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這些資料是用OpticStudio提供的現(xiàn)有圖形來(lái)顯示，用於大多數(shù)分析。此模式不允許對(duì)當(dāng)前鏡頭系統(tǒng)或使用者介面進(jìn)行更改（即：在這種模式下只允許對(duì)系統(tǒng)的副本進(jìn)行更改）。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫(xiě)。本文的自訂分析是用C#編寫(xiě)的。

中讀取靜力學(xué)變形，再添加一個(gè)lsdyna模塊，將結(jié)果導(dǎo)入lsdyna，如圖所示。

注意，在這個(gè)理論中，能量被假設(shè)為只在入射波、零階（直射波）和一階繞射波之間交換。若要消除這個(gè)限制，需要嚴(yán)格耦合波分析理論。對(duì)於TM(橫向磁場(chǎng))極化，我們可以簡(jiǎn)單地將κ替換為κTM，如下所示，仍然使用前面的公式。

坐標(biāo)間斷可用于傾斜或偏心任何光學(xué)表面，或光學(xué)表面組，圍繞任何軸點(diǎn)，而不干擾光學(xué)系統(tǒng)的其余部分。本文將利用坐標(biāo)間斷來(lái)重新定義順序系統(tǒng)的光軸。簡(jiǎn)介坐標(biāo)間斷是一個(gè)非常通用的工具，可以用來(lái)傾斜或偏心一個(gè)或多個(gè)光學(xué)表面。它是非常有用的，能夠選擇光學(xué)表面將圍繞什么點(diǎn)旋轉(zhuǎn)或偏心，我們將在這篇文章中展示如何指定該點(diǎn)。首先，我們將展示如何在不干擾光學(xué)系統(tǒng)的其余部分的情況下繞透鏡的前頂點(diǎn)傾斜。

那么問(wèn)題來(lái)了，為了保證仿真參數(shù)設(shè)置的一致性，在做多組仿真模型時(shí)，我們不改變時(shí)間步和仿真時(shí)間，但需要只輸出50組或者20組甚至只要10組數(shù)據(jù)點(diǎn)怎么辦？同時(shí)輸出的數(shù)據(jù)點(diǎn)還需要設(shè)成0.1，不是0.05了。這樣的操作如何設(shè)置呢？這就需要設(shè)置數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)導(dǎo)出的設(shè)置了，具體的操作步驟如下所示：

圖 3 很好地證明了這種轉(zhuǎn)變Bandres 和 Gutiérrez-Vega 的論文：2作者直接提供的另一個(gè)圖也顯示了這種轉(zhuǎn)變（對(duì)於 p = 4）：2當(dāng) e 接近 0 時(shí)，Ince-Gaussian DLL 準(zhǔn)確地再現(xiàn)了 Laguerre-Gaussian 模態(tài)的結(jié)果。

哪怕之后移動(dòng)模型，節(jié)點(diǎn)也不會(huì)分開(kāi)，只會(huì)被拉的變形罷了。如圖所示看，最后一排節(jié)點(diǎn)因?yàn)楸贿B接住了，所以黃色部分往下走的時(shí)候，紅色部分的底面被拉長(zhǎng)了。3.共節(jié)點(diǎn)后兩個(gè)part還是相互獨(dú)立的，可以分別設(shè)置。ok，就是這些了。

現(xiàn)在，我們只關(guān)注使用 注磁場(chǎng)，僅電流接口需要滿足的三個(gè)要求：不存在導(dǎo)磁材料，例如電感器磁芯。所有導(dǎo)體采用實(shí)體建模。不僅可以計(jì)算總電感，還可以計(jì)算部分電感。很顯然，本示例中的圓線環(huán)形線圈模型滿足前兩個(gè)要求，因此我們現(xiàn)在只需要關(guān)注第三點(diǎn)：部分電感的計(jì)算。

本文為使用OpticStudio工具設(shè)計(jì)優(yōu)化HUD抬頭顯示器系統(tǒng)的第三部分，主要包含演示了如何使用OpticStudio非序列模式工具正向分析HUD系統(tǒng)的性能以及后續(xù)可能的擴(kuò)展分析。 上兩篇文章中，我們主要介紹了如何以逆向方式對(duì)于HUD系統(tǒng)進(jìn)行建模，以及根據(jù)分析系統(tǒng)的初始性能，并結(jié)合具體設(shè)計(jì)指標(biāo)了解如何對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制與優(yōu)化。

現(xiàn)在，單透鏡已經(jīng)建立完成，我們將在《如何設(shè)計(jì)單透鏡 ，第二部分：分析》中解釋如何可視化和評(píng)估系統(tǒng)性能，請(qǐng)期待后續(xù)更新。

本文為使用OpticStudio工具設(shè)計(jì)優(yōu)化HUD抬頭顯示器系統(tǒng)的第三部分，主要包含演示了如何使用OpticStudio非序列模式工具正向分析HUD系統(tǒng)的性能以及后續(xù)可能的擴(kuò)展分析。 上兩篇文章中(第一部分點(diǎn)此查看，第二部分點(diǎn)此查看)，我們主要介紹了如何以逆向方式對(duì)于HUD系統(tǒng)進(jìn)行建模，以及根據(jù)分析系統(tǒng)的初始性能，并結(jié)合具體設(shè)計(jì)指標(biāo)了解如何對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制與優(yōu)化。

那我們應(yīng)該如何驗(yàn)證探頭和探頭附件呢？

在相關(guān)模擬分析中也可以考慮表面張力、附著力、粘度、阻力等，這些力對(duì)于潤(rùn)滑油如何粘到不同的結(jié)構(gòu)部分非常重要。此外，用戶同樣關(guān)注潤(rùn)滑油如何與結(jié)構(gòu)的其它部分相互作用，比如進(jìn)水情況，這里可以通過(guò)追蹤部分流體流經(jīng)的位置，了解它是否接觸了某些結(jié)構(gòu)組件等，也可以用來(lái)計(jì)算傳熱相關(guān)的HTC用于后續(xù)的電機(jī)/變速箱冷卻仿真。

這篇文章說(shuō)明了如何在模擬軟件中，將部分或整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)包裝成黑盒子的形式，以及如何在后續(xù)的光學(xué)模擬中使用黑盒子進(jìn)行設(shè)計(jì)、優(yōu)化和分析。點(diǎn)擊文末【閱讀原文】獲取附件簡(jiǎn)介在光學(xué)設(shè)計(jì)的流程中，客戶和供應(yīng)商有時(shí)候會(huì)需要可進(jìn)行光線追跡( ray-traceable )的檔案來(lái)完成任務(wù)。另一方面，在設(shè)計(jì)者的立場(chǎng)上，一些有關(guān)公司智慧財(cái)產(chǎn)權(quán)的信息是不能被公開(kāi)的。

只是，泵浦光與摻雜纖芯的重疊減少了，因?yàn)榇?em>部分泵浦功率在未摻雜的泵浦包層中傳播。圖 1 顯示了泵浦光如何注入內(nèi)包層（泵浦包層），而信號(hào)光如何注入光纖纖芯并保留在那里。圖 1： 基于雙包層光纖的包層泵浦光纖放大器。信號(hào)光射入摻雜纖芯，泵浦光射入內(nèi)包層。芯為 D 形，可更有效地泵吸。

近日有不少同學(xué)咨詢WB中插入APDL命令流后不能運(yùn)行或者運(yùn)行出錯(cuò)如何排查的問(wèn)題，水哥借此也在微信搜一搜里面搜索了WB中插入APDL、WB和APDL聯(lián)合仿真的相關(guān)文章，然而大多數(shù)文章都只是點(diǎn)到為止，只說(shuō)明了WB中如何插入APDL以及如何使用APDL和WB互導(dǎo)模型的基本方法。

本系列的 Zemax 技術(shù)文章分享一共將分為三個(gè)章節(jié)，會(huì)詳細(xì)介紹如何設(shè)計(jì)車(chē)標(biāo) LOGO 投影系統(tǒng)，包含的內(nèi)容有照明透鏡設(shè)計(jì)，投影透鏡的設(shè)計(jì)，整體系統(tǒng)的搭建和如何從序列轉(zhuǎn)換到非序列模式，之前我們介紹了第一部分和第二部分： · ZEMAX | 如何使用 OpticStudio 設(shè)計(jì)車(chē)標(biāo)投影系統(tǒng) Ⅰ · ZEMAX | 如何使用 OpticStudio 設(shè)計(jì)車(chē)標(biāo)投影系統(tǒng)

本文展示了如何繼續(xù)改進(jìn) 本系列文章的第一部分 （點(diǎn)擊查看）中建模的初步設(shè)計(jì)。（聯(lián)系我們獲取文章附件）簡(jiǎn)介AR 是一種允許屏幕上的虛擬世界與現(xiàn)實(shí)場(chǎng)景結(jié)合并交互的技術(shù)。本文演示了如何繼續(xù)改進(jìn)在文章模擬 AR 系統(tǒng)中的全息光波導(dǎo)：第一部分中的系統(tǒng)。優(yōu)化系統(tǒng)從第一部分文章的優(yōu)化得到的最后系統(tǒng)開(kāi)始優(yōu)化，我們需要進(jìn)一步提高其光學(xué)性能。