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請注意，POP基於標量繞射理論，因此不適用於特徵尺寸通常為次波長的超穎透鏡。有興趣嘗試在OpticStudio中設計DOE或超穎透鏡嗎？請查看OpticStudio產品頁面以了解更多訊息並獲得免費試用版。參考文獻:[1] Chen, W.T., Zhu, A.Y. & Capasso, F.

作者 Rod Watkins - Director of Strategic Development Optometry and Vision Science, Flinders University下載範例檔案簡介前言一般而言，眼科鏡片的設計與斜向像散的調控有關。在像差方面，彗差會隨視場角的變化而線性增加，而像散則是呈二次方增加。

何謂透鏡陣列?透鏡陣列是將單個光學元件組裝成單個光學元件的二維陣列。它用於將光在圖像平面上從非均勻分佈空間轉換為均勻輻照度分佈。使用透鏡陣列的數位投影系統通常與具有提供半準直入射光的拋物面反射器的燈組件結合使用。目前，它們主要用於 LCD 數位元元投影光引擎，以向空間光調製器照明平面提供均勻照明。在上圖中可以看到透鏡陣列。

使用 OpticsBuilder，機構工程師可以創建複雜的透鏡邊緣、安裝特徵和模組外殼，同時利用 Zemax 光線追跡直接查看這些元件如何影響光學性能。在這種情況下，鏡頭邊緣可能會為雜散光提供路徑以污染圖像。 OpticsBuilder 不僅可以在透鏡之間創建擋板，而且還允許設計團隊了解抑制雜散光源的有效性。

光學相干斷層掃描（OCT）是一種斷層成像系統，可以根據從圖像反射或散射的光生成橫截面或三維圖像。 醫用組織成像是該系統的最典型應用，因為OCT安全且具有高分辨率，儘管光可以穿透的深度限制在毫米量級。OCT測量系統依賴於邁克森干涉儀 (Michelson interferometer)，使得從參考物反射的光與樣品之間的相干性表明散射光源自樣品中與參考鏡的位置相對應的深度。

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此外，如果你將新的像面位置設定在原始光欄（stop）的前方，OpticalStudio會自行將光欄面移到第1面（surface #1）前方的一個虛擬空間。

ZOS-API(應用程式介面(Application Programming Interface)) 支援 OpticStudio 的連接和定制。連接應用程式和 OpticStudio 有 4 種程式模式，但它們可以分為兩大類： 完全控制（獨立(Standalone)模式和自訂擴展(User Extensions)模式），這種情況下，使用者通常完全控制鏡頭設計和使用者介面。

系統的像散在各視場有了幾個數量級的改善（如850 nm處由1.38個波縮小為0.0509個波）。而此系統的MTF表現也有明顯的提升（在 40 lp/mm時，平均視場為0.45），用戶可以看見清晰的像。這樣的結果使我們可以準確的接收用戶瞳孔的NIR反射，并據此來幫助在軟件中投射影像的優化。

在OpticStudio序列模式中，每個光學系統從物面 (OBJ) 開始，到像面 (IMA) 結束。除了物面和像面外，剩余表面中的一個表面必須定義為光闌 (STOP) 。通過在高亮單元格中鍵入所需的值，可以將數據輸入到鏡頭數據編輯器中。光標鍵或鼠標可以將高亮欄移動到所需的任何一欄。定義系統設置大多數情況下，系統孔徑是開始新設計時定義的第一個參數。

“圖像大小”選項確定了像面上的你需要仿真的區域大小; 你也可以把它看作是探測器的大小。這里，我們將限制光線的數量為10000，以加快計算速度。 IMAE 操作數 耦合效率僅2%左右，這一結果顯示在幾何圖像分析窗口下方的文本中。 我們將優化像面位置（接收光纖的位置）來提高耦合效率。在評價函數編輯器中的操作數IMAE會顯示圖表上的耦合效率。

蠅眼陣列是由許多單個光學元件組裝成單獨的二維陣列光學元件，它用于將像面上非均勻的空間光線分布轉換為均勻的輻照度分布。使用蠅眼陣列的數字投影系統通常與含有能夠提供半準直入射光的拋物面反射器的大燈組件一起使用。目前，它們主要應用于LCD數字投影機燈光引擎中，對空間光調制器照明平面進行均勻照明。

同時用過LS-prepost/ANSYS/ABAQUS的GUI經典頁面，對以下幾件事應該印象特別深刻：①ANSYS和ABAQUS里面都要先建立幾何模型，才能依附幾何模型生成網格，直接生成網格肯定行不通，但是LS-prepost可以直接生成網格，不需要依附任何幾何模型；②ANSYS的GUI頁面（像上個世紀殘留下來的）對于初學者特別不友好（點了上步不知道下步該點哪兒），ABAQUS這塊兒（幾何

從上面的布局圖(Layout)來看，當前選擇的像面并沒有處于“最佳焦點”。即使在優化之前，也可以使用OpticStudio中的工具來更好地定位當前像面的位置。該工具稱為快速聚焦(Quick Focus)。快速聚焦是OpticStudio的一個功能，它可以調整像面之前表面的厚度，以使RMS像差最小。

接著我們可以先觀察實體模型（shaded model，圖6），此時的結果并不正確，無法將入射光匯聚到指定的像面上。 圖5：使用切比雪夫多項式表面產生拋物面，我們需要設定C（2，0）和C（0，2）的系數。

像面污染可測量到達探測器的多余光線，這仍然相關并且保持在我們準備 OB 的初始步驟中定義的允許增量范圍內。

在 Ansys Mechanical 中實施模擬的溫度如下： 圖8：溫度定義 在結構分析中，裝配體需要保持固定。對于光學分析來說，使用弱彈簧將導致模擬不夠精確。因此，整個組件是通過 Remote Displacements 組合來固定的。傳感器平面的移動將受到限制，因為傳感器作為像平面并且 OpticStudio 中無法對像面施加變形效果。

像面污染當追跡光線在 OpticsBuilder 修改構型中通過意外路徑到達探測器時，它們會導致像面污染。意外路徑是指在 OpticsBuilder 基線構型光線追跡中不存在的任何路徑。在上面的圖片中，導致像面污染的光線標記為橙色。像面污染量可以忽略不計，因此結果窗口中的像面污染改變量為綠色復選標記。

使用附件中的樣本文件，近軸像面的全局Z坐標與視場0處的像面位置之差與場曲和畸變圖中的的Tan Shift相同。FCGS和FCGT的操作原理相同。 Ansys Zemax國內可靠代理商　　光研科技南京有限公司是國內可靠的光學軟件和儀器光電供應商，提供企業定制化上門培訓服務，承接各類光學設計項目，并有一系列自主編寫出版的光學設計書籍。

因此，即使光線能夠聚焦在正確的位置，像平面也會偏離光線。在這個階段，像平面在主反射鏡的頂部附近浮動，并與坐標系的全局光軸對齊。 圖 3.錯誤的像面位置 為了能夠定位到正確的位置，像平面需要使用坐標斷點來實現偏心。使用主光線來求解Y偏心測量值，而且像面與實際主光線對齊。現在，像平面已正確定位。