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舉個例子，我們從最常見的喇叭天線開始做驗證，導入標準模型后仿真出遠場方向圖，再設置一個平面掃描面，用近場反演出遠場結果做對比。一開始由于采樣間距過大，反演出來的方向圖與直接仿真結果差異明顯，尤其主瓣形狀畸變嚴重。

，并通過試驗驗證了仿真模型的有效性，拓展研究了單路和多路天線饋電下的近場和遠場分布規律。

如圖所示為含有5個單元的陣列天線的近場和遠場分布圖像，由由圖可知：一方面電場如同波浪起伏一般由近及遠的向前傳播，另一方面，不同于單天線的近場分布，陣列天線的電場分布沿周向的分布并不均勻，可以發現在某些扇區較亮（場分布同相疊加），而在某些扇區則較暗（場分布反相相消），從而導致天線陣列的遠場方向圖表現出明顯的方向性。

SBR+算法是用于天線安裝性能預估的最好的射線追蹤分析工具，它聚焦電大問題，可計算輸出天線安裝后輻射方向圖、天線與天線間耦合、近遠場分布等。

STEP6將格式修改后的近場源數據，通過如下步驟導入FEKO，即可開展等效源的性能仿真。基于導出的近場數據，使用FEKO計算的遠場方向圖與CST中天線全波仿真結果進行對比，可以發現：基本趨勢以及主波束增益大小基本一致，但是由于近場口徑不是一個封閉的曲面，因此總有漏波，兩個之間在細節方面（尤其是大角度方向圖）還是有所差異。

仿真結果：中間平面 仿真結果：遠場平面 文件信息

JCMsuite計算近場分布。下圖顯示了當波長為193nm時，平面波從襯底側垂直入射到結構內的近場強度S偏振光照明的近場強度P偏振光照明的近場強度后處理傅里葉變換計算散射場在上半空間的傅里葉變換。在實驗中，遠場通常由成像的光學裝置來收集。后處理光學成像允許描述一個通用光學成像系統。我們通過一個沒有像差的簡單2X放大工具來演示這一點。

后處理功能計算PowerDensity 數值：HFSS通過后處理就可以計算出不同端口激勵模式下的遠場方向圖，而且可以選擇僅生成特定源組的特殊輸出結果，方便用作特定遠場圖中的使用場景，如:為定義激勵源組的5G MIMO子陣列的分離遠場圖。

仿真結果：近場平面 仿真結果：中間平面 仿真結果：遠場平面 文件信息

JCMsuite計算近場分布。下圖顯示了當波長為193nm時，平面波從襯底側垂直入射到結構內的近場強度S偏振光照明的近場強度P偏振光照明的近場強度后處理傅里葉變換計算散射場在上半空間的傅里葉變換。 在實驗中，遠場通常由成像的光學裝置來收集。后處理光學成像允許描述一個通用光學成像系統。我們通過一個沒有像差的簡單2X放大工具來演示這一點。

一旦確定了常規單元和無限元所在區域，則近場邊界節點的編號是已知的，問題轉換為如何判斷起始節點，即判斷圖8中節點1和節點3哪一個為起始節點。

：近場平面 仿真結果：中間平面 仿真結果：遠場平面 文件信息

（a）近場實驗示意圖；（b）金圓盤天線上偶極電場相位分布的近場圖像；不同電偶極矩方向下，方解石晶體中對稱（c）和對稱破缺（d）的雙曲極化激元的仿真結果（左圖）和近場成像（右圖）；（e）從仿真和實驗數據虛線位置提取出的非對稱振幅對比圖 為解釋這一現象，研究團隊在考慮動量守恒的同時，建立理論模型來描述 水平電偶極子 角譜分布與雙曲等頻線之間的作用關系，如圖2所示。

這種情況下，聲源與傳聲器陣列之間的距離難以滿足遠場條件，若繼續沿用遠場平面波模型，會造成嚴重的波束性能損失，使得波束主瓣變寬，旁瓣升高，難以得到期望的波束輸出，因此有必要研究近場條件下的波束形成。圖4 遠場-近場模型轉換示意圖在近場條件下，聲源的方向及其與傳聲器之間的距離都需要納入模型的考慮范圍。

HFSS軟件擁有強大的天線設計功能，濾波器微信公眾號認為它可以計算天線參量，如增益、方向性、遠場方向圖剖面、遠場3D圖和3dB帶寬;繪制極化特性，包括球形 場分量、圓極化場分量、Ludwig第三定義場分量和軸比。使用HFSS，可以計算：① 基本電磁場數值解和開邊界問題，近遠場輻射問題;② 端口特征阻抗和傳輸常數;③ S參數和相應埠阻抗的歸一化S參數;④ 結構的本征模或諧振解。

截斷平面波的傳播 仿真結果：近場平面 仿真結果：中間平面 仿真結果： 遠場平面 文件信息

平面微帶天線：FEKO采用全波方法分析微帶天線，可以精確獲得耦合、近場、遠場、輻射方向圖、電流分布、阻抗等參數；電纜系統： FEKO可以非常高效地處理系統中的負責電纜束的耦合以及電纜與天線的耦合問題。文章來源武漢瑞達斯科技有限公司

04/先進技術與未來發展方向 厚掩模衍射精準建模技術突破了傳統薄掩模近似瓶頸，基于嚴格耦合波分析（RCWA）與時域有限差分（FDTD）方法，構建厚掩模多層結構的電磁散射模型，通過旋轉變換與維度縮減算法降低計算開銷，實現掩模吸收層散射效應的精確表征，在14nm以下節點將衍射近場預測誤差控制在5%以內。

因此，對于周期問題，散射場的傅里葉變換不再是離散的。所以，傅里葉變換后處理實際上近似于k空間中的連續函數。 在實驗中，遠場通常由成像的光學裝置來收集。后處理光學成像允許描述一個通用光學成像系統。我們通過一個沒有像差的簡單2X放大工具來展示這一點。 可以使用笛卡爾輸出后處理來計算相干圖像。

(另外，遠場計算/傅里葉變換后處理也可以用于獲得角相關的散射振幅) 在本例中，Export Fields后處理用于可視化目的。