X-Fab 與我們的設備供應商有著悠久的合作歷史,我們在早期增加了專用的 SiC 制造設備,如注入機和 SiC 外延,這是一個非常好的決定,因為設備的交貨時間目前正在飛速增長。但這不僅與容量有關。這也與質量有關。我們的工程師不斷改進 SiC 工藝并支持我們的客戶提高產量和產量,這也是管理 SiC 芯片供應的非常重要的因素。還有專門用于 SiC 的新制造廠。
汽車電氣化是寬禁帶(WBG功率器件和電子裝置的一大機遇 SiC功率器件的制造SiC襯底的生長比Si更復雜SiC外延技術成熟度相對較高SiC 晶圓占 SiC 器件成本的 50-70%高壓 (+900 V) SiC 功率器件通常采用縱向配置SiC 器件的理想阻斷電壓由其漂移層的厚度和摻雜決定電壓和開關頻率需求推動單極與雙極 SiC 器件的選擇SiC制造需要投資特定的設備和開發特定的工藝
為了滿足 SiC 器件在不同應用領域 對電阻等參數的特定要求,必須在襯底上進行滿足條件的外延后才可制作器件,因 此外延質量的好壞將會影響 SiC 器件的性能。目前 SiC 襯底上常見外延有 SiC 同質外 延和 GaN 異質外延,前者用于功率器件,后者用于射頻器件。 目前主要使用 CVD 法進行外延。