴散器，來生成矩形高帽圖樣。

通過Import導入準備好的.jpg圖片，并指定圖案尺寸400mmx187mm ?使用IFTA優化二元擴散器透過率函數。

衍射擴散器可以被設計來創建任何圖案。在這里，我們展示了 VirtualLab Fusion的一些可能性，以設計、優化、建模和仿真這種衍射光學元件（DOE）并把公司的標志投射到一幢大樓上。有不同的方法來生成光的圖案。

前言 背光顯示器隨處可見，筆記本電腦顯示，智能手機顯示，液晶顯示器等，所有這些都利用了背光顯示屏。在任何情況下都要有一個均勻的光照，以實現明亮清晰的圖像。最常見的背光技術是LCD，LED被用于背光系統，結合亮度增強膜，擴散片和導光結構。導光常見方法是創建一個紋理模式，沿著系統均勻地提取光線。

這種基于光子束的增材制造技術在打印分辨率、成型質量、重復性、任意設計性和打印效率等方面具有顯著優勢：首先，光學微納3D打印的分辨率主要取決于光學系統的衍射極限，如瑞利判據0.61λ/NA(其中λ和NA分別為光源波長和成像系統的數值孔徑)。使用波長較短的光源(例如UV光束)和數值孔徑較大的物鏡，可以獲得亞微米尺度的分辨率。

非近軸衍射分束器的嚴格分析 采用傅里葉模態法(FMM)對非近軸衍射分束器進行了嚴格的評價，該方法最初采用迭代傅里葉變換算法(IFTA)和薄元近似算法(TEA)進行設計。 高數值孔徑分束器優化與用戶定義的優化函數 這個應用案例演示了如何定義和使用用戶自定義優化函數，用于評估和優化衍射高數值孔徑分束器的衍射級次效率。

數值孔徑是光學透鏡最重要的基本參量，衡量著光學系統的成像能力，一直以來，各國科學家為增加透鏡的數值孔徑爭相努力。中山大學利用 Ansys Lumerical FDTD，在有限的時間內評估不同超構光學透鏡方案并得到最佳選擇，大幅節約了評估時間和成本。